【課題】被洗浄物がたとえ複雑形状を有する場合であっても、被洗浄物表面上の汚染物質を十分に除去できる洗浄方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】純水にオゾンを溶解させたオゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得るための紫外線照射処理槽６、紫外線照射処理槽６内で得られた洗浄液を供給する管路１５および洗浄液を被洗浄物に接触させるための手段７を備え、オゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得た直後に、当該洗浄液を被洗浄物に接触させる。 （もっと読む）

【課題】環境汚染を引き起こすことなく、しかも細部まで確実に洗浄し得る洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】液体と窒素とを混合およびせん断して窒素マイクロバブル含有水を作製する第１気体せん断部２１と、窒素マイクロバブル含有水を更にせん断して窒素ナノバブル含有水を作製する第２気体せん断部２２と、窒素ナノバブル含有水に対して磁場をかける第１活性化手段２８と、磁場がかけられた後の窒素ナノバブル含有水を更にせん断する第３気体せん断部４と、第３気体せん断部によって更にせん断された窒素ナノバブル含有水が吐出される槽１と、を有する洗浄装置によって洗浄対象３を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】ガスタービンコンプレッサの洗浄又はすすぎ運転の後のパージ運転で、水をコンプレッサに到達させない。
【解決手段】流体ライン内に接続されたスプールを含むパージドレン弁は、流体の流れを制御する、制御弁及び制御弁に結合されたアクチュエータを備える。洗浄運転中は、流体が、スプールの供給端部と送出端部との間で流れ、パージ運転中は、制御弁が、供給端部に流入する流体を、送出端部にではなく、ドレンレッグに向かって流す。洗浄システムは、流体供給ラインと、送出ラインと、を備え、パージドレンは、送出ラインに接続され、洗浄運転中は、流体が洗浄装置に流れるようにし、パージ運転中は、流体が洗浄装置に流入することを防止する。すすぎサイクルセンサー装置が、オペレータに、洗浄される装置から排出される流体の導電率に基づいて、洗浄運転が完了したかどうかを知らせる。 （もっと読む）

【課題】基板を効率良く洗浄しながらも基板へのダメージを低減することができる二流体ノズルおよび該二流体ノズルを用いた基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル３０１において、液体吐出口３２７を環状で且つスリット状に開口させるとともに、液体吐出口３２７の開口面積を１．８ｍｍ^２以上かつ３６ｍｍ^２以下に設定している。このため、従来ノズルに比べて単位時間当たりの供給液滴数を増加させ、基板Ｗを実用的かつ効率的に洗浄することが可能となる。しかも、液体吐出口３２７のスリット幅を０．１ｍｍ以上かつ１．０ｍｍ以下の範囲に設定しているので、基板Ｗへのダメージ発生に寄与する比較的大きな粒径の液滴が生成されるのを抑制することができる。したがって、基板Ｗを効率良く洗浄しながらも基板Ｗへのダメージを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の両面を洗浄するに際して、加工時間を短くすることができるとともに、工程欠陥が少なく、有効に基板洗浄を行うことが可能な枚葉式洗浄装置を提供すること。
【解決手段】それぞれに注入口１１Ａ及び放出口１１Ｂを備えた複数の搬送通路１１が内部に形成された注入軸１０を固定台１７上に立設し、該注入軸１０の上部に前記放出口１１Ｂのそれぞれに連通する配置で下部ノズル１４を装備し、前記注入軸１０の外周側に、前記注入軸１０に対して回動自在にして、モーター２を有する中空軸３を配置し、少なくとも前記中空軸３の回転数を制御可能な制御手段７を前記中空軸３に連結し、前記中空軸３の上方に、基板を装着可能な基板チャック４を連結し、前記基板チャック４の上方に上部ノズル８を配置した、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】隣接する処理室への処理液（ミスト）の侵入をより確実に防止する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｓに薬液処理を施すウエット処理部２と、その前処理としてドライ洗浄等の処理を基板Ｓに施す前処理部１とを有する。各処理部１，２のチャンバ１０，２０は開口部１１ａを介して連通しており、この開口部１１ａは、前処理部１側に設けられるシャッタ装置１４と、ウエット処理部２側に設けられるシャッタ本体２５とにより開閉可能に設けられている。また、前処理部１のチャンバ１０内には、開口部１１ａの開放中、ウエット処理部２側に向かって開口部１１ａにエアを吐出するエアノズル１９ａ，１９ｂが配備されている。 （もっと読む）

【課題】 連通管または整流板等を供え、冷水を貯えておく蓄熱槽及び当該蓄熱槽に設備された冷却水循環配管に対し、仮設廃液槽および仮設槽を使用することなく、狭いスペースでも採用でき、且つ、費用のかからない冷却水循環配管の水洗方法を提供すること。
【解決手段】 蓄熱槽に共沈剤、中和剤及び凝集剤を注入し、前記蓄熱槽内の保有水を凝集沈殿処理し、前記凝集沈殿処理で得られる上澄水を蓄熱槽に設備された冷却水循環配管の押出し水洗水として利用することを特徴とする水洗方法 （もっと読む）

【課題】 携帯電話端末本体に付着した汚れを容易に且つ効率的に洗浄できメンテナンス性を向上させた携帯機器を提供する。
【解決手段】 防水機能と振動発生器６とを備えた携帯機器であって、通常振動パラメータと洗浄用振動パラメータとを記憶した記憶手段１１と、振動発生器の動作モードを通常使用モードあるいは洗浄モードのいずれかに設定する操作入力手段８と、洗浄モードが設定されると洗浄用振動パラメータに従って振動発生器を振動させ、通常使用モードが設定される通常振動パラメータに従って振動発生器を振動させる制御手段１０とを有する。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理液の洗浄処理槽内流れを上向きとし、下向きの流れを最小にすると共に、整流板及び拡散板の開口率と液流のバラツキの関係を明確にし、液流のバラツキをリアルタイムにモニターできる手段を具備した洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄処理装置は、上方向に流れる洗浄処理液を貯留する洗浄処理槽と、該洗浄処理槽内底部に洗浄処理液を流通させる小孔が面内に配列された整流板と、該洗浄処理液供給口の上方と該整流板の下方の位置に洗浄処理液を流通させる小孔が面内に配列された拡散板と、を備えている。さらに、本発明の洗浄処理装置は、洗浄処理槽内壁面に一本ないし複数本の細糸が固定されることにより、洗浄処理槽内壁面近傍の液流が可視化される整流モニター機構を有し、液流のバラツキをリアルタイムにモニターできる手段を設けている。 （もっと読む）

【課題】リップルのない高圧流水発生によってより均一で高度な洗浄要求に応えることが可能な水圧制御方法を提供すること。
【解決手段】昇圧ポンプＡ１と該昇圧ポンプＡ１を駆動するモータＡ２、及び出力水圧をモニタリングする水圧センサＡ４などで構成した高圧水発生機構を用いて、水を使用する洗浄装置などに利用する高水圧流水を発生させる方式に於いて、出力すべき設定圧力と出力水圧センサ値とを比較し、比較結果をローパス出力とハイパス出力に分別し、かつそれぞれの出力にゲインをかけ、両出力を駆動モータＡ２にフィードバックするとともに、前記ゲインをかけた出力で流量制御機構Ｄ１を動作させ流量制御機構Ｄ１から排水するダミー水流量を調整し、これにより希望する高水圧流水を自由に出力可能にするとともに、水の使用効率を最大限にすることを可能とした。 （もっと読む）

【課題】インクジェットノズルに詰まった異物を速やかに除去する。
【解決手段】インクジェットノズルにその内側から外側に向かって洗浄液を噴出させる順洗浄と、インクジェットノズルにその外側から内側に向かって洗浄液を吸引させる逆洗浄とを、正転と逆転との切り替えにより繰り返すポンプと、順洗浄の際に洗浄液をポンプに供給する順洗浄用洗浄液供給手段と、逆洗浄の際に洗浄液をインクジェットノズルの先端に供給する逆洗浄用洗浄液供給手段を繰り返すことにより、インクジェットノズルから異物を除去する。 （もっと読む）

水と物質が加えられた洗浄タンクを有する洗浄システムの運転パラメーターを定める方法。実施態様としては、方法がセンサーとコントローラー間の通信リンクの構築を含む。センサーは洗浄タンク内へ配置され、且つ物質濃度を示す信号を送信する。コントローラーは信号を受信する。更に、洗浄タンク内の水へ物質の添加、物質を加えている間の物質濃度の監視、及び物質濃度が予め決められた物質濃度へ達したことによる物質添加の停止を方法が含む。その後、予め決められた物質濃度へ達するために必要とされる物質量を示す運転パラメーターがコントローラーにて定められる。
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【課題】低コストで貯留槽内の処理液の温度を調整することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２３を通して簡易式熱交換器Ｓ２に導かれる。簡易式熱交換器Ｓ２により冷却された処理液は、配管２３，２５を通して処理液タンクＴＢに戻される。処理液の温度が予め定められた規定値Ｎ１以下になると、処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２１を通して処理液タンクＴＢに戻される。配管２１は処理液タンクＴＡ内を通過するので、配管２１を流れる処理液は、処理液タンクＴＡ内の処理液によって温調される。 （もっと読む）

【課題】処理液を用いた処理を、安定的に基板に施すことができる基板処理装置を提供すること、および、このような基板処理装置に適用可能な処理液成分補充方法を提供すること。
【解決手段】薬液キャビネット制御部７２は、処理ユニット４〜７の薬液バルブ３３の開時間を取得し、その薬液バルブ３３に関する累積開時間を算出するとともに、４つの処理ユニット４〜７の４つの薬液バルブ３３の累積開時間の合計を算出する。薬液バルブ３３の累積開時間の合計が予め定める時間に到達すると、成分補充ユニット３は予め定める量の第１成分、第２成分および第３成分を、それぞれ、薬液タンク４０に補充する。
【効果】薬液タンクに溜められている薬液の濃度をほぼ一定に保つことができる。 （もっと読む）

【課題】洗浄流体が満たされた洗浄槽に被洗浄物を設置して被洗浄物を洗浄する洗浄装置、洗浄槽および洗浄方法に関し、洗浄流体中の異物を排出し、洗浄流体の清浄度を維持して被洗浄物を洗浄槽より回収する際に異物の再付着を防止することを目的とする。
【解決手段】洗浄流体が満たされた洗浄槽１内に被洗浄物を設置し、洗浄流体により被洗浄物を洗浄して被洗浄物の表面の異物を除去する際に、洗浄槽１内の洗浄流体に対し所定の流れを形成する流れ制御手段５と、洗浄流体の所定の流れの流路上に配置され、かつ、洗浄流体を排出する排出手段３とを備え、排出手段３によって洗浄流体を洗浄槽外に排出するように構成される。 （もっと読む）

本発明は、電気化学的装置（１０）及び、その場で使用する塩素酸ナトリウム（ＮａＯＣｌ）（３４）または塩素酸（ＨＯＣｌ）等の洗浄剤、殺菌剤および抗菌剤を製造する方法に関する。本発明の製造方法は、海水、低純度非軟水またはＮａＣｌ系塩溶液（２６）からＮａＯＣｌを製造することに使用できる。ＨＯＣｌはＨＣｌ溶液と水から製造できる。ＮａＯＣｌ（３４）は、電解セル（１１）において、ＮＡＳＩＣＯＮ型材料を基にした膜であるナトリウムイオン伝導セラミック膜（１２）を使用して製造される。ＨＯＣｌは、電解セルにおいて、アニオン伝導膜を使用して製造される。洗浄剤、殺菌剤および抗菌剤は要求に応じて発生させ、一般家庭内、工業的および水処理などの応用分野において使用できる。
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【課題】 洗浄液を使って機械部品のグリース、オイル、汚れ、および他の異物を洗い落とすために使用する水系および溶剤系可動部品洗浄装置、より具体的には、洗浄液槽の交換および保守のために、筐体内へのアクセスが容易となるよう、中空筐体に枢着された可動シンクおよび可動ふたを備える部品洗浄装置を提供する。
【解決手段】 部品洗浄装置１００は、パネル５，６，７をシェル形に構成して成るサポートフレームを、洗浄液槽５０の周囲に備え、サポートフレームにはシンク２が枢着されている。シンク２と回動ふた１との間には、蒸気の放出を抑制する接合部分が備えられる。シンク２の下にポンプが枢着され、洗浄液槽５０の交換作業中、ポンプを引っ込められるよう構成されている。洗浄作業中の照明のために、ふた１の下側の作業区域６２付近には一体型ライト２２が配置され、最適な防火対策のために、熱可溶性の可溶性リンクを装備するラッチ機構が備えられる。 （もっと読む）

【課題】複雑な形状や細孔のある部品や、接着材のような洗浄が困難な汚れが付着している部品を洗浄する場合においても、少ない設置スペースで安全に被洗浄物を洗浄することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】この洗浄装置は、１つの洗浄槽と、被洗浄物を洗浄及び／又はリンスするために超音波を発生する超音波発生器と、準水系洗浄剤を一旦貯蔵する再生洗浄剤タンクと、準水系洗浄剤を洗浄槽から再生洗浄剤タンクに移動させる循環手段と、リンス液を８０℃以上の温度で貯蔵するリンス液貯湯タンクと、準水系洗浄剤が洗浄槽から再生洗浄剤タンクに移動した後に、リンス液貯湯タンク内に貯蔵されているリンス液を洗浄槽内に注入するリンス液注入調整手段と、リンス液を洗浄槽から一気に排出して被洗浄物の表面を乾燥状態に至らしめるリンス液排出調整手段と、循環手段等を制御する制御手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 使用する洗浄液の量が少なく、装置の小型化が可能であり、連続的に、均一かつ高効率に粒子の洗浄を行うことができる粒子の洗浄方法およびそれを用いる粒子洗浄装置を提供することである。
【解決手段】
分散液供給工程において粒子分散液を加圧して連続的に混合空間に供給し、洗浄液を加圧して連続的に混合空間に供給することにより粒子を洗浄するようにする。 （もっと読む）

【課題】水切り乾燥装置および方法において、溶剤槽の溶剤中に形成される気泡を抑制し、ワークの水切り、乾燥を良好に行うことができるようにする。
【解決手段】水の付着したワークＷの水切りおよびすすぎ乾燥を行う水切り乾燥装置１であって、ワークＷを浸漬する溶剤４ａ、１０ｂが貯留された水切り槽４、すすぎ乾燥槽１０と、水切り槽４、すすぎ乾燥槽１０に貯留された溶剤４ａ、１０ａに対して、ワークＷを出し入れする水切り部搬送機構４０Ａ、すすぎ乾燥部搬送機構４０Ｂと、これらの搬送速度を制御する速度制御部１００とを備え、速度制御部１００は、ワークＷが溶剤４ａ、１０ｂと接触している間、ワークＷの搬送速度の大きさを、５．５ｍｍ／ｓ以下に制御するようにした構成とする。 （もっと読む）