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Fターム[3B201CD42]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 補助処理 (2,748) | 検知、制御 (1,212) | 入力信号 (296)

Fターム[3B201CD42]に分類される特許

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【課題】洗浄効率の最適化を図る汚染部材の洗浄処理推定方法を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄処理推定方法は、汚れた部材を洗浄剤で洗浄する際に、第1回の部材洗浄を行う工程と、第1回の部材洗浄工程において、溶出した汚れの程度に対応して第2回以降の洗浄時間又は洗浄回数を推定する推定工程とを含むものであり、第1回の部材洗浄を行う工程において、その溶出量の軽重から洗浄処理を推定する。これにより汚れの程度に応じた適切な洗浄を行うことができ、洗浄の最適化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】温度測定手段が完全に破損する前に故障報知を行うことにより、温度測定手段の破損に起因する稼働率低下を防止することができる。
【解決手段】温度センサ41及び温度制御部43は、一般的に、故障の前にはある出力信号となる。しかも、故障モードによって出力信号が固有値を示すことが多い。そこで、故障モードごとに固有値を記憶部59に予め記憶させておき、温度センサ41及び温度制御部43からの出力信号が一時的であっても実質的にその固有値と一致した場合には、報知部61を介して故障報知を行う。完全に破損する前に故障報知を行うことで、完全に故障する前に修理準備を整えることができるので、温度センサ41及び温度制御部43の破損に起因する稼働率低下を防止できる。 (もっと読む)


【課題】基板の処理不良を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理部のスピンチャック21には、スピンベース22が回転可能に設けられている。スピンベース22上には、基板Wを保持するための複数の保持部23が設けられている。各保持部23は、保持部材52および支持ピン81を有する。基板Wに処理液(薬液)が供給される際には、基板Wが支持ピン81上に支持された状態でスピンベース22が約300rpmで回転される。基板Wにリンス液が供給される際には、基板Wが保持部材52により保持された状態でスピンベース22が約1000rpmで回転される。 (もっと読む)


結晶シリコン基板に表面凹凸を形成する方法が提供される。1つの実施形態では、前記方法は、結晶シリコン基板を供給する工程と、前記基板を、濡れ剤を含むアルカリ性溶液で濡らす工程と、そして約1μm〜約10μmの深さを有する構造を持つ凹凸形成表面を前記基板に形成する工程と、を含む。別の実施形態では、基板凹凸形成プロセスを実行する方法は、結晶シリコン基板を供給する工程と、前記基板をHF水溶液でプレクリーニングする工程と、前記基板を、ポリエチレングリコール(PEG)化合物を含むKOH水溶液で濡らす工程と、そして約3μm〜約8μmの深さを有する構造を持つ凹凸形成表面を前記基板に形成する工程と、を含む。
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【課題】洗浄品質の優れた被洗浄物の洗浄処理が得られると共に、装置コストおよび洗浄コストを低減した洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置100は、被洗浄物を洗浄処理する洗浄槽1、洗浄処理に使用された洗浄液Rを貯留するサブタンク2、洗浄槽1とサブタンク2とを連通する循環用回収管3および循環用供給管4、サブタンク2をオーバーフローする洗浄液Rを外部に移送する移送管7、洗浄槽1に供給装置101から洗浄液Rを供給する供給管5などを備えた同一構成の4つの洗浄ユニット10(10A〜10D)が、被洗浄物の移動方向(AからB方向)の下流側から上流側に向かって(CからD方向)並列配置されている。そして、サブタンク2内に配設されたオーバーフロー管6によってサブタンク2内に貯留された洗浄液Rの液面高さが調節されて、洗浄液Rが被洗浄物の移動方向の下流側から上流側(CからD方向)に向かって移送される。 (もっと読む)


【課題】一定の幅を有する無端状ベルトを、複数本同時に均一かつ強力に、すすぎ洗浄する洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】すすぎ液槽内に一定方向に流れるすすぎ液流を形成し、無端状ベルトを、その幅方向がすすぎ液流の流れ方向に沿うようにすすぎ液槽内に配置する。その結果、無端状ベルトと水との間に発生するせん断力により、無端状ベルトが、すすぎ洗浄される。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物の洗浄対象のエリアのみ洗浄することによって、被洗浄物を洗浄及び乾燥する際の該被洗浄物への異物の付着を抑制する洗浄装置、洗浄槽、洗浄方法、及び物品の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置内の洗浄槽2が備える超音波発生手段21が、供給口200から洗浄槽2に供給された洗浄流体に超音波を印加し、被洗浄物1の洗浄エリア11と対応する位置に開口部220を持つ流体噴出手段22が、上記超音波が印加された洗浄流体を上記開口部220から被洗浄物1の洗浄エリアに噴出させる。 (もっと読む)


【課題】設備を簡素化して洗浄水量を低減しながらも、粗大物等が混入した粉粒状の処理対象物から粗大物等を分離除去し、同時に粉粒体を分級して、水溶性成分や重金属等の障害物質を効率的に除去することができる湿式選別装置を提供する。
【解決手段】脈動発生装置30を備えたU字管形状の洗浄槽20と、開口部20aにフィーダ24から投入された粉粒状の処理対象物に含まれる粗大物を洗浄して、重量物を分離搬出する網目状の搬送面を備えたコンベア装置22と、上層の洗浄水を粗大物のうち軽量物とともに重量物の搬出方向と対向する方向に排水する溢流堰26と、洗浄槽20に沈降した処理対象物を槽外に搬出するバケット式のコンベア装置29を備え、処理対象物を、洗浄槽20内での沈降速度差によって微粒物と微粒物より粒径が大きい中粒物とに分離し、微粒物を上層の洗浄水とともに溢流堰26から搬出し、中粒物を洗浄槽20に沈降させる。 (もっと読む)


【課題】洗浄液に空気を混入させて微細気泡入りの洗浄液(泡洗剤)を吐出する泡洗剤吐出装置において、微細気泡を安定して発生させることができる泡洗剤吐出装置を提供する。
【解決手段】洗浄液Lを溜めるための洗剤タンク1と、洗剤タンク1から洗浄液Lを吐出ノズル20へ搬送するための剤供給路3と、剤供給路3の途中に設けられて洗浄液L内に空気を混入させるためのエゼクター4と、エゼクター4の下流側に設けられたポンプ5と、を備えた泡洗剤吐出装置であって、剤供給路3のポンプ5と吐出ノズル20の間の分岐部30から分岐路6を分岐させると共に、分岐路6の下流側端部を剤供給路3のエゼクター4の上流側に接続した。 (もっと読む)


【課題】簡易かつ安価な構成であるにも拘わらず、高圧の洗浄液を洗浄対象に噴射できるようにして洗浄能力を高めた洗浄装置またはこのような洗浄装置を搭載した検出装置を提供する。
【解決手段】タンク1内に気体を流入させ、その後に洗浄液をタンク1内に流入させて洗浄液の体積増加によりタンク1内で気体を圧縮することで、タンク1内に圧縮された気体の圧力で洗浄液を流路部4内へ流入させて、洗浄ノズル5から洗浄液を高圧で噴出させるような洗浄装置10とした。また、このような洗浄装置10を搭載して常に安定した検出を行うことができる検出装置100とした。 (もっと読む)


【課題】洗浄排液を安価な汎用の配管で排出して移送することができ、また、洗浄液の加温エネルギーの低減を図ることもできる熱回収型洗浄装置を提供する。
【解決手段】被洗浄物を高温の洗浄液で洗浄する洗浄機1と、該洗浄機1に洗浄液を供給する手段と、該洗浄機1から洗浄排液を排出する手段とを有する洗浄装置において、該洗浄機1から排出される高温の洗浄排液と該洗浄機1に供給される洗浄液とを熱交換して該洗浄排液を冷却する熱交換器4を設けたことを特徴とする熱回収型洗浄装置。 (もっと読む)


【課題】ダイシングフレームwに付着した糊剤などの汚染物質を、溶剤を使用することなく、高品質且つ能率的にダイシングフレームwから分離させる。
【解決手段】メラミンスポンジ材からなるロール体11aをこれの周面の中心線(中心軸12)回りへ回転させ、該回転中にダイシングフレームwの被洗浄面に注水しながら該ロール体11aの周面をダイシングフレームwの上下面である被処理面に押し当てるように実施するものである。 (もっと読む)


【課題】混合槽で生成される処理液の混合比率を一定に保つ。
【解決手段】まず排出弁23,24,25を開弁し、供給弁26〜31を閉弁して、原料液体A,B,Cを排出弁23,24,25から外部に排出する。その後、LFC20,21,22が検出する原料液体A,B,Cの流量が全て所定の流量に達した後に、排出弁23,24,25を閉弁し、供給弁17,29,31を開弁して、供給弁17,29,31を通して原料液体A,B,Cを第2の混合槽3に供給する。 (もっと読む)


【課題】それぞれ固有の共振点を有する共振回路により、簡易な構成で被加熱物を誘導加熱することができる誘導加熱装置を提供する。
【解決手段】被加熱物に対向して設けられた加熱コイルLA、LB、LCを含む共振回路を複数回路具備し、各共振回路がそれぞれ固有の共振点を有する装置であって、すべての共振点を含む周波数範囲の信号を掃引発振する掃引発振回路31と、所要の共振特性に応じた周波数の信号を掃引発振回路31から各共振回路に供給させる制御回路34とを有し、いずれかの共振点で被加熱物を誘導加熱する。 (もっと読む)


【課題】処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】
制御装置は、第1サンプリング窓および第2サンプリング窓の開閉状態に応じて、第1〜第4設定圧力検出信号のうち1つの設定圧力検出信号を選択する(ステップS1)。制御装置は、選択された設定圧力検出信号が圧力センサから出力されるか否かを監視している(ステップS2)。選択された設定圧力検出信号が圧力センサから出力されると(ステップS2でYES)、制御装置は薬液キャビネット内に圧力異常が発生したと判定し(ステップS4)、警報器から所定の警報音または警報表示を出力させる(ステップS5)。 (もっと読む)


【課題】廃液処理の問題がなく設備費などを抑えながら、清浄効率や効果に優れた表面清浄化方法及び装置を提供する。
【解決手段】水中燃焼による表面清浄化方法であり、被洗浄物を保持しかつ被洗浄物表面を冠水ないしは水中に浸すとともに、燃焼炎を被洗浄物表面に該表面上の水を排除しながら照射し、該燃焼炎及び該燃焼炎にて発生する活性種に被洗浄物表面を曝すことにより該被洗浄物表面の汚染物を除去するようにした。また、前記燃焼炎は、保炎器を介して前記被洗浄物側へ照射されるとともに、前記被洗浄物が所定温度となるよう制御されることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】処理液バルブのリーク故障や吸引手段の故障を検出して、基板処理不良を抑制する。
【解決手段】この基板処理装置は、基板Wに処理液を吐出するノズル12と、ノズル12に接続された処理液供給管25と、処理液供給管25に介装された第1および第2処理液バルブ28A,28Bとを備えている。第1処理液バルブ28Aとノズル12との間に設定された分岐位置36には、処理液吸引管32が処理液供給管25に分岐接続されている。処理液吸引管32には吸引装置34が接続されており、その途中部には吸引バルブ33が介装されている。処理液供給管25は、分岐位置36とノズル12との間において、鉛直方向に沿う液面検出部40を有している。この液面検出部40に設定された液面検出位置42には、液面センサ41が配置されている。 (もっと読む)


【課題】処理液供給ユニット13内の処理液の減少に起因する基板処理装置の強制停止の頻度を減少させて、処理液を有効に使い、歩留まりの良好な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に液処理を施す複数の液処理ユニット12と、複数の液処理ユニット12に対する基板の搬入・搬出を行う基板搬送手段と、複数の液処理ユニット12へ処理液を供給する処理液供給ユニット13と、前記処理液供給ユニット13の処理液貯留槽16内の処理液の残量を検出するレベルゲージ161を備えて、レベルゲージ161が検出する処理液貯留槽16内の処理液の残量が所定量を下回る場合に、液処理ユニット12への基板の搬入を停止する。 (もっと読む)


【課題】 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法において、各ガラス基板の洗浄状態のバラツキをなくし、ガラス基板が次工程に持ち込む塵埃の数を一定にすることにより、常に安定した品質を保つことを目的とする。
【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、ガラス基板150の研磨工程と、複数の洗浄槽内に少なくとも成分の異なる2種類以上の洗浄液112を洗浄槽114ごとに洗浄液112の種類を分けて供給しながら洗浄液112にガラス基板150を浸漬してタクト方式による洗浄を行う洗浄工程とを含み、洗浄工程において、洗浄液112に含まれる塵埃の数を計数し、計数した塵埃の数に応じてタクト時間内に塵埃の数が所定値以下となるよう洗浄液112の供給量を制御することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】連続的に搬入されてくる被洗浄物を洗浄でき、且つ洗浄液の漏洩を充分に防止できるインライン洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数個の洗浄槽10,20,30の各々において、連続的に搬入されてくる被洗浄物Aの挿入、減圧下での洗浄、蒸気洗浄、真空乾燥及び取出の各工程が重複することなく順次進行するように、前記挿入・取出手段、減圧手段、給液手段、洗浄手段、蒸気洗浄手段及び真空乾燥手段を制御する制御部55が設けられており、且つ洗浄槽10,20,30の各々に洗浄液を給液する給液タンク70と、減圧手段によって吸引された洗浄槽10,20,30の各槽内の洗浄液蒸気を含有するガスが導入され、凝縮器で凝縮された洗浄液を給液タンク70に回収する蒸留器80とを具備する。 (もっと読む)


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