基板処理装置
【課題】処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】
制御装置は、第１サンプリング窓および第２サンプリング窓の開閉状態に応じて、第１〜第４設定圧力検出信号のうち１つの設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１）。制御装置は、選択された設定圧力検出信号が圧力センサから出力されるか否かを監視している（ステップＳ２）。選択された設定圧力検出信号が圧力センサから出力されると（ステップＳ２でＹＥＳ）、制御装置は薬液キャビネット内に圧力異常が発生したと判定し（ステップＳ４）、警報器から所定の警報音または警報表示を出力させる（ステップＳ５）。
【解決手段】
制御装置は、第１サンプリング窓および第２サンプリング窓の開閉状態に応じて、第１〜第４設定圧力検出信号のうち１つの設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１）。制御装置は、選択された設定圧力検出信号が圧力センサから出力されるか否かを監視している（ステップＳ２）。選択された設定圧力検出信号が圧力センサから出力されると（ステップＳ２でＹＥＳ）、制御装置は薬液キャビネット内に圧力異常が発生したと判定し（ステップＳ４）、警報器から所定の警報音または警報表示を出力させる（ステップＳ５）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、その内部で処理流体が取り扱われる処理流体室を有し、基板を処理するための基板処理装置に関する。処理の対象となる基板には、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、ＦＥＤ（Filed Emission Display）用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置の製造工程では、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板等を、処理液によって処理する基板処理装置が用いられる。このような基板処理装置は、基板に薬液や純水からなる処理液を供給して、基板の表面に処理を施すための処理室を有している。処理室には、薬液キャビネットが接続されている。薬液キャビネット内には、処理室内で基板に供給される薬液を溜めておくための薬液タンクが収容されている（たとえば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００６−３５１７０９号公報
【０００３】
このような薬液キャビネットは一般的に、薬液タンクに溜められている薬液を採取するためのサンプリング窓を有している。サンプリング窓には、そのサンプリング窓を開閉する開閉扉が取り付けられている。薬液の採取は、たとえば、薬液タンク内の薬液濃度を調べる際に必要となる。薬液キャビネットに薬液タンク内の薬液濃度を表示する濃度計が備えられている場合であっても、たとえば、濃度計の信頼性を確認する目的で、薬液タンク内の薬液を採取してその濃度の計測が必要となることがある。
【０００４】
薬液キャビネットでは、薬液成分を含む雰囲気が薬液キャビネットの外部に漏洩しないように、内部の雰囲気を排気し、薬液キャビネット内を薬液キャビネットの外部の雰囲気圧力よりも低い圧力（負圧）にしている。そして、薬液キャビネット内に配設された圧力センサによって薬液キャビネット内の圧力が検出されている。
この圧力センサには、たとえば接点付き圧力計が用いられている。接点付き圧力計は、マイクロスイッチを内蔵しており、予め設定した圧力に達したときにマイクロスイッチが作動して警報信号を出力する。この警報信号を利用して、薬液キャビネット内における圧力異常が検出される。薬液キャビネット内の圧力の検出には、従来から、一つの圧力のみの設定が可能な１接点型の圧力計が適用されてきた。これは、上限圧力で警報信号を出力できれば充分であり、下限圧力での警報出力を併せて行える２接点型圧力計を適用する利益がないと考えられていたからである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
薬液キャビネット内の圧力は、サンプリング窓が開状態か閉状態かで大きく異なる。すなわち、サンプリング窓が閉状態であれば、薬液キャビネット内を充分に排気でき、その内部の圧力を充分な負圧に維持できる。これに対して、薬液キャビネットが開状態のときには、サンプリング窓から周囲の雰囲気が流入するので、それに応じて薬液キャビネット内の圧力が高くなる。むろん、サンプリング窓を開いたときでも、薬液キャビネット内を負圧に維持できるように排気設計が行われていることは言うまでもない。
【０００６】
一方、１接点型圧力計で構成される圧力センサによって検出すべき上限圧力は、サンプリング窓が開状態のときの薬液キャビネット内気圧を基準に設定されている。これは、サンプリング窓の閉状態を基準に上限圧力設定を行うと、サンプリング窓の開成時に圧力異常が検出されるおそれがあるからである。
しかし、サンプリング窓の開状態を基準とした上限圧力は、サンプリング窓の閉状態の圧力異常を検出するには高すぎるおそれがある。そのため、サンプリング窓が閉じられた状態で排気異常が発生した場合に、圧力異常を検出することができないおそれがある。そのため、薬液キャビネット内の圧力異常の発生を、精度良く検出することができなかった。
【０００７】
基板に処理液が供給されて内部で基板を処理する処理室についても同様の課題がある。すなわち、外部に薬液成分を含む雰囲気が漏洩することがないように、処理室内の排気が行われるようになっている。処理室には、基板の搬入および搬出のための開口が形成されている。この開口は、シャッタで開閉できるようになっている。シャッタは、基板の搬入および搬出時には開かれ、その他の期間には閉成状態に保持される。処理室内の雰囲気の漏洩を防ぐために、処理室内の圧力を検出する圧力センサが備えられている。この圧力センサには、１接点型圧力計が適用される。そして、圧力センサから出力される警報信号に基づいて、処理室内の圧力異常を検出するようになっている。シャッタの開閉により、処理室内の圧力が大きく変動するので、圧力センサによって検出すべき上限圧力は、シャッタの開状態に対応する大きな値にせざるを得ない。そのため、シャッタ閉成時の圧力異常検出精度が犠牲になっている。
【０００８】
そこで、この発明の目的は、処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、開口（１８，１９；６７）を有し、内部で処理流体が取り扱われる処理流体室（４；３）と、前記処理流体室を負圧にするために、前記処理流体室内の雰囲気を排気する排気手段（２３；７１）と、前記処理流体室内の圧力を検出する圧力検出手段（２５；４１，４２，４３，４４；５１；７０）と、前記開口を開閉するための開閉手段（２０，２１；６８）と、前記開閉手段による前記開口の開閉状態を検出する開閉状態検出手段（３５，３６；６９）と、この開閉状態検出手段による検出結果に応じて、前記圧力検出手段の出力に基づいて前記処理流体室内の圧力異常を判定するための判定基準を可変設定し、その設定された判定基準に基づいて圧力異常を判定する圧力異常判定手段（３０）とを含む、基板処理装置である。
【００１０】
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この発明によれば、圧力異常を判定するための判定基準が、開口の開閉状態に応じて変更される。したがって、開口の開閉状態に対応する処理流体室内の圧力を基準として判定基準を設定することにより、開口の開閉状態によらずに処理流体室内の圧力異常を検出することができる。これにより、処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００１１】
ここで、「負圧」とは、処理流体室の周囲の雰囲気圧力よりも低い圧力のことをいう。処理流体室内が負圧に維持されることによって、処理流体室内の雰囲気（処理流体を含む雰囲気）が処理流体室外に流出することを防止できる。
請求項２記載の発明は、前記圧力検出手段は、複数の異なる設定圧力を検出したときにそれぞれ設定圧力検出信号を出力するものであり、前記圧力異常判定手段は、前記開閉状態検出手段による検出結果に応じて、前記複数の異なる設定圧力のいずれかに対応する設定圧力検出信号を選択する信号選択手段（３０）を含み、この選択手段によって選択された設定圧力検出信号が出力されると、圧力異常が発生したと判定するものである、請求項１記載の基板処理装置である。
【００１２】
この発明によれば、複数の異なる設定圧力に対応する設定圧力検出信号が、開口の開閉状態に応じて選択される。そして、選択手段によって選択された設定圧力検出信号が圧力検出手段から出力されると、圧力異常が発生したと判定される。したがって、開口の開閉状態に対応する処理流体室内の圧力を基準として、設定圧力検出信号を選択することにより、開口の開閉状態にかかわらず処理流体室内の圧力異常を検出することができる。これにより、処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００１３】
前記圧力検出手段は、複数の異なる設定圧力を検出したときにそれぞれ設定圧力検出信号を出力する１つの圧力センサを用いて構成してもよい。より具体的には、たとえば、異なる設定圧力で信号出力が可能な２接点型の圧力センサを用いてもよい。
また、前記圧力検出手段は、複数の異なる設定圧力を検出したときにそれぞれ設定圧力検出信号を出力する複数の圧力センサを用いて構成することもできる。より具体的には、たとえば、１接点型の圧力センサを複数個用い、各圧力センサが異なる設定圧力で信号出力をするようにしておけばよい。
【００１４】
請求項３記載の発明は、前記圧力検出手段は、前記処理流体室内の圧力に対して連続的に変化する出力信号を出力するものであり、前記圧力異常判定手段は、前記開閉状態検出手段による検出結果に応じて異なる判定閾値を設定する閾値設定手段（５２）を含み、前記圧力検出手段の出力信号と前記閾値設定手段によって設定される判定閾値との比較結果に基づいて、圧力異常を判定するものである、請求項１記載の基板処理装置である。
【００１５】
この発明によれば、開口の開閉状態に応じた判定閾値に基づいて、処理流体室内の圧力異常が判定される。したがって、開口の開閉状態に対応する処理流体室内の圧力を基準として判定閾値を設定することにより、開口の開閉状態にかかわらず処理流体室内の圧力異常を検出することができる。これにより、処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００１６】
なお、開閉状態検出手段は、請求項４に記載のように、前記開口が前記開閉手段によって閉じられた閉状態か、前記開口が開閉手段によって閉じられていない開状態かを検出するための開閉検出手段（３５，３６；６９）を含むことが好ましい。
この場合、開口が開状態にあるときには、開口が閉状態のときよりも判定基準となる圧力値を大きくすることで、開口の開閉状態に伴う処理流体室内の圧力変化の影響を排除することができる。
【００１７】
また、開閉状態検出手段は、開口の開度（開閉の度合い）を検出するものであってもよい。
さらに、処理流体室に複数の開口が形成されている場合には、開閉状態検出手段は、前記複数の開口がそれぞれ開状態か閉状態かを検出する複数の開閉検出手段を含むものであってもよい。たとえば、複数の開口の大きさ（開口面積）が等しい場合には、開閉状態検出手段は、開状態にある開口の個数を検出するようにしてもよい。また、複数の開口の大きさが互いに異なる場合には、開閉状態検出手段は、各開口の開閉状態を区別して検出するものであることが好ましい。
【００１８】
また、開閉状態検出手段は、開閉手段の動作や位置を検出するセンサを含むものであってもよいし、たとえば、処理流体室内の圧力の急変（急減または急増）に基づいて開口の開閉を判定する手段を含むものであってもよい。
請求項５に記載のように、前記基板処理装置は、基板に処理流体を供給して基板を処理するための処理室（３）と、この処理室に処理流体を供給するための処理流体供給機構（１０）を収容した処理流体キャビネット（４）とを含む場合に、前記処理流体室が、前記処理流体キャビネットを含んでいてもよい。この場合、処理流体キャビネット内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００１９】
また、請求項６に記載のように、前記処理流体室が、基板に処理流体を供給して基板を処理するための処理室（３）を含むものであってもよい。この場合、処理室内の圧力異常を精度良く検出することができる。
さらに、前記圧力異常判定手段によって圧力異常が発生したと判定されたときに、警報を発生する警報発生手段（３７）をさらに含んでいてもよい。
【００２０】
この場合、処理流体室における圧力異常の発生を、オペレータに報らせることができる。これにより、処理流体室内の圧力異常の解消を促すことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態（第１の実施形態）に係る基板処理装置１のレイアウトを示す図解的な平面図である。基板処理装置１は、基板の一例としての半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」という。）Ｗの表面に処理流体としての薬液による処理を１枚ずつ施す枚葉式の装置であり、処理部ＰＣと、処理部ＰＣに結合されたインデクサ部ＩＮＤとを備えている。
【００２２】
処理部ＰＣには、搬送路ＴＰと、搬送路ＴＰの両側に、この搬送路ＴＰに沿って並べて形成された複数（この実施形態では、４つ）の処理室３と、同数の薬液キャビネット４とが配置されている。薬液キャビネット４は、各処理室３に隣接して配置されている。
搬送路ＴＰには、搬送ロボットＴＲが配置されている。この搬送ロボットＴＲは、処理室３に対してハンドをアクセスさせることでウエハＷを搬入および搬出することができる。
【００２３】
インデクサ部ＩＮＤの処理部ＰＣと反対側には、複数のカセットＣが並べて配置されるカセット載置部ＣＳが設けられている。カセットＣは、複数枚のウエハＷを多段に積層した状態で収容することができる。
インデクサ部ＩＮＤには、インデクサロボットＩＲが配置されている。このインデクサロボットＩＲは、カセット載置部ＣＳに配置された各カセットＣにハンドをアクセスさせて、カセットＣからウエハＷを取り出したり、カセットＣにウエハＷを収納したりすることができる。また、インデクサロボットＩＲは、搬送ロボットＴＲとの間でウエハＷの受け渡しを行うことができる。
【００２４】
各処理室３内には、後述するように、ウエハＷをほぼ水平に保持して、回転させるスピンチャック５（図１１参照）と、スピンチャック５に保持されたウエハＷの表面に対して薬液を供給するための薬液ノズル６（図１１参照）とが収容されている。
図２は、薬液キャビネット４の構成を示す図解的な断面図である。薬液キャビネット４は、その内部空間が、上壁７、下壁８および側壁９によって取り囲まれている。薬液キャビネット４には、処理室３の薬液ノズル６に供給すべき薬液を溜めておくための処理流体供給機構としての薬液タンク１０が収容されている。薬液タンク１０を収容しているために、薬液キャビネット４内の雰囲気は薬液成分を含む。
【００２５】
薬液タンク１０には、薬液供給管１１の一端が接続されている。薬液供給管１１の他端は、薬液ノズル６に接続されている。薬液供給管１１の途中部には、薬液タンク１０に溜められた薬液を汲み上げるためのポンプ１２と、薬液供給管１１の開閉を切り換えるための薬液バルブ１３とが、薬液タンク１０側からこの順で介装されている。
また、薬液タンク１０の底部には、薬液採取管１４の一端が接続されている。薬液採取管１４の他端には、薬液採取ノズル１５が接続されている。薬液採取管１４の途中部には、薬液採取バルブ１６が介装されている。
【００２６】
薬液キャビネット４の側壁９には、薬液タンク１０に溜められている薬液を採取する際に、薬液キャビネット４内にオペレータが手を差し入れるための第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９（図２では図示を省略。図３参照）が開口されている。
第１および第２サンプリング窓１８，１９の開口面積は等しくてもよいが、この実施形態では、第１サンプリング窓１８は、第２サンプリング窓１９よりも、その開口面積が大きくされている。第１サンプリング窓１８は、片開き可能に取り付けられた開閉手段としての第１開閉扉２０により開閉されている。第１サンプリング窓１８に関連して、第１サンプリング窓１８が第１開閉扉２０によって閉じられた閉状態か、第１サンプリング窓１８が第１開閉扉２０によって閉じられていない開状態かを検出するための開閉検出手段としての第１開閉センサ３５が取り付けられている。また、第２サンプリング窓１９は、片開き可能に取り付けられた開閉手段としての第２開閉扉２１（図２では図示を省略。図３参照）により開閉されている。第２サンプリング窓１９に関連して、第２サンプリング窓１９が第２開閉扉２１によって閉じられた閉状態か、第２サンプリング窓１９が第２開閉扉２１によって閉じられていない開状態かを検出するための開閉検出手段としての第２開閉センサ３６（図２では図示を省略。図３参照）が取り付けられている。
【００２７】
薬液キャビネット４内には、薬液の採取のために用いられる薬液採取台２２が収容されている。オペレータは、第１開閉扉２０を開いて第１サンプリング窓１８を開状態にしておき、薬液採取台２２上に載置した容器に薬液採取ノズル１５の先端を向けて、薬液採取バルブ１６を開く。これにより、薬液タンク１０に溜められている薬液を容器に採取することができる。
【００２８】
また、薬液キャビネット４内には、薬液キャビネット４内の薬液成分を含む雰囲気を排気するための排気手段としての排気ダクト２３が接続されている。この排気ダクト２３は、工場内の排気設備に接続されている。この工場内の排気設備は常時稼動しており、排気ダクト２３からの排気も常時行われている。
側壁９には、薬液キャビネット４の外部の清浄な空間からクリーンエアを取り込むための吸気口２４が形成されている。薬液成分を含む雰囲気が排気ダクト２３から排気されて、薬液キャビネット４内の圧力が、薬液キャビネット４の周囲の雰囲気圧力よりも低くなる。このため、クリーンエアが吸気口２４から取り込まれる。薬液キャビネット４内がクリーンエアで置換される。これにより、薬液成分を含む雰囲気の薬液キャビネット４の外部への漏洩が防止されている。
【００２９】
薬液キャビネット４内には、薬液キャビネット４内の圧力を検出するための圧力検出手段としての圧力センサ２５が配設されている。
以下の説明では、圧力センサ２５として、たとえば４接点型圧力センサを用いる構成を例にとって説明する。
この圧力センサ２５は、４つの接点（第１接点，第２接点，第３接点，第４接点）を有しており、各接点に個別の圧力を設定できる構成になっている。第１接点には、第１設定圧力（たとえば、−１００Ｐａ）が設定されている。第２接点には、第２設定圧力（たとえば、−７０Ｐａ）が設定されている。第３接点には、第３設定圧力（たとえば、−５０Ｐａ）が設定されている。第４接点には、第４設定圧力（たとえば、−３５Ｐａ）が設定されている。
【００３０】
圧力センサ２５の測定圧力が第１接点に達すると、圧力センサ２５から第１設定圧力検出信号が出力される。圧力センサ２５の測定圧力が第２接点に達すると、圧力センサ２５から第２設定圧力検出信号が出力される。圧力センサ２５の測定圧力が第３接点に達すると、圧力センサ２５から第３設定圧力検出信号が出力される。圧力センサ２５の測定圧力が第４接点に達すると、圧力センサ２５から第４設定圧力検出信号が出力される。
【００３１】
図３は、薬液キャビネットの構成を模式的に示す平面図である。
薬液キャビネット４内の圧力は、第１サンプリング窓１８の開閉および第２サンプリング窓１９の開閉により変化する。具体的には、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が閉状態にあるとき（図３（ａ）参照）、薬液キャビネット４内の圧力は、−１２０Ｐａ程度と比較的低くなる。そして、第１サンプリング窓１８が閉状態にあり、第２サンプリング窓１９が開状態にあるとき（図３（ｂ）参照）、薬液キャビネット４内の圧力は、−９０Ｐａ程度となる。第１サンプリング窓１８が開状態にあり、第２サンプリング窓１９が閉状態にあるとき（図３（ｃ）参照）には、薬液キャビネット４内の圧力は、−７０Ｐａ程度となる。さらに、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が開状態にあるとき、薬液キャビネット内の圧力は、−５０Ｐａ程度となる。
【００３２】
図４は、基板処理装置１の電気的構成を示すブロック図である。
基板処理装置１は、マイクロコンピュータを含む構成の制御装置３０を備えている。制御装置３０には、薬液バルブ１３が接続されている。
また、制御装置３０には、圧力センサ２５から出力される第１〜第４設定圧力検出信号、第１開閉センサ３５から出力される検出信号、および第２開閉センサ３６から出力される検出信号が入力されるようになっている。
【００３３】
さらに、制御装置３０には、警報発生手段としての警報器３７が接続されている。この警報器３７からは、所定の警報音または警報表示を出力することができるようになっている。
図５は、圧力異常検出動作を示すフローチャートである。
制御装置３０は、第１開閉センサ３５から出力される検出信号、および第２開閉センサ３６から出力される検出信号を監視している。制御装置３０は、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉状態に応じて、第１〜第４設定圧力検出信号のうち１つの設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１）。
【００３４】
制御装置３０は、選択された設定圧力検出信号が圧力センサ２５から出力されるか否かを監視している（ステップＳ２）。選択された設定圧力検出信号が圧力センサ２５から出力されると（ステップＳ２でＹＥＳ）、制御装置３０は薬液キャビネット４内に圧力異常が発生したと判定し（ステップＳ４）、警報器３７から所定の警報音または警報表示を出力させる（ステップＳ５）。
【００３５】
図６は、ステップＳ１における設定圧力検出信号の選択動作を示すフロートチャートである。
制御装置３０は、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が閉状態にあるとき（ステップＳ１２でＹＥＳ、ステップＳ１３でＹＥＳ。図３（ａ）参照）、第１設定圧力（−１００Ｐａ）に対応する第１設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１４）。第１サンプリング窓１８が閉状態にあり、第２サンプリング窓１９が開状態にあるとき（ステップＳ１２でＹＥＳ、ステップＳ１３でＮＯ。図３（ｂ）参照）、制御装置３０は第２設定圧力（−７０Ｐａ）に対応する第２設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１５）。第１サンプリング窓１８が開状態にあり、第２サンプリング窓１９が閉状態にあるとき（ステップＳ１２でＮＯ、ステップＳ１６でＹＥＳ。図３（ｃ）参照）、制御装置３０は第３設定圧力（−５０Ｐａ）に対応する第３設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１７）。また、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が開状態にあるとき（ステップＳ１２でＮＯ、ステップＳ１６でＮＯ。図３（ｄ）参照）、制御装置３０は第４設定圧力（−３５Ｐａ）に対応する第４設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１８）。
【００３６】
以上により、この実施形態によれば、第１〜第４設定圧力に対応する第１〜第４設定圧力検出信号が、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉に応じて選択される。そして、選択された設定圧力検出信号が圧力センサ２５から出力されると、圧力異常が発生したと判定される。したがって、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉に対応する薬液キャビネット４内の圧力を基準として、設定圧力検出信号を選択することにより、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉にかかわらず薬液キャビネット４内の圧力異常を検出することができる。これにより、薬液キャビネット４内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００３７】
図７は、この発明の他の実施形態（第２の実施形態）に係る基板処理装置４０の電気的構成を示すブロック図である。この実施形態において、前述の図１〜図６の実施形態（第１の実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図６の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
この実施形態に係る基板処理装置４０では、圧力検出手段として、４接点型の圧力センサ２５に代えて４つの１接点型の圧力センサ４１，４２，４３，４が用いられている。具体的には、薬液キャビネット４内には、第１圧力センサ４１、第２圧力センサ４２、第３圧力センサ４３および第４圧力センサ４４が配設されている。
【００３８】
各圧力センサ４１〜４４は、１つの接点を有しており、その接点に所定の圧力を設定できるようになっている。第１圧力センサ４１の接点には、第１設定圧力（たとえば、−１００Ｐａ）が設定されている。第２圧力センサ４２の接点には、第２設定圧力（たとえば、−７０Ｐａ）が設定されている。第３圧力センサ４３の接点には、第３設定圧力（たとえば、−５０Ｐａ）が設定されている。第４圧力センサ４４の接点には、第４設定圧力（たとえば、−３５Ｐａ）が設定されている。
【００３９】
第１圧力センサ４１の測定圧力が第１接点に達すると、第１圧力センサ４１から第１設定圧力検出信号が出力される。第２圧力センサ４２の測定圧力が第２接点に達すると、第２圧力センサ４２から第２設定圧力検出信号が出力される。第３圧力センサ４３の測定圧力が第３接点に達すると、第３圧力センサ４３から第３設定圧力検出信号が出力される。第４圧力センサ４４の測定圧力が第４接点に達すると、第４圧力センサ４４から第４設定圧力検出信号が出力される。第１〜第４圧力センサ４１〜４４からそれぞれ出力される設定圧力検出信号は、制御装置３０に入力される。
【００４０】
図５のステップＳ１と同様に、制御装置３０は、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉状態に応じて、第１〜第４設定圧力検出信号のうち１つの設定圧力検出信号を選択する。
そして、選択された設定圧力検出信号が第１〜第４圧力センサ４１〜４４から出力されると、制御装置３０は、図５のステップＳ４，Ｓ５と同様、薬液キャビネット４内に圧力異常が発生したと判定し、警報器３７から警報音または警報表示を出力させる。
【００４１】
図８は、この発明のさらに他の実施形態（第３の実施形態）に係る基板処理装置５０の電気的構成を示すブロック図である。この第３の実施形態において、前述の図１〜図６の実施形態（第１の実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図６の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
この実施形態では、接点付き圧力計からなる圧力センサ２５に代えて、計測圧力に対して連続的に変化する出力信号を出力する圧力計測センサ５１が用いられている。圧力計測センサ５１は、たとえば電子式（シリコンダイヤフラム式）のものである。制御装置３０には、この圧力計測センサ５１から出力信号が入力されるようになっている。
【００４２】
制御装置３０には、薬液キャビネット４内の圧力異常のための判定上限値が設定された閾値設定手段としての判定上限値設定部５２が設けられている。この判定上限値設定部５２には、後述するように、第１開閉センサ３５および第２開閉センサ３６による検出結果に応じて、異なる判定上限値が設定される。
図９は、圧力異常検出動作を示すフローチャートである。
【００４３】
制御装置３０は、圧力計測センサ５１から出力される出力信号を監視している。所定の制御周期毎に、制御装置３０は圧力計測センサ５１からの出力信号をチェックする（ステップＳ２１）。また、制御装置３０は、第１開閉センサ３５および第２開閉センサ３６の検出出力に基づいて、判定上限値設定部５２に判定上限値を設定する（ステップＳ２２）。
【００４４】
圧力計測センサ５１からの出力信号に対応する圧力値が、判定上限値設定部５２に設定された判定上限値以上であるときには（ステップＳ２３でＹＥＳ）、制御装置３０は薬液キャビネット４内に圧力異常が発生したと判定し（ステップＳ２４）、警報器３７から警報音または警報表示を出力させる（ステップＳ２５）。
圧力計測センサ５１からの出力信号に対応する圧力値が、判定上限値設定部５２に設定された判定上限値未満であるときには、薬液キャビネット４内に圧力異常は生じていないとして、制御装置３０は、再び、圧力計測センサ５１からの出力信号を監視する。
【００４５】
図１０は、判定上限値の設定動作を示すフロートチャートである。
制御装置３０は、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が閉状態にあるとき（ステップＳ３２でＹＥＳ、ステップＳ３３でＹＥＳ。図３（ａ）参照）、第１設定圧力（−１００Ｐａ）を上限値に設定する（ステップＳ３４）。第１サンプリング窓１８が閉状態にあり、第２サンプリング窓１９が開状態にあるとき（ステップＳ３２でＹＥＳ、ステップＳ３３でＮＯ。図３（ｂ）参照）、制御装置３０は第２設定圧力（−７０Ｐａ）を判定上限値に設定する（ステップＳ３５）。第１サンプリング窓１８が開状態にあり、第２サンプリング窓１９が閉状態にあるとき（ステップＳ３２でＮＯ、ステップＳ３６でＹＥＳ。図３（ｃ）参照）、第３設定圧力（−５０Ｐａ）を判定上限値に設定する（ステップＳ３７）。また、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が開状態にあるとき（ステップＳ３２でＮＯ、ステップＳ３６でＮＯ。図３（ｄ）参照）、第４設定圧力（−３５Ｐａ）を判定上限値に設定する（ステップ３８）。そして、判定上限値の設定動作は終了する。
【００４６】
以上により、この実施形態によれば、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉に応じた判定上限判定値に基づいて、薬液キャビネット４内の圧力異常が判定される。そして、したがって、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉に対応する薬液キャビネット４内の圧力を基準として判定上限値を設定することにより、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉にかかわらず薬液キャビネット４内の圧力異常を検出することができる。これにより、薬液キャビネット４内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００４７】
図１１は、この発明のさらに他の実施形態（第４の実施形態）に係る基板処理装置６０の処理室の構成を模式的に示す断面図である。この第４の実施形態において、前述の図１〜図６の実施形態（第１の実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図６の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
処理室３は、その内部空間が、上壁６１、下壁６２および側壁６３によって取り囲まれている。処理室３内には、ウエハＷをほぼ水平に保持して、回転させるスピンチャック５と、スピンチャック５に保持されたウエハＷの表面に対して薬液を供給するための薬液ノズル６とが収容されている。
【００４８】
スピンチャック５は、モータ６４と、このモータ６４の回転駆動力によって鉛直軸線まわりに回転される円盤状のスピンベース６５と、スピンベース６５の周縁部の複数箇所にほぼ等間隔で設けられ、ウエハＷをほぼ水平な姿勢で挟持するための複数個の挟持部材６６とを備えている。これにより、スピンチャック５は、ウエハＷを、ほぼ水平な姿勢を保った状態で、スピンベース６５とともに鉛直軸線まわりに回転させることができる。
【００４９】
薬液ノズル５には、薬液供給管１１が接続されている。薬液ノズル５には、薬液供給管１１を通して薬液タンク１０に溜められている薬液が供給されるようになっている。
処理室３の側壁９には、処理室３内に対してウエハＷを搬入および搬出するための開口６７が形成されている。処理室３の外側には、開口６７に基板搬送ロボットＴＲが対向している。基板搬送ロボットＴＲは、開口６７を通して処理室３内にハンドをアクセスさせ、スピンチャック５上に未処理のウエハＷを載置したり、スピンチャック５上から処理済のウエハＷを取り除いたりすることができるようになっている。側壁６３に形成された開口６７に関連して、処理室３の外側には、開口６７を開閉するための開閉手段としてのシャッタ６８が設けられている。この開口６７に関連して、開口６７がシャッタ６８によって閉じられた閉状態か、開口６７がシャッタ６８によって閉じられていない開状態かを検出するための開閉検出手段としての開閉センサ６９が設けられている。
【００５０】
処理室３内には、接点付き圧力計からなる圧力センサ７０が配設されている。圧力センサ７０には、第１実施形態の圧力センサ２５とは異なり、２つの接点（第１接点（上限接点），第２接点（下限接点））を有する２接点型圧力センサが適用されている。
圧力センサ７０は、各接点に個別の圧力を設定できる構成になっている。第１接点には、第１設定圧力（たとえば、−１００Ｐａ）が設定されている。第２接点には、第２設定圧力（たとえば、−５０Ｐａ）が設定されている。
【００５１】
圧力センサ７０の測定圧力が第１接点に達すると、圧力センサ７０から第１設定圧力検出信号が出力される。圧力センサ７０の測定圧力が第２接点に達すると、圧力センサ７０から第２設定圧力検出信号が出力される。
また、処理室３内は、処理室３内の薬液成分を含む雰囲気を排気するための排気手段としての排気ダクト７１が接続されている。この排気ダクト７１は、工場内の排気設備に接続されている。薬液成分を含む雰囲気が排気ダクト７１から排気されて、薬液キャビネット４内の圧力が、薬液キャビネット４の周囲の雰囲気圧力よりも低くなる。このため、クリーンエアが吸気口から取り込まれる。薬液キャビネット４内がクリーンエアで置換される。これにより、薬液成分を含む雰囲気の処理室３の外部への漏洩が防止されている。
【００５２】
図１２は、基板処理装置６０の電気的構成を示すブロック図である。
制御装置３０には、モータ６４および警報器３７が接続されている。
また、制御装置３０には、圧力センサ７０から出力される設定圧力検出信号、および開閉センサ６９から出力される検出信号が入力されるようになっている。
制御装置３０は、開口６７の開閉状態に応じて、第１設定圧力検出信号および第２設定圧力検出信号のうちいずれかの設定圧力検出信号を選択する。具体的には、制御装置３０は、開口６７が閉状態にあるとき、第１設定圧力（−１００Ｐａ）を選択し、開口６７が開状態にあるとき、第２設定圧力（−７０Ｐａ）を選択する。
【００５３】
そして、選択された設定圧力検出信号が圧力センサ７０から出力されると、制御装置３０は、処理室３内に圧力異常が発生したと判定し、警報器３７から警報音または警報表示を出力させる。
以上により、この実施形態によれば、第１設定圧力および第２設定圧力にそれぞれ対応する第１設定圧力検出信号および第２設定圧力検出信号が、開口６７の開閉に応じて選択されている。そして、選択された設定圧力検出信号が圧力センサ７０から出力されると、圧力異常が発生したと判定される。したがって、開口６７の開閉に対応する処理室３内の圧力を基準として、設定圧力検出信号を選択することにより、開口６７の開閉にかかわらず処理室３内の圧力異常を検出することができる。これにより、処理室３内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００５４】
以上、この発明の４つの実施形態について説明したが、この発明は、さらに他の形態で実施することもできる。
第４実施形態では、処理室３は１つの開口６７を有しているものとして説明したが、処理室３に複数の開口６７（たとえば、基板搬入用開口および基板搬出用開口）が形成されていてもよい。この場合、複数の開口６７の大きさが異なる場合には、第１および第２実施形態のように、３以上（好ましくは４）の設定圧力に対応する設定圧力検出信号を用いて、圧力異常の判定が行うことができる。複数の開口６７の開口面積が等しく、かつ、一度に１つの開口のみが開かれるのであれば、２つの設定圧力に対応する設定圧力検出信号が得られれば充分である。
【００５５】
また、処理室３内の圧力異常の検出を、第３実施形態のように圧力計測センサ５１からの出力信号に対応する圧力値に基づいて用い、制御装置３０の判定上限値設定部５２に設定された判定上限値以上であるか否かに基づいて、処理室３内に圧力異常が判定される構成とすることもできる。
また、第１実施形態では、４接点型の圧力センサ２５を用いたが、２接点型の圧力センサを２つ（第１圧力センサおよび第２圧力センサ）用いてもよい。この場合、第１圧力センサの上限接点Ｕ１、下限接点Ｌ１、および、第２圧力センサの上限接点Ｕ２、下限接点Ｌ２に、それぞれ異なる圧力値が設定されていて（たとえば、Ｕ１＞Ｕ２＞Ｌ１＞Ｌ２）、第１および第２圧力センサの測定圧力が各接点に達すると、各圧力センサから設定圧力検出信号（第１実施形態における第１〜第４設定圧力検出信号）が出力される構成であることが好ましい。これにより、２接点型の圧力センサを２つ用いて、薬液キャビネット４内の圧力異常を検出することができる。
【００５６】
また、第２実施形態では、１接点型の圧力センサ４１〜４４を用いたが、２接点型の圧力センサを用い、２つの接点のうち１つだけに圧力設定がされた構成であってもよい。
第１〜第３実施形態では、薬液キャビネット４には２つのサンプリング窓１８，１９が設けられているとして説明したが、サンプリング窓の個数は、１つであってもよいし、３つ以上であってもよい。
【００５７】
サンプリング窓が１つだけ設けられる場合には、第１および第２実施形態において、異常圧力の判定に用いられる設定圧力検出信号は、４つある必要はなく、２つあれば足りる。この場合、圧力検出手段として、２接点型の圧力センサが用いられていてもよいし、圧力センサ４０のような４接点型の圧力センサが用いられていて、そのうちの２つの接点だけに圧力設定がされていてもよい。
【００５８】
また、第１、第２および第４の実施形態において、第１サンプリング窓１８、第２サンプリング窓１９および開口６７のそれぞれの開度により、設定圧力検出信号の選択が行われていてもよい。すなわち、たとえば、開口６７の一部のみをシャッタ６８が覆う半閉成状態（半開成状態）が存在するならば、その状態に対応する上限圧力を設定してもよい。
同様に、第３の実施形態において、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開度に応じた判定上限値の設定が行われていてもよい。
【００５９】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示す図解的な平面図である。
【図２】薬液キャビネットの構成を示す図解的な断面図である。
【図３】薬液キャビネットの構成を模式的に示す平面図である。
【図４】基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図５】圧力異常検出動作を示すフローチャートである。
【図６】設定圧力検出信号の選択動作を示すフロートチャートである。
【図７】第２の実施形態に係る基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図８】第３の実施形態に係る基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図９】第３の実施形態に係る基板処理装置において行われる圧力異常検出を示すフローチャートである。
【図１０】第３の実施形態に係る基板処理装置において行われる判定上限値の設定動作を示すフロートチャートである。
【図１１】第４の実施形態に係る基板処理装置の処理室の構成を模式的に示す断面図である。
【図１２】第４の実施形態に係る基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
【００６１】
１，４０，５０，６０ 基板処理装置
３ 処理室
４ 薬液キャビネット（流体キャビネット）
１０ 薬液タンク（処理流体供給機構）
１８ 第１サンプリング窓（開口）
１９ 第２サンプリング窓（開口）
２０ 第１開閉扉（開閉手段）
２１ 第２開閉扉（開閉手段）
２３，７１ 排気ダクト（排気手段）
２５ 圧力センサ（圧力検出手段）
３０ 制御装置
３５ 第１開閉センサ（開閉検出手段）
３６ 第２開閉センサ（開閉検出手段）
３７ 警報器（警報発生手段）
４１ 第１圧力センサ（圧力検出手段）
４２ 第２圧力センサ（圧力検出手段）
４３ 第３圧力センサ（圧力検出手段）
４４ 第４圧力センサ（圧力検出手段）
５２ 判定上限値設定部（閾値設定手段）
６７ 開口
６８ シャッタ（開閉手段）
６９ 開閉センサ（開閉検出手段）
Ｗ ウエハ（基板）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、その内部で処理流体が取り扱われる処理流体室を有し、基板を処理するための基板処理装置に関する。処理の対象となる基板には、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、ＦＥＤ（Filed Emission Display）用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置の製造工程では、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板等を、処理液によって処理する基板処理装置が用いられる。このような基板処理装置は、基板に薬液や純水からなる処理液を供給して、基板の表面に処理を施すための処理室を有している。処理室には、薬液キャビネットが接続されている。薬液キャビネット内には、処理室内で基板に供給される薬液を溜めておくための薬液タンクが収容されている（たとえば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００６−３５１７０９号公報
【０００３】
このような薬液キャビネットは一般的に、薬液タンクに溜められている薬液を採取するためのサンプリング窓を有している。サンプリング窓には、そのサンプリング窓を開閉する開閉扉が取り付けられている。薬液の採取は、たとえば、薬液タンク内の薬液濃度を調べる際に必要となる。薬液キャビネットに薬液タンク内の薬液濃度を表示する濃度計が備えられている場合であっても、たとえば、濃度計の信頼性を確認する目的で、薬液タンク内の薬液を採取してその濃度の計測が必要となることがある。
【０００４】
薬液キャビネットでは、薬液成分を含む雰囲気が薬液キャビネットの外部に漏洩しないように、内部の雰囲気を排気し、薬液キャビネット内を薬液キャビネットの外部の雰囲気圧力よりも低い圧力（負圧）にしている。そして、薬液キャビネット内に配設された圧力センサによって薬液キャビネット内の圧力が検出されている。
この圧力センサには、たとえば接点付き圧力計が用いられている。接点付き圧力計は、マイクロスイッチを内蔵しており、予め設定した圧力に達したときにマイクロスイッチが作動して警報信号を出力する。この警報信号を利用して、薬液キャビネット内における圧力異常が検出される。薬液キャビネット内の圧力の検出には、従来から、一つの圧力のみの設定が可能な１接点型の圧力計が適用されてきた。これは、上限圧力で警報信号を出力できれば充分であり、下限圧力での警報出力を併せて行える２接点型圧力計を適用する利益がないと考えられていたからである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
薬液キャビネット内の圧力は、サンプリング窓が開状態か閉状態かで大きく異なる。すなわち、サンプリング窓が閉状態であれば、薬液キャビネット内を充分に排気でき、その内部の圧力を充分な負圧に維持できる。これに対して、薬液キャビネットが開状態のときには、サンプリング窓から周囲の雰囲気が流入するので、それに応じて薬液キャビネット内の圧力が高くなる。むろん、サンプリング窓を開いたときでも、薬液キャビネット内を負圧に維持できるように排気設計が行われていることは言うまでもない。
【０００６】
一方、１接点型圧力計で構成される圧力センサによって検出すべき上限圧力は、サンプリング窓が開状態のときの薬液キャビネット内気圧を基準に設定されている。これは、サンプリング窓の閉状態を基準に上限圧力設定を行うと、サンプリング窓の開成時に圧力異常が検出されるおそれがあるからである。
しかし、サンプリング窓の開状態を基準とした上限圧力は、サンプリング窓の閉状態の圧力異常を検出するには高すぎるおそれがある。そのため、サンプリング窓が閉じられた状態で排気異常が発生した場合に、圧力異常を検出することができないおそれがある。そのため、薬液キャビネット内の圧力異常の発生を、精度良く検出することができなかった。
【０００７】
基板に処理液が供給されて内部で基板を処理する処理室についても同様の課題がある。すなわち、外部に薬液成分を含む雰囲気が漏洩することがないように、処理室内の排気が行われるようになっている。処理室には、基板の搬入および搬出のための開口が形成されている。この開口は、シャッタで開閉できるようになっている。シャッタは、基板の搬入および搬出時には開かれ、その他の期間には閉成状態に保持される。処理室内の雰囲気の漏洩を防ぐために、処理室内の圧力を検出する圧力センサが備えられている。この圧力センサには、１接点型圧力計が適用される。そして、圧力センサから出力される警報信号に基づいて、処理室内の圧力異常を検出するようになっている。シャッタの開閉により、処理室内の圧力が大きく変動するので、圧力センサによって検出すべき上限圧力は、シャッタの開状態に対応する大きな値にせざるを得ない。そのため、シャッタ閉成時の圧力異常検出精度が犠牲になっている。
【０００８】
そこで、この発明の目的は、処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、開口（１８，１９；６７）を有し、内部で処理流体が取り扱われる処理流体室（４；３）と、前記処理流体室を負圧にするために、前記処理流体室内の雰囲気を排気する排気手段（２３；７１）と、前記処理流体室内の圧力を検出する圧力検出手段（２５；４１，４２，４３，４４；５１；７０）と、前記開口を開閉するための開閉手段（２０，２１；６８）と、前記開閉手段による前記開口の開閉状態を検出する開閉状態検出手段（３５，３６；６９）と、この開閉状態検出手段による検出結果に応じて、前記圧力検出手段の出力に基づいて前記処理流体室内の圧力異常を判定するための判定基準を可変設定し、その設定された判定基準に基づいて圧力異常を判定する圧力異常判定手段（３０）とを含む、基板処理装置である。
【００１０】
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この発明によれば、圧力異常を判定するための判定基準が、開口の開閉状態に応じて変更される。したがって、開口の開閉状態に対応する処理流体室内の圧力を基準として判定基準を設定することにより、開口の開閉状態によらずに処理流体室内の圧力異常を検出することができる。これにより、処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００１１】
ここで、「負圧」とは、処理流体室の周囲の雰囲気圧力よりも低い圧力のことをいう。処理流体室内が負圧に維持されることによって、処理流体室内の雰囲気（処理流体を含む雰囲気）が処理流体室外に流出することを防止できる。
請求項２記載の発明は、前記圧力検出手段は、複数の異なる設定圧力を検出したときにそれぞれ設定圧力検出信号を出力するものであり、前記圧力異常判定手段は、前記開閉状態検出手段による検出結果に応じて、前記複数の異なる設定圧力のいずれかに対応する設定圧力検出信号を選択する信号選択手段（３０）を含み、この選択手段によって選択された設定圧力検出信号が出力されると、圧力異常が発生したと判定するものである、請求項１記載の基板処理装置である。
【００１２】
この発明によれば、複数の異なる設定圧力に対応する設定圧力検出信号が、開口の開閉状態に応じて選択される。そして、選択手段によって選択された設定圧力検出信号が圧力検出手段から出力されると、圧力異常が発生したと判定される。したがって、開口の開閉状態に対応する処理流体室内の圧力を基準として、設定圧力検出信号を選択することにより、開口の開閉状態にかかわらず処理流体室内の圧力異常を検出することができる。これにより、処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００１３】
前記圧力検出手段は、複数の異なる設定圧力を検出したときにそれぞれ設定圧力検出信号を出力する１つの圧力センサを用いて構成してもよい。より具体的には、たとえば、異なる設定圧力で信号出力が可能な２接点型の圧力センサを用いてもよい。
また、前記圧力検出手段は、複数の異なる設定圧力を検出したときにそれぞれ設定圧力検出信号を出力する複数の圧力センサを用いて構成することもできる。より具体的には、たとえば、１接点型の圧力センサを複数個用い、各圧力センサが異なる設定圧力で信号出力をするようにしておけばよい。
【００１４】
請求項３記載の発明は、前記圧力検出手段は、前記処理流体室内の圧力に対して連続的に変化する出力信号を出力するものであり、前記圧力異常判定手段は、前記開閉状態検出手段による検出結果に応じて異なる判定閾値を設定する閾値設定手段（５２）を含み、前記圧力検出手段の出力信号と前記閾値設定手段によって設定される判定閾値との比較結果に基づいて、圧力異常を判定するものである、請求項１記載の基板処理装置である。
【００１５】
この発明によれば、開口の開閉状態に応じた判定閾値に基づいて、処理流体室内の圧力異常が判定される。したがって、開口の開閉状態に対応する処理流体室内の圧力を基準として判定閾値を設定することにより、開口の開閉状態にかかわらず処理流体室内の圧力異常を検出することができる。これにより、処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００１６】
なお、開閉状態検出手段は、請求項４に記載のように、前記開口が前記開閉手段によって閉じられた閉状態か、前記開口が開閉手段によって閉じられていない開状態かを検出するための開閉検出手段（３５，３６；６９）を含むことが好ましい。
この場合、開口が開状態にあるときには、開口が閉状態のときよりも判定基準となる圧力値を大きくすることで、開口の開閉状態に伴う処理流体室内の圧力変化の影響を排除することができる。
【００１７】
また、開閉状態検出手段は、開口の開度（開閉の度合い）を検出するものであってもよい。
さらに、処理流体室に複数の開口が形成されている場合には、開閉状態検出手段は、前記複数の開口がそれぞれ開状態か閉状態かを検出する複数の開閉検出手段を含むものであってもよい。たとえば、複数の開口の大きさ（開口面積）が等しい場合には、開閉状態検出手段は、開状態にある開口の個数を検出するようにしてもよい。また、複数の開口の大きさが互いに異なる場合には、開閉状態検出手段は、各開口の開閉状態を区別して検出するものであることが好ましい。
【００１８】
また、開閉状態検出手段は、開閉手段の動作や位置を検出するセンサを含むものであってもよいし、たとえば、処理流体室内の圧力の急変（急減または急増）に基づいて開口の開閉を判定する手段を含むものであってもよい。
請求項５に記載のように、前記基板処理装置は、基板に処理流体を供給して基板を処理するための処理室（３）と、この処理室に処理流体を供給するための処理流体供給機構（１０）を収容した処理流体キャビネット（４）とを含む場合に、前記処理流体室が、前記処理流体キャビネットを含んでいてもよい。この場合、処理流体キャビネット内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００１９】
また、請求項６に記載のように、前記処理流体室が、基板に処理流体を供給して基板を処理するための処理室（３）を含むものであってもよい。この場合、処理室内の圧力異常を精度良く検出することができる。
さらに、前記圧力異常判定手段によって圧力異常が発生したと判定されたときに、警報を発生する警報発生手段（３７）をさらに含んでいてもよい。
【００２０】
この場合、処理流体室における圧力異常の発生を、オペレータに報らせることができる。これにより、処理流体室内の圧力異常の解消を促すことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態（第１の実施形態）に係る基板処理装置１のレイアウトを示す図解的な平面図である。基板処理装置１は、基板の一例としての半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」という。）Ｗの表面に処理流体としての薬液による処理を１枚ずつ施す枚葉式の装置であり、処理部ＰＣと、処理部ＰＣに結合されたインデクサ部ＩＮＤとを備えている。
【００２２】
処理部ＰＣには、搬送路ＴＰと、搬送路ＴＰの両側に、この搬送路ＴＰに沿って並べて形成された複数（この実施形態では、４つ）の処理室３と、同数の薬液キャビネット４とが配置されている。薬液キャビネット４は、各処理室３に隣接して配置されている。
搬送路ＴＰには、搬送ロボットＴＲが配置されている。この搬送ロボットＴＲは、処理室３に対してハンドをアクセスさせることでウエハＷを搬入および搬出することができる。
【００２３】
インデクサ部ＩＮＤの処理部ＰＣと反対側には、複数のカセットＣが並べて配置されるカセット載置部ＣＳが設けられている。カセットＣは、複数枚のウエハＷを多段に積層した状態で収容することができる。
インデクサ部ＩＮＤには、インデクサロボットＩＲが配置されている。このインデクサロボットＩＲは、カセット載置部ＣＳに配置された各カセットＣにハンドをアクセスさせて、カセットＣからウエハＷを取り出したり、カセットＣにウエハＷを収納したりすることができる。また、インデクサロボットＩＲは、搬送ロボットＴＲとの間でウエハＷの受け渡しを行うことができる。
【００２４】
各処理室３内には、後述するように、ウエハＷをほぼ水平に保持して、回転させるスピンチャック５（図１１参照）と、スピンチャック５に保持されたウエハＷの表面に対して薬液を供給するための薬液ノズル６（図１１参照）とが収容されている。
図２は、薬液キャビネット４の構成を示す図解的な断面図である。薬液キャビネット４は、その内部空間が、上壁７、下壁８および側壁９によって取り囲まれている。薬液キャビネット４には、処理室３の薬液ノズル６に供給すべき薬液を溜めておくための処理流体供給機構としての薬液タンク１０が収容されている。薬液タンク１０を収容しているために、薬液キャビネット４内の雰囲気は薬液成分を含む。
【００２５】
薬液タンク１０には、薬液供給管１１の一端が接続されている。薬液供給管１１の他端は、薬液ノズル６に接続されている。薬液供給管１１の途中部には、薬液タンク１０に溜められた薬液を汲み上げるためのポンプ１２と、薬液供給管１１の開閉を切り換えるための薬液バルブ１３とが、薬液タンク１０側からこの順で介装されている。
また、薬液タンク１０の底部には、薬液採取管１４の一端が接続されている。薬液採取管１４の他端には、薬液採取ノズル１５が接続されている。薬液採取管１４の途中部には、薬液採取バルブ１６が介装されている。
【００２６】
薬液キャビネット４の側壁９には、薬液タンク１０に溜められている薬液を採取する際に、薬液キャビネット４内にオペレータが手を差し入れるための第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９（図２では図示を省略。図３参照）が開口されている。
第１および第２サンプリング窓１８，１９の開口面積は等しくてもよいが、この実施形態では、第１サンプリング窓１８は、第２サンプリング窓１９よりも、その開口面積が大きくされている。第１サンプリング窓１８は、片開き可能に取り付けられた開閉手段としての第１開閉扉２０により開閉されている。第１サンプリング窓１８に関連して、第１サンプリング窓１８が第１開閉扉２０によって閉じられた閉状態か、第１サンプリング窓１８が第１開閉扉２０によって閉じられていない開状態かを検出するための開閉検出手段としての第１開閉センサ３５が取り付けられている。また、第２サンプリング窓１９は、片開き可能に取り付けられた開閉手段としての第２開閉扉２１（図２では図示を省略。図３参照）により開閉されている。第２サンプリング窓１９に関連して、第２サンプリング窓１９が第２開閉扉２１によって閉じられた閉状態か、第２サンプリング窓１９が第２開閉扉２１によって閉じられていない開状態かを検出するための開閉検出手段としての第２開閉センサ３６（図２では図示を省略。図３参照）が取り付けられている。
【００２７】
薬液キャビネット４内には、薬液の採取のために用いられる薬液採取台２２が収容されている。オペレータは、第１開閉扉２０を開いて第１サンプリング窓１８を開状態にしておき、薬液採取台２２上に載置した容器に薬液採取ノズル１５の先端を向けて、薬液採取バルブ１６を開く。これにより、薬液タンク１０に溜められている薬液を容器に採取することができる。
【００２８】
また、薬液キャビネット４内には、薬液キャビネット４内の薬液成分を含む雰囲気を排気するための排気手段としての排気ダクト２３が接続されている。この排気ダクト２３は、工場内の排気設備に接続されている。この工場内の排気設備は常時稼動しており、排気ダクト２３からの排気も常時行われている。
側壁９には、薬液キャビネット４の外部の清浄な空間からクリーンエアを取り込むための吸気口２４が形成されている。薬液成分を含む雰囲気が排気ダクト２３から排気されて、薬液キャビネット４内の圧力が、薬液キャビネット４の周囲の雰囲気圧力よりも低くなる。このため、クリーンエアが吸気口２４から取り込まれる。薬液キャビネット４内がクリーンエアで置換される。これにより、薬液成分を含む雰囲気の薬液キャビネット４の外部への漏洩が防止されている。
【００２９】
薬液キャビネット４内には、薬液キャビネット４内の圧力を検出するための圧力検出手段としての圧力センサ２５が配設されている。
以下の説明では、圧力センサ２５として、たとえば４接点型圧力センサを用いる構成を例にとって説明する。
この圧力センサ２５は、４つの接点（第１接点，第２接点，第３接点，第４接点）を有しており、各接点に個別の圧力を設定できる構成になっている。第１接点には、第１設定圧力（たとえば、−１００Ｐａ）が設定されている。第２接点には、第２設定圧力（たとえば、−７０Ｐａ）が設定されている。第３接点には、第３設定圧力（たとえば、−５０Ｐａ）が設定されている。第４接点には、第４設定圧力（たとえば、−３５Ｐａ）が設定されている。
【００３０】
圧力センサ２５の測定圧力が第１接点に達すると、圧力センサ２５から第１設定圧力検出信号が出力される。圧力センサ２５の測定圧力が第２接点に達すると、圧力センサ２５から第２設定圧力検出信号が出力される。圧力センサ２５の測定圧力が第３接点に達すると、圧力センサ２５から第３設定圧力検出信号が出力される。圧力センサ２５の測定圧力が第４接点に達すると、圧力センサ２５から第４設定圧力検出信号が出力される。
【００３１】
図３は、薬液キャビネットの構成を模式的に示す平面図である。
薬液キャビネット４内の圧力は、第１サンプリング窓１８の開閉および第２サンプリング窓１９の開閉により変化する。具体的には、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が閉状態にあるとき（図３（ａ）参照）、薬液キャビネット４内の圧力は、−１２０Ｐａ程度と比較的低くなる。そして、第１サンプリング窓１８が閉状態にあり、第２サンプリング窓１９が開状態にあるとき（図３（ｂ）参照）、薬液キャビネット４内の圧力は、−９０Ｐａ程度となる。第１サンプリング窓１８が開状態にあり、第２サンプリング窓１９が閉状態にあるとき（図３（ｃ）参照）には、薬液キャビネット４内の圧力は、−７０Ｐａ程度となる。さらに、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が開状態にあるとき、薬液キャビネット内の圧力は、−５０Ｐａ程度となる。
【００３２】
図４は、基板処理装置１の電気的構成を示すブロック図である。
基板処理装置１は、マイクロコンピュータを含む構成の制御装置３０を備えている。制御装置３０には、薬液バルブ１３が接続されている。
また、制御装置３０には、圧力センサ２５から出力される第１〜第４設定圧力検出信号、第１開閉センサ３５から出力される検出信号、および第２開閉センサ３６から出力される検出信号が入力されるようになっている。
【００３３】
さらに、制御装置３０には、警報発生手段としての警報器３７が接続されている。この警報器３７からは、所定の警報音または警報表示を出力することができるようになっている。
図５は、圧力異常検出動作を示すフローチャートである。
制御装置３０は、第１開閉センサ３５から出力される検出信号、および第２開閉センサ３６から出力される検出信号を監視している。制御装置３０は、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉状態に応じて、第１〜第４設定圧力検出信号のうち１つの設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１）。
【００３４】
制御装置３０は、選択された設定圧力検出信号が圧力センサ２５から出力されるか否かを監視している（ステップＳ２）。選択された設定圧力検出信号が圧力センサ２５から出力されると（ステップＳ２でＹＥＳ）、制御装置３０は薬液キャビネット４内に圧力異常が発生したと判定し（ステップＳ４）、警報器３７から所定の警報音または警報表示を出力させる（ステップＳ５）。
【００３５】
図６は、ステップＳ１における設定圧力検出信号の選択動作を示すフロートチャートである。
制御装置３０は、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が閉状態にあるとき（ステップＳ１２でＹＥＳ、ステップＳ１３でＹＥＳ。図３（ａ）参照）、第１設定圧力（−１００Ｐａ）に対応する第１設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１４）。第１サンプリング窓１８が閉状態にあり、第２サンプリング窓１９が開状態にあるとき（ステップＳ１２でＹＥＳ、ステップＳ１３でＮＯ。図３（ｂ）参照）、制御装置３０は第２設定圧力（−７０Ｐａ）に対応する第２設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１５）。第１サンプリング窓１８が開状態にあり、第２サンプリング窓１９が閉状態にあるとき（ステップＳ１２でＮＯ、ステップＳ１６でＹＥＳ。図３（ｃ）参照）、制御装置３０は第３設定圧力（−５０Ｐａ）に対応する第３設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１７）。また、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が開状態にあるとき（ステップＳ１２でＮＯ、ステップＳ１６でＮＯ。図３（ｄ）参照）、制御装置３０は第４設定圧力（−３５Ｐａ）に対応する第４設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１８）。
【００３６】
以上により、この実施形態によれば、第１〜第４設定圧力に対応する第１〜第４設定圧力検出信号が、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉に応じて選択される。そして、選択された設定圧力検出信号が圧力センサ２５から出力されると、圧力異常が発生したと判定される。したがって、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉に対応する薬液キャビネット４内の圧力を基準として、設定圧力検出信号を選択することにより、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉にかかわらず薬液キャビネット４内の圧力異常を検出することができる。これにより、薬液キャビネット４内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００３７】
図７は、この発明の他の実施形態（第２の実施形態）に係る基板処理装置４０の電気的構成を示すブロック図である。この実施形態において、前述の図１〜図６の実施形態（第１の実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図６の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
この実施形態に係る基板処理装置４０では、圧力検出手段として、４接点型の圧力センサ２５に代えて４つの１接点型の圧力センサ４１，４２，４３，４が用いられている。具体的には、薬液キャビネット４内には、第１圧力センサ４１、第２圧力センサ４２、第３圧力センサ４３および第４圧力センサ４４が配設されている。
【００３８】
各圧力センサ４１〜４４は、１つの接点を有しており、その接点に所定の圧力を設定できるようになっている。第１圧力センサ４１の接点には、第１設定圧力（たとえば、−１００Ｐａ）が設定されている。第２圧力センサ４２の接点には、第２設定圧力（たとえば、−７０Ｐａ）が設定されている。第３圧力センサ４３の接点には、第３設定圧力（たとえば、−５０Ｐａ）が設定されている。第４圧力センサ４４の接点には、第４設定圧力（たとえば、−３５Ｐａ）が設定されている。
【００３９】
第１圧力センサ４１の測定圧力が第１接点に達すると、第１圧力センサ４１から第１設定圧力検出信号が出力される。第２圧力センサ４２の測定圧力が第２接点に達すると、第２圧力センサ４２から第２設定圧力検出信号が出力される。第３圧力センサ４３の測定圧力が第３接点に達すると、第３圧力センサ４３から第３設定圧力検出信号が出力される。第４圧力センサ４４の測定圧力が第４接点に達すると、第４圧力センサ４４から第４設定圧力検出信号が出力される。第１〜第４圧力センサ４１〜４４からそれぞれ出力される設定圧力検出信号は、制御装置３０に入力される。
【００４０】
図５のステップＳ１と同様に、制御装置３０は、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉状態に応じて、第１〜第４設定圧力検出信号のうち１つの設定圧力検出信号を選択する。
そして、選択された設定圧力検出信号が第１〜第４圧力センサ４１〜４４から出力されると、制御装置３０は、図５のステップＳ４，Ｓ５と同様、薬液キャビネット４内に圧力異常が発生したと判定し、警報器３７から警報音または警報表示を出力させる。
【００４１】
図８は、この発明のさらに他の実施形態（第３の実施形態）に係る基板処理装置５０の電気的構成を示すブロック図である。この第３の実施形態において、前述の図１〜図６の実施形態（第１の実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図６の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
この実施形態では、接点付き圧力計からなる圧力センサ２５に代えて、計測圧力に対して連続的に変化する出力信号を出力する圧力計測センサ５１が用いられている。圧力計測センサ５１は、たとえば電子式（シリコンダイヤフラム式）のものである。制御装置３０には、この圧力計測センサ５１から出力信号が入力されるようになっている。
【００４２】
制御装置３０には、薬液キャビネット４内の圧力異常のための判定上限値が設定された閾値設定手段としての判定上限値設定部５２が設けられている。この判定上限値設定部５２には、後述するように、第１開閉センサ３５および第２開閉センサ３６による検出結果に応じて、異なる判定上限値が設定される。
図９は、圧力異常検出動作を示すフローチャートである。
【００４３】
制御装置３０は、圧力計測センサ５１から出力される出力信号を監視している。所定の制御周期毎に、制御装置３０は圧力計測センサ５１からの出力信号をチェックする（ステップＳ２１）。また、制御装置３０は、第１開閉センサ３５および第２開閉センサ３６の検出出力に基づいて、判定上限値設定部５２に判定上限値を設定する（ステップＳ２２）。
【００４４】
圧力計測センサ５１からの出力信号に対応する圧力値が、判定上限値設定部５２に設定された判定上限値以上であるときには（ステップＳ２３でＹＥＳ）、制御装置３０は薬液キャビネット４内に圧力異常が発生したと判定し（ステップＳ２４）、警報器３７から警報音または警報表示を出力させる（ステップＳ２５）。
圧力計測センサ５１からの出力信号に対応する圧力値が、判定上限値設定部５２に設定された判定上限値未満であるときには、薬液キャビネット４内に圧力異常は生じていないとして、制御装置３０は、再び、圧力計測センサ５１からの出力信号を監視する。
【００４５】
図１０は、判定上限値の設定動作を示すフロートチャートである。
制御装置３０は、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が閉状態にあるとき（ステップＳ３２でＹＥＳ、ステップＳ３３でＹＥＳ。図３（ａ）参照）、第１設定圧力（−１００Ｐａ）を上限値に設定する（ステップＳ３４）。第１サンプリング窓１８が閉状態にあり、第２サンプリング窓１９が開状態にあるとき（ステップＳ３２でＹＥＳ、ステップＳ３３でＮＯ。図３（ｂ）参照）、制御装置３０は第２設定圧力（−７０Ｐａ）を判定上限値に設定する（ステップＳ３５）。第１サンプリング窓１８が開状態にあり、第２サンプリング窓１９が閉状態にあるとき（ステップＳ３２でＮＯ、ステップＳ３６でＹＥＳ。図３（ｃ）参照）、第３設定圧力（−５０Ｐａ）を判定上限値に設定する（ステップＳ３７）。また、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の双方が開状態にあるとき（ステップＳ３２でＮＯ、ステップＳ３６でＮＯ。図３（ｄ）参照）、第４設定圧力（−３５Ｐａ）を判定上限値に設定する（ステップ３８）。そして、判定上限値の設定動作は終了する。
【００４６】
以上により、この実施形態によれば、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉に応じた判定上限判定値に基づいて、薬液キャビネット４内の圧力異常が判定される。そして、したがって、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉に対応する薬液キャビネット４内の圧力を基準として判定上限値を設定することにより、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開閉にかかわらず薬液キャビネット４内の圧力異常を検出することができる。これにより、薬液キャビネット４内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００４７】
図１１は、この発明のさらに他の実施形態（第４の実施形態）に係る基板処理装置６０の処理室の構成を模式的に示す断面図である。この第４の実施形態において、前述の図１〜図６の実施形態（第１の実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図６の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
処理室３は、その内部空間が、上壁６１、下壁６２および側壁６３によって取り囲まれている。処理室３内には、ウエハＷをほぼ水平に保持して、回転させるスピンチャック５と、スピンチャック５に保持されたウエハＷの表面に対して薬液を供給するための薬液ノズル６とが収容されている。
【００４８】
スピンチャック５は、モータ６４と、このモータ６４の回転駆動力によって鉛直軸線まわりに回転される円盤状のスピンベース６５と、スピンベース６５の周縁部の複数箇所にほぼ等間隔で設けられ、ウエハＷをほぼ水平な姿勢で挟持するための複数個の挟持部材６６とを備えている。これにより、スピンチャック５は、ウエハＷを、ほぼ水平な姿勢を保った状態で、スピンベース６５とともに鉛直軸線まわりに回転させることができる。
【００４９】
薬液ノズル５には、薬液供給管１１が接続されている。薬液ノズル５には、薬液供給管１１を通して薬液タンク１０に溜められている薬液が供給されるようになっている。
処理室３の側壁９には、処理室３内に対してウエハＷを搬入および搬出するための開口６７が形成されている。処理室３の外側には、開口６７に基板搬送ロボットＴＲが対向している。基板搬送ロボットＴＲは、開口６７を通して処理室３内にハンドをアクセスさせ、スピンチャック５上に未処理のウエハＷを載置したり、スピンチャック５上から処理済のウエハＷを取り除いたりすることができるようになっている。側壁６３に形成された開口６７に関連して、処理室３の外側には、開口６７を開閉するための開閉手段としてのシャッタ６８が設けられている。この開口６７に関連して、開口６７がシャッタ６８によって閉じられた閉状態か、開口６７がシャッタ６８によって閉じられていない開状態かを検出するための開閉検出手段としての開閉センサ６９が設けられている。
【００５０】
処理室３内には、接点付き圧力計からなる圧力センサ７０が配設されている。圧力センサ７０には、第１実施形態の圧力センサ２５とは異なり、２つの接点（第１接点（上限接点），第２接点（下限接点））を有する２接点型圧力センサが適用されている。
圧力センサ７０は、各接点に個別の圧力を設定できる構成になっている。第１接点には、第１設定圧力（たとえば、−１００Ｐａ）が設定されている。第２接点には、第２設定圧力（たとえば、−５０Ｐａ）が設定されている。
【００５１】
圧力センサ７０の測定圧力が第１接点に達すると、圧力センサ７０から第１設定圧力検出信号が出力される。圧力センサ７０の測定圧力が第２接点に達すると、圧力センサ７０から第２設定圧力検出信号が出力される。
また、処理室３内は、処理室３内の薬液成分を含む雰囲気を排気するための排気手段としての排気ダクト７１が接続されている。この排気ダクト７１は、工場内の排気設備に接続されている。薬液成分を含む雰囲気が排気ダクト７１から排気されて、薬液キャビネット４内の圧力が、薬液キャビネット４の周囲の雰囲気圧力よりも低くなる。このため、クリーンエアが吸気口から取り込まれる。薬液キャビネット４内がクリーンエアで置換される。これにより、薬液成分を含む雰囲気の処理室３の外部への漏洩が防止されている。
【００５２】
図１２は、基板処理装置６０の電気的構成を示すブロック図である。
制御装置３０には、モータ６４および警報器３７が接続されている。
また、制御装置３０には、圧力センサ７０から出力される設定圧力検出信号、および開閉センサ６９から出力される検出信号が入力されるようになっている。
制御装置３０は、開口６７の開閉状態に応じて、第１設定圧力検出信号および第２設定圧力検出信号のうちいずれかの設定圧力検出信号を選択する。具体的には、制御装置３０は、開口６７が閉状態にあるとき、第１設定圧力（−１００Ｐａ）を選択し、開口６７が開状態にあるとき、第２設定圧力（−７０Ｐａ）を選択する。
【００５３】
そして、選択された設定圧力検出信号が圧力センサ７０から出力されると、制御装置３０は、処理室３内に圧力異常が発生したと判定し、警報器３７から警報音または警報表示を出力させる。
以上により、この実施形態によれば、第１設定圧力および第２設定圧力にそれぞれ対応する第１設定圧力検出信号および第２設定圧力検出信号が、開口６７の開閉に応じて選択されている。そして、選択された設定圧力検出信号が圧力センサ７０から出力されると、圧力異常が発生したと判定される。したがって、開口６７の開閉に対応する処理室３内の圧力を基準として、設定圧力検出信号を選択することにより、開口６７の開閉にかかわらず処理室３内の圧力異常を検出することができる。これにより、処理室３内の圧力異常を精度良く検出することができる。
【００５４】
以上、この発明の４つの実施形態について説明したが、この発明は、さらに他の形態で実施することもできる。
第４実施形態では、処理室３は１つの開口６７を有しているものとして説明したが、処理室３に複数の開口６７（たとえば、基板搬入用開口および基板搬出用開口）が形成されていてもよい。この場合、複数の開口６７の大きさが異なる場合には、第１および第２実施形態のように、３以上（好ましくは４）の設定圧力に対応する設定圧力検出信号を用いて、圧力異常の判定が行うことができる。複数の開口６７の開口面積が等しく、かつ、一度に１つの開口のみが開かれるのであれば、２つの設定圧力に対応する設定圧力検出信号が得られれば充分である。
【００５５】
また、処理室３内の圧力異常の検出を、第３実施形態のように圧力計測センサ５１からの出力信号に対応する圧力値に基づいて用い、制御装置３０の判定上限値設定部５２に設定された判定上限値以上であるか否かに基づいて、処理室３内に圧力異常が判定される構成とすることもできる。
また、第１実施形態では、４接点型の圧力センサ２５を用いたが、２接点型の圧力センサを２つ（第１圧力センサおよび第２圧力センサ）用いてもよい。この場合、第１圧力センサの上限接点Ｕ１、下限接点Ｌ１、および、第２圧力センサの上限接点Ｕ２、下限接点Ｌ２に、それぞれ異なる圧力値が設定されていて（たとえば、Ｕ１＞Ｕ２＞Ｌ１＞Ｌ２）、第１および第２圧力センサの測定圧力が各接点に達すると、各圧力センサから設定圧力検出信号（第１実施形態における第１〜第４設定圧力検出信号）が出力される構成であることが好ましい。これにより、２接点型の圧力センサを２つ用いて、薬液キャビネット４内の圧力異常を検出することができる。
【００５６】
また、第２実施形態では、１接点型の圧力センサ４１〜４４を用いたが、２接点型の圧力センサを用い、２つの接点のうち１つだけに圧力設定がされた構成であってもよい。
第１〜第３実施形態では、薬液キャビネット４には２つのサンプリング窓１８，１９が設けられているとして説明したが、サンプリング窓の個数は、１つであってもよいし、３つ以上であってもよい。
【００５７】
サンプリング窓が１つだけ設けられる場合には、第１および第２実施形態において、異常圧力の判定に用いられる設定圧力検出信号は、４つある必要はなく、２つあれば足りる。この場合、圧力検出手段として、２接点型の圧力センサが用いられていてもよいし、圧力センサ４０のような４接点型の圧力センサが用いられていて、そのうちの２つの接点だけに圧力設定がされていてもよい。
【００５８】
また、第１、第２および第４の実施形態において、第１サンプリング窓１８、第２サンプリング窓１９および開口６７のそれぞれの開度により、設定圧力検出信号の選択が行われていてもよい。すなわち、たとえば、開口６７の一部のみをシャッタ６８が覆う半閉成状態（半開成状態）が存在するならば、その状態に対応する上限圧力を設定してもよい。
同様に、第３の実施形態において、第１サンプリング窓１８および第２サンプリング窓１９の開度に応じた判定上限値の設定が行われていてもよい。
【００５９】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示す図解的な平面図である。
【図２】薬液キャビネットの構成を示す図解的な断面図である。
【図３】薬液キャビネットの構成を模式的に示す平面図である。
【図４】基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図５】圧力異常検出動作を示すフローチャートである。
【図６】設定圧力検出信号の選択動作を示すフロートチャートである。
【図７】第２の実施形態に係る基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図８】第３の実施形態に係る基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図９】第３の実施形態に係る基板処理装置において行われる圧力異常検出を示すフローチャートである。
【図１０】第３の実施形態に係る基板処理装置において行われる判定上限値の設定動作を示すフロートチャートである。
【図１１】第４の実施形態に係る基板処理装置の処理室の構成を模式的に示す断面図である。
【図１２】第４の実施形態に係る基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
【００６１】
１，４０，５０，６０ 基板処理装置
３ 処理室
４ 薬液キャビネット（流体キャビネット）
１０ 薬液タンク（処理流体供給機構）
１８ 第１サンプリング窓（開口）
１９ 第２サンプリング窓（開口）
２０ 第１開閉扉（開閉手段）
２１ 第２開閉扉（開閉手段）
２３，７１ 排気ダクト（排気手段）
２５ 圧力センサ（圧力検出手段）
３０ 制御装置
３５ 第１開閉センサ（開閉検出手段）
３６ 第２開閉センサ（開閉検出手段）
３７ 警報器（警報発生手段）
４１ 第１圧力センサ（圧力検出手段）
４２ 第２圧力センサ（圧力検出手段）
４３ 第３圧力センサ（圧力検出手段）
４４ 第４圧力センサ（圧力検出手段）
５２ 判定上限値設定部（閾値設定手段）
６７ 開口
６８ シャッタ（開閉手段）
６９ 開閉センサ（開閉検出手段）
Ｗ ウエハ（基板）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口を有し、内部で処理流体が取り扱われる処理流体室と、
前記処理流体室を負圧にするために、前記処理流体室内の雰囲気を排気する排気手段と、
前記処理流体室内の圧力を検出する圧力検出手段と、
前記開口を開閉するための開閉手段と、
前記開閉手段による前記開口の開閉状態を検出する開閉状態検出手段と、
この開閉状態検出手段による検出結果に応じて、前記圧力検出手段の出力に基づいて前記処理流体室内の圧力異常を判定するための判定基準を可変設定し、その設定された判定基準に基づいて圧力異常を判定する圧力異常判定手段とを含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記圧力検出手段は、複数の異なる設定圧力を検出したときにそれぞれ設定圧力検出信号を出力するものであり、
前記圧力異常判定手段は、前記開閉状態検出手段による検出結果に応じて、前記複数の異なる設定圧力のいずれかに対応する設定圧力検出信号を選択する信号選択手段を含み、この選択手段によって選択された設定圧力検出信号が出力されると、圧力異常が発生したと判定するものである、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記圧力検出手段は、前記処理流体室内の圧力に対して連続的に変化する出力信号を出力するものであり、
前記圧力異常判定手段は、前記開閉状態検出手段による検出結果に応じて異なる判定閾値を設定する閾値設定手段を含み、前記圧力検出手段の出力信号と前記閾値設定手段によって設定される判定閾値との比較結果に基づいて、圧力異常を判定するものである、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記開閉状態検出手段は、前記開口が前記開閉手段によって閉じられた閉状態か、前記開口が開閉手段によって閉じられていない開状態かを検出するための開閉検出手段を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記基板処理装置は、基板に処理流体を供給して基板を処理するための処理室と、この処理室に処理流体を供給するための処理流体供給機構を収容した処理流体キャビネットとを含み、
前記処理流体室は、前記処理流体キャビネットを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記処理流体室は、基板に処理流体を供給して基板を処理するための処理室を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１】
開口を有し、内部で処理流体が取り扱われる処理流体室と、
前記処理流体室を負圧にするために、前記処理流体室内の雰囲気を排気する排気手段と、
前記処理流体室内の圧力を検出する圧力検出手段と、
前記開口を開閉するための開閉手段と、
前記開閉手段による前記開口の開閉状態を検出する開閉状態検出手段と、
この開閉状態検出手段による検出結果に応じて、前記圧力検出手段の出力に基づいて前記処理流体室内の圧力異常を判定するための判定基準を可変設定し、その設定された判定基準に基づいて圧力異常を判定する圧力異常判定手段とを含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記圧力検出手段は、複数の異なる設定圧力を検出したときにそれぞれ設定圧力検出信号を出力するものであり、
前記圧力異常判定手段は、前記開閉状態検出手段による検出結果に応じて、前記複数の異なる設定圧力のいずれかに対応する設定圧力検出信号を選択する信号選択手段を含み、この選択手段によって選択された設定圧力検出信号が出力されると、圧力異常が発生したと判定するものである、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記圧力検出手段は、前記処理流体室内の圧力に対して連続的に変化する出力信号を出力するものであり、
前記圧力異常判定手段は、前記開閉状態検出手段による検出結果に応じて異なる判定閾値を設定する閾値設定手段を含み、前記圧力検出手段の出力信号と前記閾値設定手段によって設定される判定閾値との比較結果に基づいて、圧力異常を判定するものである、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記開閉状態検出手段は、前記開口が前記開閉手段によって閉じられた閉状態か、前記開口が開閉手段によって閉じられていない開状態かを検出するための開閉検出手段を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記基板処理装置は、基板に処理流体を供給して基板を処理するための処理室と、この処理室に処理流体を供給するための処理流体供給機構を収容した処理流体キャビネットとを含み、
前記処理流体室は、前記処理流体キャビネットを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記処理流体室は、基板に処理流体を供給して基板を処理するための処理室を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００９−１５８７８６（Ｐ２００９−１５８７８６Ａ）
【公開日】平成２１年７月１６日（２００９．７．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３３６７３６（Ｐ２００７−３３６７３６）
【出願日】平成１９年１２月２７日（２００７．１２．２７）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月１６日（２００９．７．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月２７日（２００７．１２．２７）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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