基板処理装置
【課題】隣接する処理室への処理液（ミスト）の侵入をより確実に防止する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｓに薬液処理を施すウエット処理部２と、その前処理としてドライ洗浄等の処理を基板Ｓに施す前処理部１とを有する。各処理部１，２のチャンバ１０，２０は開口部１１ａを介して連通しており、この開口部１１ａは、前処理部１側に設けられるシャッタ装置１４と、ウエット処理部２側に設けられるシャッタ本体２５とにより開閉可能に設けられている。また、前処理部１のチャンバ１０内には、開口部１１ａの開放中、ウエット処理部２側に向かって開口部１１ａにエアを吐出するエアノズル１９ａ，１９ｂが配備されている。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｓに薬液処理を施すウエット処理部２と、その前処理としてドライ洗浄等の処理を基板Ｓに施す前処理部１とを有する。各処理部１，２のチャンバ１０，２０は開口部１１ａを介して連通しており、この開口部１１ａは、前処理部１側に設けられるシャッタ装置１４と、ウエット処理部２側に設けられるシャッタ本体２５とにより開閉可能に設けられている。また、前処理部１のチャンバ１０内には、開口部１１ａの開放中、ウエット処理部２側に向かって開口部１１ａにエアを吐出するエアノズル１９ａ，１９ｂが配備されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板および半導体基板等の基板に処理液を供給する等して当該基板に各種処理を施す基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、複数のチャンバ（処理室）を有し、ＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板等の基板を搬送しながら、各チャンバ内で基板に処理液を供給することによりエッチングや洗浄等、予め定められた処理を順次基板に施す装置が知られている。この種の装置では、処理に伴いチャンバ内に充満したミスト状の処理液が、基板搬送用の開口部を通じて隣接するチャンバ（隣接チャンバという）に侵入し、当該チャンバでの基板の処理に悪影響を与えることが考えられる。そこで、例えば特許文献１に記載されるように、隣接チャンバ内にシャッタを設け、基板の搬送時にだけ開口部を開くことにより隣接するチャンバへのミストの侵入を防止することが行われている。
【特許文献１】特開２０００−５８５０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、特許文献１の装置では、開口部の閉止時にシャッタに付着したミストがシャッタ作動時に隣接チャンバ内に飛散することが考えられる。特に、特許文献１のシャッタは、水平軸周りに回動してチャンバ内側に倒れ込む可倒式の構造であるため、付着したミスト等がシャッタ作動時（特に開放時）に飛散し易い。
【０００４】
また、特許文献１の装置でも、基板の搬送中は、開口部が開き放しになるため、依然として開口部を通じて隣接チャンバにミストが侵入し易く、従って、隣接チャンバ内へのミストの侵入を防止する上で未だ改善の余地が残されている。
【０００５】
本発明は、上記のような事情に鑑みて成されたものであり、隣接するチャンバ（処理室）内にミスト状の処理液が侵入するのをより効果的に防止することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明の基板処理装置は、基板に処理液を供給して所定のウエット処理を基板に施すウエット処理室を有し、基板が搬送されつつ前記ウエット処理室の隔壁に形成される基板搬送用の開口部を介して当該ウエット処理室に対して基板の出し入れが行われる基板処理装置において、前記開口部を前記ウエット処理室の室内側から開閉するシャッタ本体を備える第１シャッタ手段と、前記開口部を前記ウエット処理室の室外側から開閉するシャッタ本体を備える第２シャッタ手段と、前記ウエット処理室の室外側に配備されて、前記開口部を通過する基板に対して気体を供給することにより、当該基板表面にウエット処理室の室内側に向って流動する気体流を形成する気体流形成手段と、を備えるものである（請求項１）。
【０００７】
この構成によると、ウエット処理室内にもシャッタ手段（第１シャッタ手段）が配備されているため、ウエット処理室外のシャッタ手段（第２シャッタ手段）のシャッタ本体に処理液（ミスト）が付着し難くなる。従って、第２シャッタ手段に付着したミストやその乾燥物がシャッタ作動時にウエット処理室の室外側に飛散するのを有効に防止することができる。しかも、開口部の開放中、つまり基板が開口部を通過する際には、気体流形成手段により基板表面にウエット処理室の室内側に向って流動する気体流が形成されるため、
開口部を通じてウエット処理室内からミストが流出することも有効に防止される。
【０００８】
この場合、前記開口部を介して前記ウエット処理室に連通し、かつ前記ウエット処理の前処理、又は後処理を基板に施す隣接処理室を有するものでは、この隣接処理室に前記第２シャッタ手段および気体流形成手段が配備される（請求項２）。
【０００９】
この構成によれば、シャッタ作動時に隣接処理室内にミストが飛散したり、基板搬送中に前記開口部を通じてミストが隣接処理室内に侵入するのを有効に防止することができる。
【００１０】
上記のような装置においては、前記シャッタ本体により前記開口部を閉止する閉止状態と、所定の退避位置に前記シャッタ本体を退避させることにより前記開口部を開放する開放状態とに前記各シャッタ手段の駆動状態を切り替え制御するシャッタ制御手段をさらに有し、このシャッタ制御手段は、基板が前記開口部を通過する際には、前記第１シャッタ手段を閉止状態から開放状態に切り替える直前に、前記第２シャッタ手段を閉止状態から開放状態に切り替えるものであるのが好適である（請求項３）。
【００１１】
このような装置によれば、基板搬送時には、ウエット処理室の室内側の第１シャッタ手段よりも常に室外側の第２シャッタ手段が先に開放状態に切り替えられるため、第２シャッタ手段のシャッタ本体への処理液（ミスト）の付着が有効に防止される。
【００１２】
この場合、前記気体流形成手段を制御する気体流形成制御手段をさらに有し、この気体流形成制御手段は、第１シャッタ手段の閉止状態から開放状態への切り替え動作に同期して気体の供給を開始するものであるのが好適である（請求項４）。
【００１３】
この構成によれば、開口部が開放されるのと同時に気体の供給が開始されるため、ウエット処理室内からの処理液（ミスト）の流出がより効果的に防止される。
【００１４】
なお、上記のような装置において、前記各シャッタ手段のうち少なくとも第２シャッタ手段は、前記シャッタ本体を前記隔壁の壁面に沿ってスライドさせることにより前記開口部を開閉するように構成されているのが好適である（請求項５）。
【００１５】
このように隔壁の壁面に沿ってシャッタ本体をスライドさせる構成によれば、所謂可倒式の開閉構造のようにシャッタ本体が大きく揺動することがなく、そのため、仮にシャッタ本体に処理液（ミスト）が付着した場合でもミスト等の飛散が起きに難くなる。
【００１６】
また、ウエット処理室に隣接する隣接処理室を有する装置において、前記隣接処理室は、当該処理室内において前記開口部の近傍を包囲するように形成される予備室と、この予備室内の雰囲気を排気する排気手段とをさらに備えているのが好適である（請求項６）。
【００１７】
この構成によると、第２シャッタ手段による開口部の開放動作に伴いシャッタ本体に付着した処理液（ミスト）が飛散し、あるいは開口部を通じてミストがウエット処理室側から隣接処理室側に侵入した場合でも、速やかに予備室から当該ミストが外部排出されることとなる。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１〜６に係る基板処理装置によると、ウエット処理室外への処理液（ミスト）の飛散、流出をより効果的に防止することができる。特に、請求項３や請求項５に係る装置によれば、第２シャッタ手段のシャッタ本体に付着したミストが当該シャッタ本体の作動に伴いウエット処理室外において飛散するという不都合を効果的に防止することができ、
また、請求項４に係る装置によれば、基板搬送中に開口部を通じてミストがウエット処理室外に流出するのを効果的に防止することができる。さらに、請求項６に係る装置によれば、仮に開口部を通じてミストが隣接処理室に侵入等した場合でも、当該ミストは直ちに予備室から外部に排気されるので、隣接処理室への実質的なミストの侵入を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の好ましい実施の形態について図面を用いて説明する。
【００２０】
図１は、本発明に係る基板処理装置の一例を示している。この図に示す基板処理装置は、基板Ｓを搬送しながら予め定められた順序で所定の処理を基板Ｓに施すプロセス処理装置であり、同図はその一部分を概略的に示している。
【００２１】
この図に示すように、基板処理装置は、薬液（処理液）を基板Ｓに供給して所定の薬液処理を施すウエット処理部２と、その前処理としてドライ洗浄等の処理を基板Ｓに施す前処理部１とを備えている。各処理部１，２は、それぞれ箱形の密閉されたチャンバ１０，２０（処理室）を有している。これらのチャンバ１０，２０は、隔壁１１を共有して隣接されると共に、当該隔壁１１に形成される基板搬送用の開口部１１ａを通じて互いに連通している。開口部１１ａは、幅方向（基板Ｓの搬送方向と直交する方向；同図では紙面に直交する方向）に細長い長方形の形状であって基板Ｓを通過させるのに必要かつ十分な大きさに形成されている。なお、以下の説明において「上流側」「下流側」というときには基板Ｓの搬送方向に基づくものとする。
【００２２】
各チャンバ１０，２０の内部には、複数の搬送ローラ５が所定間隔で配備されており、基板Ｓがこれら搬送ローラ５の駆動により水平姿勢で搬送されるように構成されている。なお、基板Ｓは、傾斜姿勢（例えば搬送方向と直交する方向においてその一方側から他方側に傾斜する姿勢）で搬送されるものであってもよい。
【００２３】
前処理部１のチャンバ１０（本発明に係る隣接処理室に相当する）の内部には、同図に示すように、開口部１１ａを包囲する予備室１２が区画形成されている。これによりチャンバ１０内において開口部１１ａを含む一部の空間がそれ以外の空間から隔離されている。
【００２４】
予備室１２のうち前記隔壁１１に対向する壁面には、基板Ｓの通過口１２ａが形成されており、この通過口１２ａを通じて基板Ｓが予備室１２を通過する構成となっている。また、この予備室１２には、その天井部分に排気通路１２ｂが連通接続されている。この排気通路１２ｂは、チャンバ１０の外部に導出されるとともに負圧ポンプ１３等に接続されており、これによって予備室１２内の雰囲気が常に排気されるように構成されている。なお、この実施形態では、この排気通路１２ｂ及び負圧ポンプ１３等が本発明の排気手段に相当する。
【００２５】
予備室１２内には、前記開口部１１ａを開閉するシャッタ装置１４（本発明の第２シャッタ手段に相当する）が配備されている。
【００２６】
このシャッタ装置１４は、開口部１１ａを前処理部１側から開閉するためのシャッタ本体１５と、このシャッタ本体１５を駆動する駆動機構とから構成されている。
【００２７】
シャッタ本体１５は、幅方向に細長な平板形状を有し、全体が耐薬品性を有する材料から構成されている。駆動機構は、このシャッタ本体１５を隔壁１１の壁面に沿って上下動させるように構成されている。具体的には、図２に示すように、隔壁１１に沿ってシャッタ本体１５を案内するガイド１６と、このガイド１６に設けられるラック１６ａ，１６ｂと、これらラック１６ａ，１６ｂに各々噛合するピニオン１７ａ，１７ｂを具備する駆動軸１７と、この駆動軸１７を駆動するモータ１８等を有し、前記駆動軸１７の正逆回転駆動に応じて、シャッタ本体１５を、前記開口部１１ａを閉止する位置（図１の実線で示す位置）と、開口部１１ａよりも下方に退避して当該開口部１１ａを開放する位置（図１の二点鎖線で示す位置）とに移動させるように構成されている。なお、以下の説明では、シャッタ本体１５により開口部１１ａが閉止されている状態をシャッタ装置１４の「閉止状態」と、シャッタ本体１５が開口部１１ａの下方に退避して当該開口部１１ａが開放されている状態をシャッタ装置１４の「開放状態」と称する。
【００２８】
チャンバ１０内には、さらに、予備室１２の直ぐ上流側の位置に上下一対のエアノズル１９ａ，１９ｂが配備されている。これらエアノズル１９ａ，１９ｂは、幅方向に連続的に、又は断続的に延びるスリット状の開口を有する、所謂スリットノズルからなり、搬送中の基板Ｓの上下各面に対してそれぞれ上流側から下流側に向かって（つまり、ウエット処理部２側に向かって）斜め方向に帯状のエアを吐出し得るように構成されている。
【００２９】
これらエアノズル１９ａ，１９ｂは、電磁バルブ等を有するエア供給管１９を介して図外のエア供給源に接続されており、前記電磁バルブ等の制御に応じて各エアノズル１９ａ，１９ｂからのエアの吐出と停止の切換え、およびエア吐出量の調整が行われるように構成されている。
【００３０】
一方、ウエット処理部２のチャンバ２０（本発明に係るウエット処理室に相当する）内部には、基板Ｓに対して薬液を供給するための複数の液ノズル２２が配備されている。これらの液ノズル２２は、薬液を噴霧する、所謂スプレーノズルからなり、搬送ローラ５の上部に所定の配列で配置されている。これら液ノズル２２は、電磁バルブ等を有する薬液供給管２３を介して図外のエア供給源に接続されており、前記電磁バルブ等の制御に応じて各液ノズル２２からの薬液の噴霧と停止の切換え、および薬液吐出量の調整が行われるように構成されている。
【００３１】
また、チャンバ２０内には、前記シャッタ装置１４とは別に、ウエット処理部２側から前記開口部１１ａを開閉するためのシャッタ装置２４（本発明の第１シャッタ手段に相当する）が配備されている。
【００３２】
このシャッタ装置２４は、前処理部１のシャッタ装置１４と共通の構成を有している。すなわち、開口部１１ａを開閉するためのシャッタ本体２５と、このシャッタ本体２５を駆動する駆動機構とから構成されており、シャッタ本体２５により開口部１１ａを塞ぐ「閉止状態」と、シャッタ本体１５を開口部１１ａの下方に退避させて当該開口部１１ａを開放する「開放状態」とに切り替え可能に構成されている（図１中に実線および二点鎖線で示す状態）。
【００３３】
なお、上記基板処理装置は、ＣＰＵ等を構成要素とするコントローラ６（図２参照）を有しており、排気通路１２ｂ、各供給管１９，２３等に設けられる各電磁バルブや、シャッタ装置１４，２４のモータ１８等は、全てこのコントローラ６に接続されることにより当該コントローラ６によって統括的に制御されるようになっている。特に、前処理部１からウエット処理部２への基板Ｓの搬送時には、コントローラ６の制御により、シャッタ装置１４，２４による開口部１１ａの開閉等の動作が図３に示す順序に従って行われることにより、ウエット処理部２から前処理部１へのミスト状の薬液の侵入が防止されるようになっている。以下、この点について説明する。なお、この実施形態では、このコントローラ６が、本発明に係るシャッタ制御手段および気体流形成制御手段に相当する。
【００３４】
この装置では、基板Ｓの処理中は、図１の実線に示すように各処理部１のシャッタ装置１４，２４が閉止状態に駆動制御される。これにより各チャンバ１０，２０が非連通状態となり、基板Ｓの処理中にウエット処理部２側で発生したミスト状の薬液（以下、単にミストという）が前処理部１側へ侵入することが防止される。
【００３５】
各処理部１，２において基板Ｓの処理が終了すると、ウエット処理部２の基板Ｓが次工程に搬出されると共に、前処理部１の基板Ｓがウエット処理部２に搬送される。
【００３６】
この際、前処理部１からウエット処理部２への基板Ｓの搬送に際しては、図３に示す順序に従って開口部１１ａの開閉等の動作が行われる。
【００３７】
まず、連続搬送されてくる基板Ｓが、エアノズル１９ａ，１９ｂよりも上流側の所定位置に到達したことが図外のセンサにより検出されると、前処理部１のシャッタ装置１４が開放状態に切り替えられる。そして、当該シャッタ装置１４が完全な開放状態となると、ウエット処理部２のシャッタ装置２４が開放状態に切り替えられると共に、エアノズル１９ａ，１９ｂからのエアの吐出が開始される。
【００３８】
これによって基板Ｓが予備室１２を通過しつつ開口部１１ａを通じて前処理部１（チャンバ１０）からウエット処理部２（チャンバ２０）に搬入される。
【００３９】
なお、このように開口部１１ａが開放されると、ウエット処理部２側から開口部１１ａを介して前処理部１側にミストが侵入する場合があるが、上記のように予備室１２内の雰囲気が吸引排気されている結果、当該ミストは排気通路１２ｂを通じて導出されることとなる。また、基板Ｓが予備室１２を通過している最中は、エアノズル１９ａ，１９ｂから吐出されるエアにより、基板Ｓの上下両面に沿って上流側から下流側に向かうエア流が形成されることとなり、その結果、開口部１１ａを通じたチャンバ１０内へのミストの侵入や、通過口１２ａを通じた上流側へのミストの流動が防止される。従って、ミストが予備室１２から上流側に侵入することがなく、これによって前処理部１内への実質的なミストの侵入が防止されることとなる。
【００４０】
基板Ｓの搬送が進み、基板Ｓがウエット処理部２の処理室２０内に完全に搬入されると、上記と逆の順序で開口部１１ａが閉止される。すなわち、ウエット処理部２のシャッタ装置２４が閉止状態に切り替えられると共に、これと同時にエアノズル１９ａ，１９ｂからのエアの吐出が停止され、その後、前処理部１のシャッタ装置１４が閉止状態に切り替えられる。これによって以降、各処理部１，２において基板Ｓの処理がそれぞれ開始されることとなる。
【００４１】
以上のような基板処理装置によると、前処理部１のチャンバ１０内のみならず、ウエット処理部２内にもシャッタ装置２４が設けられて、シャッタ本体２５により開口部１１ａが開閉されるように構成されているので、前処理部１側のシャッタ本体１５へのミストの付着が効果的に防止される。つまり、開口部１１ａの閉止中にミストが前処理部１側のシャッタ本体１５に付着することが有効に防止される。
【００４２】
しかも、この装置では、図３に示すように、開口部１１ａを開放する際には、まず前処理部１側のシャッタ装置１４が開放状態に切り替えられた後に、ウエット処理部２側のシャッタ装置２４が開放状態に切り替えられ、他方、開口部１１ａを閉止する際には、まずウエット処理部２側のシャッタ装置２４が閉止状態に切り替えた後に、前処理部１側のシャッタ装置１４が閉止状態に切り替えられるので、前処理部１側のシャッタ本体１５が単独で開口部１１ａを塞いでいる状態がない。そのため、前処理部１側のシャッタ本体１５へのミストの付着が効果的に防止される。
【００４３】
その上、各シャッタ装置１４，２４は、上記の通り、シャッタ本体１５，２５を隔壁１１に沿って上下にスライドさせることにより開口部１１ａを開閉する構成であるため、可倒式のシャッタ装置のようにシャッタ本体が大きく揺動することがなく、そのため、シャッタ本体１５，２５にミストが付着した場合でも開閉動作に伴うミストの飛散が起き難い。
【００４４】
従って、開口部１１ａを開放する際にシャッタ本体１５に付着したミストが前処理部１のチャンバ１０内に飛散するとう事態が軽減され、その結果、ウエット処理部２から前処理部１へのミストの侵入が効果的に防止されることとなる。
【００４５】
加えて、この基板処理装置では、前処理部１のチャンバ１０内部に、開口部１１ａを包囲するように予備室１２が区画形成されており、この予備室１２の雰囲気が吸引排気されるように構成されると共に、この予備室１２の直ぐ上流側にエアノズル１９ａ，１９ｂが配備され、開口部１１ａの開放中は、エアノズル１９ａ，１９ｂから吐出されるエアにより、基板Ｓの上下両面に沿ってエア流が形成される構成となっている。そのため、開口部１１ａを通じたチャンバ１０内へのミストの侵入（流出）や、通過口１２ａを通じた上流側へのミストの流出が防止され、また、開口部１１ａを通じて予備室１２内にミストが侵入した場合でも、当該ミストは速やかに外部に排出される。従って、ウエット処理部２から前処理部１への実質的なミストの侵入が有効に防止されることとなる。
【００４６】
ところで、上述した基板処理装置は、本発明に係る基板処理装置の好ましい実施形態の一例であって、その具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【００４７】
例えば、上記の実施形態では、ウエット処理部２から前処理部１へのミストの侵入を防止するために本発明を適用した例について説明したが、本発明は、ウエット処理部２とその後処理部との関係においても適用可能である。例えば図４はその一例を示している。この装置では、ウエット処理部２のチャンバ２０と後処理部３のチャンバ３０との隔壁１１′（境界壁）に基板搬送用の開口部１１ａ′が形成されており、この開口部１１ａ′を通じてウエット処理部２側から後処理部３側へ基板Ｓが搬送されるように構成されている。同図に示すように、ウエット処理部２のチャンバ２０内にはシャッタ装置２４′（本発明に係る第１シャッタ手段に相当する）が、後処理部３のチャンバ３０内にはシャッタ装置１４′（本発明に係る第２シャッタ手段に相当する）がそれぞれ配備されている。これらシャッタ装置１４′，２４′の構成は、上記実施形態のシャッタ装置１４，２４と同一である。また、後処理部３のチャンバ３０内には、開口部１１ａ′を包囲するように予備室１２′が設けられ、この予備室１２′内が排気通路１２ｂ′を通じて吸引排気されるように構成されている。また、予備室１２′（通過口１２ａ′）の直ぐ下流側にはエアノズル１９ａ′，１９ｂ′が配備されており、基板Ｓの搬送中は、これらエアノズル１９ａ′，１９ｂ′から吐出されるエアにより基板Ｓの上下各面に沿ってウエット処理部２側に向かって流動するエア流が形成されるようになっている。なお、シャッタ装置１４′，２４′等の駆動制御は、図３において、前処理部１のシャッタ装置１４の動作を後処理部３のシャッタ装置１４′の動作に置き換えた順序で行われる。
【００４８】
このような図４に示す基板処理装置の構成によれば、ウエット処理部２側から後処理部３側へのミストの侵入を有効に防止することができ、上述した実施形態と同様の作用効果を享受することができる。
【００４９】
また、上記実施形態のシャッタ装置１４，２４では、ラックとピニオンによる駆動機構を適用してシャッタ本体１５，２５を隔壁１１に沿ってスライドさせるように構成されて
いるが、シャッタ本体１５，２５の駆動機構は、これ以外のものであってもよい。例えば、シャッタ本体１５，２５に上下方向に延びるねじ軸を螺合挿入し、このねじ軸の回転に伴いシャッタ本体１５，２５を上下方向に移動させる構成を作用してもよい。
【００５０】
また、シャッタ装置１４，２４は、上記実施形態のようにシャッタ本体１５，２５が隔壁１１に沿ってスライドするものに限らず、例えば図５（ａ）に示すようなものであってもよい。同図に示すシャッタ装置１４（２４）は、開口部１１ａと略同等の大きさの開口１５ａ（２５ａ）を一部に備えたシャッタ本体１５（２５）を有している。このシャッタ本体１５は、平行リンク３２，３２を介してそれぞれ隔壁１１に固定されたブラケット３１に支持されている。平行リンク３２，３２のうち一方側には駆動用リンク３４が一体に固定されており、このリンク３４の先端にエアシリンダ３６のロッド３６ａが連結されている。そして、エアシリンダ３６のロッド突出駆動状態では、同図に示すように、開口部１１ａと開口１５ａとが上下にずれた状態でシャッタ本体１５が隔壁１１に密接し、これにより開口部１１ａがシャッタ本体１５によって閉止される一方、エアシリンダ３６のロッド引き込み駆動状態では、図５（ｂ）に示すように、シャッタ本体１５が隔壁１１から離間する方向に平行移動し、これにより開口部１１ａを開放するように構成されている。そして、このように開口部１１ａが開放された状態では、シャッタ本体１５の開口１５ａと前記開口部１１ａとが基板搬送方向に並び、これにより開口１５ａを通じて基板Ｓの搬送が可能となるように構成されている。このようなシャッタ装置１４，２４の構成によれば、シャッタ本体１５，２５の姿勢を保った状態で開口部１１ａの開閉を行うので、上記実施形態のシャッタ装置１４等と同様に作動中にミストの飛散が起きに難く、従って、当該飛散に伴う前処理部１内へのミストの侵入を有効に防止することができる。
【００５１】
なお、本発明は、シャッタ装置１４，２４の具体的な構成として、従来のような可倒式のものを排除するものではないが、可倒式のシャッタ構造は、シャッタ本体をスライド、あるいは平行移動させる構造に比べてミストが飛散し易く、従って、シャッタ作動時のミストの飛散を防止する上では、上記実施形態等のようにシャッタ本体１５，２５をスライド、あるいは平行移動させる構成を採用するのが望ましい。
【００５２】
また、上記実施形態や図４の例では、前処理部１や後処理部３に予備室１２，１２′を設けているが、これは開口部１１ａ，１１ａ′から侵入したミストを速やかに外部排出するための工夫であり、例えばウエット処理部２内で発生するミストの量が少なく、前処理部１や後処理部３内へのミストの侵入が比較的起き難い場合には、予備室１２，１２′および排気通路１２ｂ等の構成を省略し、エアノズル１９ａ，１９ｂ，１９ａ′，１９ｂ′を開口部１１ａ、１１ａ′の直ぐ近傍に配置するようにしてもよい。
【００５３】
また、上記実施形態や図４では、ウエット処理部２に前処理部１や後処理部３が隣接された基板処理装置に本発明を適用した例について説明したが、本発明は、前処理部１や後処理部３が隣接されていない装置についても適用可能である。すなわち、ウエット処理部の上流側および下流側に搬送ローラだけが設けられ、基板Ｓを搬送しつつウエット処理部において処理を行い、その前後では基板Ｓを搬送するだけの構成とされた基板処理装置や、ウエット処理部の隔壁に基板搬入搬出兼用の単一の開口部が設けられ、搬送ローラの駆動により基板Ｓを搬送しつつ前記開口部からウエット処理部内に基板Ｓを搬入して所定の処理を行った後、搬送ローラを反転駆動して前記開口部から基板Ｓを搬出するように構成された基板処理装置についても本発明は適用可能である。また、ウエット処理部に前処理部や後処理部が隣接されるが、基板の種類によっては前処理部や後処理部で基板の処理を行うことなく単に通過させるように構成された基板処理装置についても、勿論、本発明は適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明に係る基板処理装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】前処理部およびウエット処理部の各シャッタ装置の構成を示す斜視図である。
【図３】前処理部からウエット処理部への基板搬送時のシャッタ装置等の動作順序を示す図である。
【図４】本発明に係る基板処理装置の他の例を示す概略構成図である。
【図５】前処理部およびウエット処理部の各シャッタ装置の別の構成を示す側面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１ 前処理部
２ ウエット処理部
１０，２０ チャンバ（処理室）
１１ａ 開口部
１４，２４ シャッタ装置
１５，２５ シャッタ本体
１９ａ，１９ｂ エアノズル
Ｓ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板および半導体基板等の基板に処理液を供給する等して当該基板に各種処理を施す基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、複数のチャンバ（処理室）を有し、ＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板等の基板を搬送しながら、各チャンバ内で基板に処理液を供給することによりエッチングや洗浄等、予め定められた処理を順次基板に施す装置が知られている。この種の装置では、処理に伴いチャンバ内に充満したミスト状の処理液が、基板搬送用の開口部を通じて隣接するチャンバ（隣接チャンバという）に侵入し、当該チャンバでの基板の処理に悪影響を与えることが考えられる。そこで、例えば特許文献１に記載されるように、隣接チャンバ内にシャッタを設け、基板の搬送時にだけ開口部を開くことにより隣接するチャンバへのミストの侵入を防止することが行われている。
【特許文献１】特開２０００−５８５０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、特許文献１の装置では、開口部の閉止時にシャッタに付着したミストがシャッタ作動時に隣接チャンバ内に飛散することが考えられる。特に、特許文献１のシャッタは、水平軸周りに回動してチャンバ内側に倒れ込む可倒式の構造であるため、付着したミスト等がシャッタ作動時（特に開放時）に飛散し易い。
【０００４】
また、特許文献１の装置でも、基板の搬送中は、開口部が開き放しになるため、依然として開口部を通じて隣接チャンバにミストが侵入し易く、従って、隣接チャンバ内へのミストの侵入を防止する上で未だ改善の余地が残されている。
【０００５】
本発明は、上記のような事情に鑑みて成されたものであり、隣接するチャンバ（処理室）内にミスト状の処理液が侵入するのをより効果的に防止することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明の基板処理装置は、基板に処理液を供給して所定のウエット処理を基板に施すウエット処理室を有し、基板が搬送されつつ前記ウエット処理室の隔壁に形成される基板搬送用の開口部を介して当該ウエット処理室に対して基板の出し入れが行われる基板処理装置において、前記開口部を前記ウエット処理室の室内側から開閉するシャッタ本体を備える第１シャッタ手段と、前記開口部を前記ウエット処理室の室外側から開閉するシャッタ本体を備える第２シャッタ手段と、前記ウエット処理室の室外側に配備されて、前記開口部を通過する基板に対して気体を供給することにより、当該基板表面にウエット処理室の室内側に向って流動する気体流を形成する気体流形成手段と、を備えるものである（請求項１）。
【０００７】
この構成によると、ウエット処理室内にもシャッタ手段（第１シャッタ手段）が配備されているため、ウエット処理室外のシャッタ手段（第２シャッタ手段）のシャッタ本体に処理液（ミスト）が付着し難くなる。従って、第２シャッタ手段に付着したミストやその乾燥物がシャッタ作動時にウエット処理室の室外側に飛散するのを有効に防止することができる。しかも、開口部の開放中、つまり基板が開口部を通過する際には、気体流形成手段により基板表面にウエット処理室の室内側に向って流動する気体流が形成されるため、
開口部を通じてウエット処理室内からミストが流出することも有効に防止される。
【０００８】
この場合、前記開口部を介して前記ウエット処理室に連通し、かつ前記ウエット処理の前処理、又は後処理を基板に施す隣接処理室を有するものでは、この隣接処理室に前記第２シャッタ手段および気体流形成手段が配備される（請求項２）。
【０００９】
この構成によれば、シャッタ作動時に隣接処理室内にミストが飛散したり、基板搬送中に前記開口部を通じてミストが隣接処理室内に侵入するのを有効に防止することができる。
【００１０】
上記のような装置においては、前記シャッタ本体により前記開口部を閉止する閉止状態と、所定の退避位置に前記シャッタ本体を退避させることにより前記開口部を開放する開放状態とに前記各シャッタ手段の駆動状態を切り替え制御するシャッタ制御手段をさらに有し、このシャッタ制御手段は、基板が前記開口部を通過する際には、前記第１シャッタ手段を閉止状態から開放状態に切り替える直前に、前記第２シャッタ手段を閉止状態から開放状態に切り替えるものであるのが好適である（請求項３）。
【００１１】
このような装置によれば、基板搬送時には、ウエット処理室の室内側の第１シャッタ手段よりも常に室外側の第２シャッタ手段が先に開放状態に切り替えられるため、第２シャッタ手段のシャッタ本体への処理液（ミスト）の付着が有効に防止される。
【００１２】
この場合、前記気体流形成手段を制御する気体流形成制御手段をさらに有し、この気体流形成制御手段は、第１シャッタ手段の閉止状態から開放状態への切り替え動作に同期して気体の供給を開始するものであるのが好適である（請求項４）。
【００１３】
この構成によれば、開口部が開放されるのと同時に気体の供給が開始されるため、ウエット処理室内からの処理液（ミスト）の流出がより効果的に防止される。
【００１４】
なお、上記のような装置において、前記各シャッタ手段のうち少なくとも第２シャッタ手段は、前記シャッタ本体を前記隔壁の壁面に沿ってスライドさせることにより前記開口部を開閉するように構成されているのが好適である（請求項５）。
【００１５】
このように隔壁の壁面に沿ってシャッタ本体をスライドさせる構成によれば、所謂可倒式の開閉構造のようにシャッタ本体が大きく揺動することがなく、そのため、仮にシャッタ本体に処理液（ミスト）が付着した場合でもミスト等の飛散が起きに難くなる。
【００１６】
また、ウエット処理室に隣接する隣接処理室を有する装置において、前記隣接処理室は、当該処理室内において前記開口部の近傍を包囲するように形成される予備室と、この予備室内の雰囲気を排気する排気手段とをさらに備えているのが好適である（請求項６）。
【００１７】
この構成によると、第２シャッタ手段による開口部の開放動作に伴いシャッタ本体に付着した処理液（ミスト）が飛散し、あるいは開口部を通じてミストがウエット処理室側から隣接処理室側に侵入した場合でも、速やかに予備室から当該ミストが外部排出されることとなる。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１〜６に係る基板処理装置によると、ウエット処理室外への処理液（ミスト）の飛散、流出をより効果的に防止することができる。特に、請求項３や請求項５に係る装置によれば、第２シャッタ手段のシャッタ本体に付着したミストが当該シャッタ本体の作動に伴いウエット処理室外において飛散するという不都合を効果的に防止することができ、
また、請求項４に係る装置によれば、基板搬送中に開口部を通じてミストがウエット処理室外に流出するのを効果的に防止することができる。さらに、請求項６に係る装置によれば、仮に開口部を通じてミストが隣接処理室に侵入等した場合でも、当該ミストは直ちに予備室から外部に排気されるので、隣接処理室への実質的なミストの侵入を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の好ましい実施の形態について図面を用いて説明する。
【００２０】
図１は、本発明に係る基板処理装置の一例を示している。この図に示す基板処理装置は、基板Ｓを搬送しながら予め定められた順序で所定の処理を基板Ｓに施すプロセス処理装置であり、同図はその一部分を概略的に示している。
【００２１】
この図に示すように、基板処理装置は、薬液（処理液）を基板Ｓに供給して所定の薬液処理を施すウエット処理部２と、その前処理としてドライ洗浄等の処理を基板Ｓに施す前処理部１とを備えている。各処理部１，２は、それぞれ箱形の密閉されたチャンバ１０，２０（処理室）を有している。これらのチャンバ１０，２０は、隔壁１１を共有して隣接されると共に、当該隔壁１１に形成される基板搬送用の開口部１１ａを通じて互いに連通している。開口部１１ａは、幅方向（基板Ｓの搬送方向と直交する方向；同図では紙面に直交する方向）に細長い長方形の形状であって基板Ｓを通過させるのに必要かつ十分な大きさに形成されている。なお、以下の説明において「上流側」「下流側」というときには基板Ｓの搬送方向に基づくものとする。
【００２２】
各チャンバ１０，２０の内部には、複数の搬送ローラ５が所定間隔で配備されており、基板Ｓがこれら搬送ローラ５の駆動により水平姿勢で搬送されるように構成されている。なお、基板Ｓは、傾斜姿勢（例えば搬送方向と直交する方向においてその一方側から他方側に傾斜する姿勢）で搬送されるものであってもよい。
【００２３】
前処理部１のチャンバ１０（本発明に係る隣接処理室に相当する）の内部には、同図に示すように、開口部１１ａを包囲する予備室１２が区画形成されている。これによりチャンバ１０内において開口部１１ａを含む一部の空間がそれ以外の空間から隔離されている。
【００２４】
予備室１２のうち前記隔壁１１に対向する壁面には、基板Ｓの通過口１２ａが形成されており、この通過口１２ａを通じて基板Ｓが予備室１２を通過する構成となっている。また、この予備室１２には、その天井部分に排気通路１２ｂが連通接続されている。この排気通路１２ｂは、チャンバ１０の外部に導出されるとともに負圧ポンプ１３等に接続されており、これによって予備室１２内の雰囲気が常に排気されるように構成されている。なお、この実施形態では、この排気通路１２ｂ及び負圧ポンプ１３等が本発明の排気手段に相当する。
【００２５】
予備室１２内には、前記開口部１１ａを開閉するシャッタ装置１４（本発明の第２シャッタ手段に相当する）が配備されている。
【００２６】
このシャッタ装置１４は、開口部１１ａを前処理部１側から開閉するためのシャッタ本体１５と、このシャッタ本体１５を駆動する駆動機構とから構成されている。
【００２７】
シャッタ本体１５は、幅方向に細長な平板形状を有し、全体が耐薬品性を有する材料から構成されている。駆動機構は、このシャッタ本体１５を隔壁１１の壁面に沿って上下動させるように構成されている。具体的には、図２に示すように、隔壁１１に沿ってシャッタ本体１５を案内するガイド１６と、このガイド１６に設けられるラック１６ａ，１６ｂと、これらラック１６ａ，１６ｂに各々噛合するピニオン１７ａ，１７ｂを具備する駆動軸１７と、この駆動軸１７を駆動するモータ１８等を有し、前記駆動軸１７の正逆回転駆動に応じて、シャッタ本体１５を、前記開口部１１ａを閉止する位置（図１の実線で示す位置）と、開口部１１ａよりも下方に退避して当該開口部１１ａを開放する位置（図１の二点鎖線で示す位置）とに移動させるように構成されている。なお、以下の説明では、シャッタ本体１５により開口部１１ａが閉止されている状態をシャッタ装置１４の「閉止状態」と、シャッタ本体１５が開口部１１ａの下方に退避して当該開口部１１ａが開放されている状態をシャッタ装置１４の「開放状態」と称する。
【００２８】
チャンバ１０内には、さらに、予備室１２の直ぐ上流側の位置に上下一対のエアノズル１９ａ，１９ｂが配備されている。これらエアノズル１９ａ，１９ｂは、幅方向に連続的に、又は断続的に延びるスリット状の開口を有する、所謂スリットノズルからなり、搬送中の基板Ｓの上下各面に対してそれぞれ上流側から下流側に向かって（つまり、ウエット処理部２側に向かって）斜め方向に帯状のエアを吐出し得るように構成されている。
【００２９】
これらエアノズル１９ａ，１９ｂは、電磁バルブ等を有するエア供給管１９を介して図外のエア供給源に接続されており、前記電磁バルブ等の制御に応じて各エアノズル１９ａ，１９ｂからのエアの吐出と停止の切換え、およびエア吐出量の調整が行われるように構成されている。
【００３０】
一方、ウエット処理部２のチャンバ２０（本発明に係るウエット処理室に相当する）内部には、基板Ｓに対して薬液を供給するための複数の液ノズル２２が配備されている。これらの液ノズル２２は、薬液を噴霧する、所謂スプレーノズルからなり、搬送ローラ５の上部に所定の配列で配置されている。これら液ノズル２２は、電磁バルブ等を有する薬液供給管２３を介して図外のエア供給源に接続されており、前記電磁バルブ等の制御に応じて各液ノズル２２からの薬液の噴霧と停止の切換え、および薬液吐出量の調整が行われるように構成されている。
【００３１】
また、チャンバ２０内には、前記シャッタ装置１４とは別に、ウエット処理部２側から前記開口部１１ａを開閉するためのシャッタ装置２４（本発明の第１シャッタ手段に相当する）が配備されている。
【００３２】
このシャッタ装置２４は、前処理部１のシャッタ装置１４と共通の構成を有している。すなわち、開口部１１ａを開閉するためのシャッタ本体２５と、このシャッタ本体２５を駆動する駆動機構とから構成されており、シャッタ本体２５により開口部１１ａを塞ぐ「閉止状態」と、シャッタ本体１５を開口部１１ａの下方に退避させて当該開口部１１ａを開放する「開放状態」とに切り替え可能に構成されている（図１中に実線および二点鎖線で示す状態）。
【００３３】
なお、上記基板処理装置は、ＣＰＵ等を構成要素とするコントローラ６（図２参照）を有しており、排気通路１２ｂ、各供給管１９，２３等に設けられる各電磁バルブや、シャッタ装置１４，２４のモータ１８等は、全てこのコントローラ６に接続されることにより当該コントローラ６によって統括的に制御されるようになっている。特に、前処理部１からウエット処理部２への基板Ｓの搬送時には、コントローラ６の制御により、シャッタ装置１４，２４による開口部１１ａの開閉等の動作が図３に示す順序に従って行われることにより、ウエット処理部２から前処理部１へのミスト状の薬液の侵入が防止されるようになっている。以下、この点について説明する。なお、この実施形態では、このコントローラ６が、本発明に係るシャッタ制御手段および気体流形成制御手段に相当する。
【００３４】
この装置では、基板Ｓの処理中は、図１の実線に示すように各処理部１のシャッタ装置１４，２４が閉止状態に駆動制御される。これにより各チャンバ１０，２０が非連通状態となり、基板Ｓの処理中にウエット処理部２側で発生したミスト状の薬液（以下、単にミストという）が前処理部１側へ侵入することが防止される。
【００３５】
各処理部１，２において基板Ｓの処理が終了すると、ウエット処理部２の基板Ｓが次工程に搬出されると共に、前処理部１の基板Ｓがウエット処理部２に搬送される。
【００３６】
この際、前処理部１からウエット処理部２への基板Ｓの搬送に際しては、図３に示す順序に従って開口部１１ａの開閉等の動作が行われる。
【００３７】
まず、連続搬送されてくる基板Ｓが、エアノズル１９ａ，１９ｂよりも上流側の所定位置に到達したことが図外のセンサにより検出されると、前処理部１のシャッタ装置１４が開放状態に切り替えられる。そして、当該シャッタ装置１４が完全な開放状態となると、ウエット処理部２のシャッタ装置２４が開放状態に切り替えられると共に、エアノズル１９ａ，１９ｂからのエアの吐出が開始される。
【００３８】
これによって基板Ｓが予備室１２を通過しつつ開口部１１ａを通じて前処理部１（チャンバ１０）からウエット処理部２（チャンバ２０）に搬入される。
【００３９】
なお、このように開口部１１ａが開放されると、ウエット処理部２側から開口部１１ａを介して前処理部１側にミストが侵入する場合があるが、上記のように予備室１２内の雰囲気が吸引排気されている結果、当該ミストは排気通路１２ｂを通じて導出されることとなる。また、基板Ｓが予備室１２を通過している最中は、エアノズル１９ａ，１９ｂから吐出されるエアにより、基板Ｓの上下両面に沿って上流側から下流側に向かうエア流が形成されることとなり、その結果、開口部１１ａを通じたチャンバ１０内へのミストの侵入や、通過口１２ａを通じた上流側へのミストの流動が防止される。従って、ミストが予備室１２から上流側に侵入することがなく、これによって前処理部１内への実質的なミストの侵入が防止されることとなる。
【００４０】
基板Ｓの搬送が進み、基板Ｓがウエット処理部２の処理室２０内に完全に搬入されると、上記と逆の順序で開口部１１ａが閉止される。すなわち、ウエット処理部２のシャッタ装置２４が閉止状態に切り替えられると共に、これと同時にエアノズル１９ａ，１９ｂからのエアの吐出が停止され、その後、前処理部１のシャッタ装置１４が閉止状態に切り替えられる。これによって以降、各処理部１，２において基板Ｓの処理がそれぞれ開始されることとなる。
【００４１】
以上のような基板処理装置によると、前処理部１のチャンバ１０内のみならず、ウエット処理部２内にもシャッタ装置２４が設けられて、シャッタ本体２５により開口部１１ａが開閉されるように構成されているので、前処理部１側のシャッタ本体１５へのミストの付着が効果的に防止される。つまり、開口部１１ａの閉止中にミストが前処理部１側のシャッタ本体１５に付着することが有効に防止される。
【００４２】
しかも、この装置では、図３に示すように、開口部１１ａを開放する際には、まず前処理部１側のシャッタ装置１４が開放状態に切り替えられた後に、ウエット処理部２側のシャッタ装置２４が開放状態に切り替えられ、他方、開口部１１ａを閉止する際には、まずウエット処理部２側のシャッタ装置２４が閉止状態に切り替えた後に、前処理部１側のシャッタ装置１４が閉止状態に切り替えられるので、前処理部１側のシャッタ本体１５が単独で開口部１１ａを塞いでいる状態がない。そのため、前処理部１側のシャッタ本体１５へのミストの付着が効果的に防止される。
【００４３】
その上、各シャッタ装置１４，２４は、上記の通り、シャッタ本体１５，２５を隔壁１１に沿って上下にスライドさせることにより開口部１１ａを開閉する構成であるため、可倒式のシャッタ装置のようにシャッタ本体が大きく揺動することがなく、そのため、シャッタ本体１５，２５にミストが付着した場合でも開閉動作に伴うミストの飛散が起き難い。
【００４４】
従って、開口部１１ａを開放する際にシャッタ本体１５に付着したミストが前処理部１のチャンバ１０内に飛散するとう事態が軽減され、その結果、ウエット処理部２から前処理部１へのミストの侵入が効果的に防止されることとなる。
【００４５】
加えて、この基板処理装置では、前処理部１のチャンバ１０内部に、開口部１１ａを包囲するように予備室１２が区画形成されており、この予備室１２の雰囲気が吸引排気されるように構成されると共に、この予備室１２の直ぐ上流側にエアノズル１９ａ，１９ｂが配備され、開口部１１ａの開放中は、エアノズル１９ａ，１９ｂから吐出されるエアにより、基板Ｓの上下両面に沿ってエア流が形成される構成となっている。そのため、開口部１１ａを通じたチャンバ１０内へのミストの侵入（流出）や、通過口１２ａを通じた上流側へのミストの流出が防止され、また、開口部１１ａを通じて予備室１２内にミストが侵入した場合でも、当該ミストは速やかに外部に排出される。従って、ウエット処理部２から前処理部１への実質的なミストの侵入が有効に防止されることとなる。
【００４６】
ところで、上述した基板処理装置は、本発明に係る基板処理装置の好ましい実施形態の一例であって、その具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【００４７】
例えば、上記の実施形態では、ウエット処理部２から前処理部１へのミストの侵入を防止するために本発明を適用した例について説明したが、本発明は、ウエット処理部２とその後処理部との関係においても適用可能である。例えば図４はその一例を示している。この装置では、ウエット処理部２のチャンバ２０と後処理部３のチャンバ３０との隔壁１１′（境界壁）に基板搬送用の開口部１１ａ′が形成されており、この開口部１１ａ′を通じてウエット処理部２側から後処理部３側へ基板Ｓが搬送されるように構成されている。同図に示すように、ウエット処理部２のチャンバ２０内にはシャッタ装置２４′（本発明に係る第１シャッタ手段に相当する）が、後処理部３のチャンバ３０内にはシャッタ装置１４′（本発明に係る第２シャッタ手段に相当する）がそれぞれ配備されている。これらシャッタ装置１４′，２４′の構成は、上記実施形態のシャッタ装置１４，２４と同一である。また、後処理部３のチャンバ３０内には、開口部１１ａ′を包囲するように予備室１２′が設けられ、この予備室１２′内が排気通路１２ｂ′を通じて吸引排気されるように構成されている。また、予備室１２′（通過口１２ａ′）の直ぐ下流側にはエアノズル１９ａ′，１９ｂ′が配備されており、基板Ｓの搬送中は、これらエアノズル１９ａ′，１９ｂ′から吐出されるエアにより基板Ｓの上下各面に沿ってウエット処理部２側に向かって流動するエア流が形成されるようになっている。なお、シャッタ装置１４′，２４′等の駆動制御は、図３において、前処理部１のシャッタ装置１４の動作を後処理部３のシャッタ装置１４′の動作に置き換えた順序で行われる。
【００４８】
このような図４に示す基板処理装置の構成によれば、ウエット処理部２側から後処理部３側へのミストの侵入を有効に防止することができ、上述した実施形態と同様の作用効果を享受することができる。
【００４９】
また、上記実施形態のシャッタ装置１４，２４では、ラックとピニオンによる駆動機構を適用してシャッタ本体１５，２５を隔壁１１に沿ってスライドさせるように構成されて
いるが、シャッタ本体１５，２５の駆動機構は、これ以外のものであってもよい。例えば、シャッタ本体１５，２５に上下方向に延びるねじ軸を螺合挿入し、このねじ軸の回転に伴いシャッタ本体１５，２５を上下方向に移動させる構成を作用してもよい。
【００５０】
また、シャッタ装置１４，２４は、上記実施形態のようにシャッタ本体１５，２５が隔壁１１に沿ってスライドするものに限らず、例えば図５（ａ）に示すようなものであってもよい。同図に示すシャッタ装置１４（２４）は、開口部１１ａと略同等の大きさの開口１５ａ（２５ａ）を一部に備えたシャッタ本体１５（２５）を有している。このシャッタ本体１５は、平行リンク３２，３２を介してそれぞれ隔壁１１に固定されたブラケット３１に支持されている。平行リンク３２，３２のうち一方側には駆動用リンク３４が一体に固定されており、このリンク３４の先端にエアシリンダ３６のロッド３６ａが連結されている。そして、エアシリンダ３６のロッド突出駆動状態では、同図に示すように、開口部１１ａと開口１５ａとが上下にずれた状態でシャッタ本体１５が隔壁１１に密接し、これにより開口部１１ａがシャッタ本体１５によって閉止される一方、エアシリンダ３６のロッド引き込み駆動状態では、図５（ｂ）に示すように、シャッタ本体１５が隔壁１１から離間する方向に平行移動し、これにより開口部１１ａを開放するように構成されている。そして、このように開口部１１ａが開放された状態では、シャッタ本体１５の開口１５ａと前記開口部１１ａとが基板搬送方向に並び、これにより開口１５ａを通じて基板Ｓの搬送が可能となるように構成されている。このようなシャッタ装置１４，２４の構成によれば、シャッタ本体１５，２５の姿勢を保った状態で開口部１１ａの開閉を行うので、上記実施形態のシャッタ装置１４等と同様に作動中にミストの飛散が起きに難く、従って、当該飛散に伴う前処理部１内へのミストの侵入を有効に防止することができる。
【００５１】
なお、本発明は、シャッタ装置１４，２４の具体的な構成として、従来のような可倒式のものを排除するものではないが、可倒式のシャッタ構造は、シャッタ本体をスライド、あるいは平行移動させる構造に比べてミストが飛散し易く、従って、シャッタ作動時のミストの飛散を防止する上では、上記実施形態等のようにシャッタ本体１５，２５をスライド、あるいは平行移動させる構成を採用するのが望ましい。
【００５２】
また、上記実施形態や図４の例では、前処理部１や後処理部３に予備室１２，１２′を設けているが、これは開口部１１ａ，１１ａ′から侵入したミストを速やかに外部排出するための工夫であり、例えばウエット処理部２内で発生するミストの量が少なく、前処理部１や後処理部３内へのミストの侵入が比較的起き難い場合には、予備室１２，１２′および排気通路１２ｂ等の構成を省略し、エアノズル１９ａ，１９ｂ，１９ａ′，１９ｂ′を開口部１１ａ、１１ａ′の直ぐ近傍に配置するようにしてもよい。
【００５３】
また、上記実施形態や図４では、ウエット処理部２に前処理部１や後処理部３が隣接された基板処理装置に本発明を適用した例について説明したが、本発明は、前処理部１や後処理部３が隣接されていない装置についても適用可能である。すなわち、ウエット処理部の上流側および下流側に搬送ローラだけが設けられ、基板Ｓを搬送しつつウエット処理部において処理を行い、その前後では基板Ｓを搬送するだけの構成とされた基板処理装置や、ウエット処理部の隔壁に基板搬入搬出兼用の単一の開口部が設けられ、搬送ローラの駆動により基板Ｓを搬送しつつ前記開口部からウエット処理部内に基板Ｓを搬入して所定の処理を行った後、搬送ローラを反転駆動して前記開口部から基板Ｓを搬出するように構成された基板処理装置についても本発明は適用可能である。また、ウエット処理部に前処理部や後処理部が隣接されるが、基板の種類によっては前処理部や後処理部で基板の処理を行うことなく単に通過させるように構成された基板処理装置についても、勿論、本発明は適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明に係る基板処理装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】前処理部およびウエット処理部の各シャッタ装置の構成を示す斜視図である。
【図３】前処理部からウエット処理部への基板搬送時のシャッタ装置等の動作順序を示す図である。
【図４】本発明に係る基板処理装置の他の例を示す概略構成図である。
【図５】前処理部およびウエット処理部の各シャッタ装置の別の構成を示す側面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１ 前処理部
２ ウエット処理部
１０，２０ チャンバ（処理室）
１１ａ 開口部
１４，２４ シャッタ装置
１５，２５ シャッタ本体
１９ａ，１９ｂ エアノズル
Ｓ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に処理液を供給して所定のウエット処理を基板に施すウエット処理室を有し、基板が搬送されつつ前記ウエット処理室の隔壁に形成される基板搬送用の開口部を介して当該ウエット処理室に対して基板の出し入れが行われる基板処理装置において、
前記開口部を前記ウエット処理室の室内側から開閉するシャッタ本体を備える第１シャッタ手段と、
前記開口部を前記ウエット処理室の室外側から開閉するシャッタ本体を備える第２シャッタ手段と、
前記ウエット処理室の室外側に配備されて、前記開口部を通過する基板に対して気体を供給することにより、当該基板表面にウエット処理室の室内側に向って流動する気体流を形成する気体流形成手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記開口部を介して前記ウエット処理室に連通し、かつ前記ウエット処理の前処理、又は後処理を基板に施す隣接処理室を有し、この隣接処理室に前記第２シャッタ手段および気体流形成手段が配備されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の基板処理装置において、
前記シャッタ本体により前記開口部を閉止する閉止状態と、所定の退避位置に前記シャッタ本体を退避させることにより前記開口部を開放する開放状態とに前記各シャッタ手段の駆動状態を切り替え制御するシャッタ制御手段をさらに有し、
このシャッタ制御手段は、基板が前記開口部を通過する際には、前記第１シャッタ手段を閉止状態から開放状態に切り替える直前に、前記第２シャッタ手段を閉止状態から開放状態に切り替えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記気体流形成手段を制御する気体流形成制御手段をさらに有し、この気体流形成制御手段は、第１シャッタ手段の閉止状態から開放状態への切り替え動作に同期して気体の供給を開始することを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか一項に記載の基板処理装置において、
前記各シャッタ手段のうち少なくとも第２シャッタ手段は、前記シャッタ本体を前記隔壁の壁面に沿ってスライドさせることにより前記開口部を開閉するように構成されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項２乃至５の何れか一項に記載の基板処理装置において、
前記隣接処理室は、当該処理室内において前記開口部の近傍を包囲するように形成される予備室と、この予備室内の雰囲気を排気する排気手段とをさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１】
基板に処理液を供給して所定のウエット処理を基板に施すウエット処理室を有し、基板が搬送されつつ前記ウエット処理室の隔壁に形成される基板搬送用の開口部を介して当該ウエット処理室に対して基板の出し入れが行われる基板処理装置において、
前記開口部を前記ウエット処理室の室内側から開閉するシャッタ本体を備える第１シャッタ手段と、
前記開口部を前記ウエット処理室の室外側から開閉するシャッタ本体を備える第２シャッタ手段と、
前記ウエット処理室の室外側に配備されて、前記開口部を通過する基板に対して気体を供給することにより、当該基板表面にウエット処理室の室内側に向って流動する気体流を形成する気体流形成手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記開口部を介して前記ウエット処理室に連通し、かつ前記ウエット処理の前処理、又は後処理を基板に施す隣接処理室を有し、この隣接処理室に前記第２シャッタ手段および気体流形成手段が配備されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の基板処理装置において、
前記シャッタ本体により前記開口部を閉止する閉止状態と、所定の退避位置に前記シャッタ本体を退避させることにより前記開口部を開放する開放状態とに前記各シャッタ手段の駆動状態を切り替え制御するシャッタ制御手段をさらに有し、
このシャッタ制御手段は、基板が前記開口部を通過する際には、前記第１シャッタ手段を閉止状態から開放状態に切り替える直前に、前記第２シャッタ手段を閉止状態から開放状態に切り替えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記気体流形成手段を制御する気体流形成制御手段をさらに有し、この気体流形成制御手段は、第１シャッタ手段の閉止状態から開放状態への切り替え動作に同期して気体の供給を開始することを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか一項に記載の基板処理装置において、
前記各シャッタ手段のうち少なくとも第２シャッタ手段は、前記シャッタ本体を前記隔壁の壁面に沿ってスライドさせることにより前記開口部を開閉するように構成されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項２乃至５の何れか一項に記載の基板処理装置において、
前記隣接処理室は、当該処理室内において前記開口部の近傍を包囲するように形成される予備室と、この予備室内の雰囲気を排気する排気手段とをさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００９−７６８５６（Ｐ２００９−７６８５６Ａ）
【公開日】平成２１年４月９日（２００９．４．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１４６６６９（Ｐ２００８−１４６６６９）
【出願日】平成２０年６月４日（２００８．６．４）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年４月９日（２００９．４．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年６月４日（２００８．６．４）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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