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Fターム[3B201CD42]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 補助処理 (2,748) | 検知、制御 (1,212) | 入力信号 (296)

Fターム[3B201CD42]に分類される特許

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【課題】、処理対象物を容器内に収容して洗浄する場合に、処理対象物を効率的に洗浄することが可能な滅菌装置及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】滅菌装置1であって、容器20と、前記容器20を支持する支持部材31、32と、前記容器20を振動させる振動源と、前記容器20に洗浄液を供給する洗浄液供給手段60と、前記容器20内に蒸気を供給する蒸気供給手段70と、処理液排出手段65と、処理対象物排出部27とを備え、前記容器20は、両端部が壁部により閉塞され略水平に配置可能とされる筒状体からなり、前記駆動源は、振動モータ50により構成されることを特徴とする。 (もっと読む)


【解決手段】基板の表面上に形成された金属ゲート構造の周囲からポストエッチング洗浄工程中にポリマ残渣を除去するためのシステム及び方法は、金属ゲート構造に及び除去されるべきポリマ残渣に関連する複数のプロセスパラメータを決定することを含む。1又は複数の製造層が、金属ゲート構造を画定し、プロセスパラメータは、これらの製造層の及びポリマ残渣の特性を定める。第1及び第2の洗浄化学剤が特定され、プロセスパラメータに基づいて、第1及び第2の洗浄化学剤に関連する複数の適用パラメータが定められる。ゲート構造の構造的完全性を維持しつつポリマ残渣を実質的に除去するために、第1及び第2の適用化学剤は、適用パラメータを使用して制御方式で順次適用される。 (もっと読む)


【課題】基板表面に対するダメージの発生及び処理力の低下を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置1において、被処理面を有する基板Wを保持して回転させる回転機構5と、回転機構5により回転する基板Wの被処理面に対して処理液を供給する供給ノズル6と、供給ノズル6を基板Wの周縁に向かって並ぶ複数の供給位置に順次移動させる移動機構7と、被処理面上の処理液の液膜厚を測定する測定部8と、測定部8により測定された液膜厚に応じて、複数の供給位置毎に基板Wの回転数を変更し、被処理面上に形成された液膜厚が一定になるように基板Wの回転数を制御する手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】貯蔵プールの水中で、狭隘部や障害物があっても、目的とする部位の各種作業を遠隔地点から行うことにある。
【解決手段】水中を航行する遠隔操縦式移動体であるROV6,17,26に電動ウインチ8と空気袋6bに接続された吸着パッド6aや、内視鏡カメラ22やサンプリングヘッド29を装備させ、それらを貯蔵プール1の外側から操作卓13等で操縦して、容器2を吸着パッド6aで吸着保持して検査個所から移動させる作業や、内視鏡カメラ22を用いてその移動跡での観察作業を行ったり、サンプリングヘッドで貯蔵プール壁面に付着した物質の採取作業を行ったりする。 (もっと読む)


【課題】体積の異なるびんをより効率的に洗浄し得る洗びん方法を提供する。
【解決手段】ラベルが貼付されたびんを洗浄槽(2、3)内の洗浄液に浸漬してびんからラベルを剥離し、ラベル滓を洗浄液と共に洗浄槽からオーバーフローにより排出してクッションタンク(6)に移送し、およびクッションタンク(6)からラベル滓および洗浄液を抜き出して濾過し、ラベル滓が除去された洗浄液を洗浄槽(2、3)に戻す洗びん方法において、この洗びん方法を第1体積のびんに対して実施した後、第1体積と異なる第2体積のびんに対して実施する際に、第1体積より第2体積が大きいときは、洗浄槽(2,3)内の洗浄液を、その体積差に対応する分だけ多くオーバーフローにより排出してクッションタンク(6)に貯留し、第1体積より第2体積が小さいときは、濾過によりラベル滓が除去された洗浄液を、その体積差に対応する分だけ多く洗浄槽(2,3)に戻す。 (もっと読む)


【課題】 車両用トイレタンク内のスラッジを溶解し、前記トイレタンク内を洗浄するものであり、その際、前記トイレタンク内の最大容量を超えさせないようにすること及び溶解したスラッジが前記トイレタンクの外に接続されている車両用真空式トイレタンク内スラッジ除去循環装置内に混入しない手段を講ずること。
【解決手段】 車両用トイレタンク内にスラッジ溶解促進用洗浄剤を注入し、前記トイレタンク内の最大容量を超えさせないように容量を把握する水位計及び溶解したスラッジが前記循環装置内内に混入させないためのフイルターを配設し、前記洗浄剤を前記トイレタンク内で循環させることを特徴とする車両用真空式トイレタンク内スラッジ除去循環装置 (もっと読む)


【課題】被洗浄物に付着した水分等を除去するにあたり、乾燥速度が速いとともに、被洗浄物に対する濡れ性に優れ、かつ安全性が高い速乾性液体組成物、そのような速乾性液体組成物を用いた水分等の洗浄方法、および洗浄装置を提供する。
【解決手段】エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル等と、水と、を含むとともに、全体量に対して、エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル等の含有量を5〜60重量%の範囲内の値とし、かつ、水の含有量を40〜95重量%の範囲内の値とする速乾性液体組成物、そのような速乾性液体組成物を用いた水分等の洗浄方法および洗浄装置である。 (もっと読む)


本発明は、最終すすぎゾーン(18)を通って食器(6)を運ぶ運搬装置(4)を有するコンベヤー食器洗浄機(2)であって、前記運搬装置(4)は食器(6)を収容するための多数のコンパートメント(38)を有するようなコンベヤー食器洗浄機(2)に関する。空のコンパートメント(38)を検出するために食器センサ装置(42)が提供される。コンベヤー食器洗浄機(2)の運転中における淡水、ケミカル、及びエネルギーの消費を低減可能にするため、本発明は、空のコンパートメント(38)の検出に応じて、最終すすぎゾーン(18)のスプレーノズル(20、22、24)に供給される最終すすぎ液の単位時間当たり供給量を自動的に設定するように設計された制御装置(44)を提供する。本発明は又、この種のコンベヤー食器洗浄機(2)を運転するする方法に関する。 (もっと読む)


【課題】微小気泡を含む液体中に存在する微小気泡の数を管理するにより、基板処理を均一に行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wに対して微小気泡を含む液体40を供給して基板Wを処理し、気体と液体から微小気泡を含む液体を生成する微小気泡生成装置30と、微小気泡を含む液体内の微小気泡の数を測定するための測定部50と、測定部から微小気泡の数の測定値が与えられる制御部20と、制御部20の指令により微小気泡を含む液体を基板Wに供給する供給部15とを備える。 (もっと読む)


エンクロージャの壁の内側の面に流体を噴霧するための装置。この装置は、流体用のリザーバと、流体がエンクロージャの壁の内側の面に噴霧されるノズルアセンブリと、リザーバおよびノズルと流体が連通した状態の流体導管と、ポンプアセンブリが作動したとき、リザーバから流体導管を通ってノズルへ流体を供給するためのポンプと、ポンプと電気的に繋がり、ポンプを作動および停止させるために、格納されたプログラムを実行するコントローラと、を含む。ノズルアセンブリは流路内の流体の向きを定めるノズルを含み、ノズルアセンブリは流路内の流体と接触し、その向きを変えるような大きさの一つまたは複数の偏向シールドをさらに含み、ノズルアセンブリはノズルをエンクロージャの壁の内側の面付近に取り付けるための取付け構造体をさらに含む。偏向シールドから出てくる流れは層流である。
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【課題】薬液の使用量を抑えつつ基板表面を良好に処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】初期薬液処理では、基板表面Wfにシリコン酸化膜が形成されており、基板表面Wfは親水面となっている。そこで、初期薬液処理(時刻0から時間T1が経過するまでの間)においてはフッ酸溶液の流量を510(mL/min)に抑えてフッ酸の使用量を抑制している。一方、初期薬液処理により基板Wのシリコン層の少なくとも一部が露出してくるタイミングでフッ酸溶液の流量を1530(mL/min)に増大させて連続薬液処理中を実行しているため、基板表面Wfの一部にシリコン層が露出して疎水面が形成されたとしてもフッ酸溶液が基板表面Wf全体をカバレッジしてシリコン酸化膜のエッチング除去を継続させることができる。 (もっと読む)


【課題】処理室内を自動洗浄することによって、洗浄の手間を省き、かつ処理室内の状態を一定に保つことができる恒温槽を得る。
【解決手段】試料が収納される処理室18が設けられている。シャワー20は、処理室18の内壁に洗浄液を噴射して洗浄する。排水口22は、洗浄に用いられた洗浄液を排出する。水質センサ24は、排水口22から排出される洗浄液の水質を測定する。制御部36は、水質センサ24の測定結果を入力し、シャワー20を制御する。制御部36は、シャワー20に洗浄を開始させ、洗浄開始から所定時間が経過し、かつ洗浄液の水質が所定の値に達すると、シャワー20を停止させる。 (もっと読む)


【課題】 集積回路素子を製造するための基板が曲がることを減少させる。
【解決手段】 基板のディッピング又はケミカルのフローによって基板の一部分が曲がる場合、基板の一部分が曲がるように基板の一部分に印加される力と逆方向に力が作用するように基板の一部分に収容されたケミカル又は基板の一部分にフローされるケミカルをバスの外部にフローさせる。 (もっと読む)


【課題】メタルマスク版の表面にはみ出した半田等の付着物の拭き取りに使用した拭き取りシートから付着物を除去して、拭き取りシートを何度も再利用できるようにした付着物除去装置を提供する。
【解決手段】超音波振動子46の振動を拭き取りシートSに染み込んだ液媒体を介して拭き取りシートS及び付着物Pに対して伝搬させ、拭き取りシートSを伝搬する振動と付着物Pを伝搬する振動との伝搬速度差による振幅変動によって、付着物Pを拭き取りシートSから剥離させる。 (もっと読む)


【課題】リンス液の使用量を抑えつつ基板表面を良好に処理することができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板表面Wfに第1流量(2(L/min))でリンス液を供給して初期リンス工程を実行した後に、第1流量よりも低い第2流量(1.5(L/min))でリンス液を基板表面Wfに供給して中間リンス工程を実行しているため、リンス液の使用量を抑えることができる。また、リンス液の流量を低下させる前に大流量のリンス液を用いて基板表面Wf全体にリンス液の液膜を形成しているため、リンス液流量を低下させている中間リンス工程においてもリンス液を基板表面Wf全体に広げて基板表面Wf全体を覆うことができるため、基板表面Wfの部分的な露出を防いで基板表面Wfに対してリンス処理を良好に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】 気泡を用いた洗浄装置において、洗浄水の洗浄能力を測定可能な洗浄装置を提供することを目的としている。
【解決手段】 洗浄装置1は、洗浄水2が入れられた洗浄槽3と、この洗浄水2の中の気泡4の径および密度を測定する超音波センサ15と、この超音波センサ15に洗浄水2を送り込む計測管16と、計測管16に洗浄水2を吸い上げる吸引ポンプ17と、洗浄センサ15からの信号を受信解析するために設けられた制御装置18と、この制御装置18により、洗浄槽3に添加剤を供給する添加剤タンク19と、この添加剤タンク19から添加剤を必要量供給するための添加剤供給ポンプ20と、により構成されている。これにより、超音波センサによって気泡の径および密度を測定して洗浄水の洗浄能力を把握し、必要に応じて添加剤を補充供給し、高い洗浄能力を維持することができる。 (もっと読む)


【課題】ブランク材洗浄装置の洗浄性能検査方法において、簡素な構成としてコストアップを抑えた上で、迅速かつ確実な洗浄不良の検出を可能とする。
【解決手段】ブランキング装置40により切断されたブランク材Wを洗浄する洗浄装置50の洗浄性能検査方法であって、前記ブランク材Wの両面の適宜の箇所に塗料を塗布した後、該ブランク材Wを前記洗浄装置50により洗浄し、該洗浄後のブランク材Wにおける前記塗料を塗布した箇所の色差を色差計71により測定し、該測定値を予め定めた閾値と比較することにより、前記洗浄装置50の洗浄性能を検査する。 (もっと読む)


【課題】洗浄で用いたアルカリ電解水を中和し、中性水として再利用することで、環境に対する負荷を少なくでき、しかもメタル版に形成した0.22mm幅や0.14mm幅といった非常に狭い幅の印刷パターンの穴をも綺麗に洗浄可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】アルカリ電解水供給装置30に、塩分濃度を一定濃度に設定した中性水を貯留する貯水タンク31と、貯水タンク31内の中性水を用いてアルカリ電解水と強酸性水とを生成するアルカリ電解水生成器32と、洗浄装置本体11において洗浄液として使用した後のアルカリ電解水とアルカリ電解水生成器32にて生成した強酸性水とを混合して中和する中和タンク33とを備えさせ、中和タンク33内にて生成される中性水を貯水タンク31に戻して、洗浄液として使用した後のアルカリ電解水を中性水として再利用した。 (もっと読む)


【課題】処理液の消費量を減らすことができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理液を用いて基板に対して液処理を施す複数の処理部22−1乃至22−6と、複数の処理部22−1乃至22−6に処理液を供給する複数の処理部22−1乃至22−6で共通の処理液供給管210と、複数の処理部22−1乃至22−6のうち、稼働する処理部の数に応じて、処理液供給管210中の処理液の流量を増加又は減少させるように制御する流量制御部220と、を具備する。 (もっと読む)


この発明は、ある表面へ高伝搬超音波エネルギーを印加することでその表面を洗浄する方法に関するものであり、この方法は、その表面の少なくとも一部を高伝搬超音波エネルギー放出用アセンブリに接触している流体の中に浸漬するステップと、上記アセンブリからの高伝搬超音波エネルギーを上記流体の中へ放射して、上記表面にキャビテーションを発生させ、それによって、上記表面を洗浄するステップとを含んでいる。 (もっと読む)


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