【課題】ウェーハの研磨時に欠陥の原因となる粗大粒子が従来に比べて大幅に低減された、また、これによりウェーハの研磨時において、ウェーハ表面のナノオーダーの欠陥を低減できる研磨スラリーの供給方法及び供給装置、並びに研磨装置を提供することを目的とする。
【解決手段】スラリー原液と純水とを混合した研磨スラリーを研磨装置に供給する供給方法であって、計量された前記スラリー原液に対して前記純水を単位時間当たりに所定量加えるように制御しながら前記スラリー原液と前記純水とを混合する工程と、該混合された研磨スラリーを前記研磨装置に供給する工程とを含むことを特徴とする研磨スラリーの供給方法。 （もっと読む）

【課題】濾過材料の局部的なスラッジの堆積を防止すること。
【解決手段】冷却媒体を循環させる循環経路に設けられ、冷却媒体を貯留させるコンベアタンク（濾過槽）２２と、前記コンベアタンク２２内にて前記冷却媒体に混在するスラッジを取り除く濾過材料２３とを有する冷却媒体濾過装置において、前記コンベアタンク２２に貯留される冷却媒体に浸された状態で冷却媒体を排出する排出部５０が、異なる複数方向に向けて排出口５０ｂを有する。 （もっと読む）

【課題】カップ形砥石の砥粒面と被加工物の摺接部である加工点へ研削液を効率よく供給し、加工点に給液された研削液を周辺に飛散させずに回収することができる給液構造を提供する。
【解決手段】カップ形砥石２０の全周を覆うように筒状のカバー３０が設けられ、カップ形砥石２０の台金２１には、中央壁部２２のスピンドル１０側の面に設けた受液部２５から中央壁部２２を貫通し、周壁２３の内側に開口した複数の給液穴２６が形成され、カバー３０は、台金２１の周壁２３及び砥粒層２４の外周を小間隙Ｓを介して取り囲む円筒状周壁３１を有し、カップ形砥石２０の回転により研削液を小間隙Ｓ内を通してカバーの内側方向に移動させるポンプ手段２７，３２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】研磨布のドレッシング状態の変化によって生じる研磨速度の変化による研磨代のばらつきを抑制し、仕上がり厚さを高精度に制御できるシリコンウェーハの研磨方法及び研磨装置を提供する。
【解決手段】所定の研磨代となるように研磨時間を設定し、タンク内に貯蔵された研磨剤を研磨布に供給しながらシリコンウェーハを研磨布に摺接させて設定した研磨時間で研磨し、供給した研磨剤を前記タンク内に回収して循環させながらシリコンウェーハの研磨をバッチ式に繰り返すシリコンウェーハの研磨方法において、研磨布をドレッシングした後のバッチ回数の増加に伴って変化する研磨速度を予めデータベースに記録しておく工程と、所定の研磨代となるように研磨時間を設定する際に、データベースに記録された研磨布をドレッシングした後のバッチ回数の増加に伴って変化する研磨速度に基づいて研磨時間を設定する工程とを有するシリコンウェーハの研磨方法。 （もっと読む）

【課題】切削や研磨機械加工に防錆剤や防腐剤を水に混ぜ合わせて使用する必要がなく、しかも切削性が向上する水性研削・切削液の電気分解処理方法の提供。
【解決手段】対象とする水性研削・切削液中に、一対の交流電極板と２つの接地電極板を挿入し、該交流電極に交流電源を通電させて高周波交流により電気分解処理を行うに際し、交流の発振周波数約５〜１００KHzを中心に変動幅±３〜５KHzのＦＭ変調をかけ、ランダム信号発生器を内蔵した装置で、ゆるやかな上下周波数変動中に急激に周波数上昇又は下降の変化する部分をもたらすことによって電界干渉を発生させ衝撃波を作り、上記電気分解により発生する水素量を多くするとともにナノバブルまで小さくした酸素を発生させる。 （もっと読む）

【課題】特に大きなサイズの基板を研磨する際、スラリー流量を減らすことなく、中央付近の研磨量を確保し背厚を低減して正常な研磨を行うとともに、スラリーの循環を良くすることで、研磨した基板の成分が基板の被研磨面に再付着することを抑制する。
【解決手段】一辺の長さが１０００ｍｍ以上の板状体を保持する板状体保持手段と、前記板状体保持手段に保持された前記板状体に対向して設置された研磨パッドと、を有し、前記研磨パッドは、前記板状体の対向面に形成され、前記研磨パッドと前記板状体との当接部にスラリーを供給する複数のスラリー供給孔と、前記板状体の対向面の中央部のみに形成され、前記当接部に供給された前記スラリーを吸引するスラリー吸引孔と、が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】切削油等の循環液体の濾過能力および冷却能力を高め、大型の機械類、あるいは複数の機械類における切削油等の循環液体の濾過および温度制御を可能にする。もしくは、同程度の濾過能力を得ながら、単位濾過部材面積あたりの設置面積を小さくして小型化を図る。
【解決手段】切削油循環装置１（循環液体濾過装置）は、切削油３（循環液体）が貯留される濾過タンク６と、濾過タンク６に切削油３が流入する流入部８と、濾過タンク６から切削油３が流出する流出部９と、濾過タンク６の内部空間を上下に区画し、その上方の空間を流入部８に繋がるダーティーサイドＤＳ、下方の空間を流出部９に繋がるクリーンサイドＣＳとするロールシート状の濾過部材１１と、濾過部材１１を濾過タンク６の水平方向一端側から送り出し、濾過タンク６の内部を上下に蛇行させながら通過させ、濾過タンク６の水平方向他端側で回収する濾過部材送給機構１２とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ワイヤソーにおいて、加工液に混ざった切削屑を除去し、切削屑の除去された加工液を再度ワイヤソーに供給する。
【解決手段】走行するワイヤ４１にワーク４４を押し当てて切断するワイヤソー２と、ワイヤソー２に加工液８を供給する供給槽６と、加工液８の回収槽５とを備えたワイヤソー２の加工液循環装置１であって、回収槽５は、回収された加工液８が供給される加工液貯留部１２と、加工液貯留部１２の一端に設けられた傾斜部１３と、回収槽５の幅方向両端に沿って周回可能な無端チェーン１８と、加工液貯留部１２の底面３５に沈降した切削屑２８を傾斜部１３上方へ掻き上げる複数のスクレーパー２３と、切削屑２８の排出口１１と、加工液貯留部１２の加工液８をオーバーフローさせて供給槽６に供給する加工液流出部７とから構成し、供給槽６は、回収槽５からオーバーフローする加工液８を貯留するとともにワイヤソー１に供給するように構成する。 （もっと読む）

【課題】半導体インゴットの切断工程又は半導体インゴットから切削した半導体ウエハの加工工程で排出される使用済みの冷却液の循環再使用を可能とする冷却液の回収方法及び装置を提供する。
【解決手段】半導体インゴットの切断又は半導体インゴットから切断された半導体ウエハの加工装置２から排出される使用済みの冷却液を処理して固形粒子を粗除去する遠心分離機４と、遠心分離機４で固形粒子が粗除去された使用済みの冷却液を濾過する直径０．０２μｍ以上の粒子を濾別可能なフッ素系樹脂からなる膜分離装置５と、膜分離装置５を透過した使用済み冷却液を加工装置２に還流させる還流手段と、を有する使用済み冷却液の回収装置１。 （もっと読む）

【課題】 研磨後のウェハの厚みばらつきを軽減しナノバブルの密度を高くする。
【解決手段】 ウェハを下定盤と上定盤とで挟んで研磨する研磨装置と、ナノバブルを含む所定の溶液を溜める溶液漕と、ナノバブル発生装置と、溶液を攪拌する攪拌部と、前記攪拌部から前記溶液漕へ接続する第一配管部と第二配管部と、第一配管部から分岐し攪拌部へ戻る第三配管部と、第一配管部内に設けられるアノード電極と、アノード電極と対向して設けられる第一カソード電極と、アノード電極と対向して設けられる第二カソード電極と、アノード電極と対向して設けられる第三カソード電極と、各電極が接続される電場発生装置と、から構成される循環系設備と、を備えて構成されることを特徴とするナノバブル循環型研磨装置。 （もっと読む）

【課題】 研磨による傷の発生を軽減し、安定した研磨が行えること。
【解決手段】 センターギアと、このセンターギアを回転軸とする上定盤と、このセンターギアを回転軸としつつ前記上定盤と向かい合うように配置される下定盤と、この下定盤の縁側に配置されるインターナルギアとから構成される研磨装置が用いられ、前記下定盤と前記上定盤との間に水晶ウェハを配置して前記水晶ウェハを研磨する水晶ウェハの研磨方法であって、前記水晶ウェハと前記上定盤および前記水晶ウェハと下定盤との間に所定のガスを気泡化したナノバブルを含むフッ化カリウム水溶液、水酸化ナトリウムと炭酸ナトリウムとの混合溶液、水酸化カリウム溶液の何れか１つの溶液を介在させて水晶ウェハを研磨することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スラリーが供される配管内や研磨装置内などに残留するスラリー残留物を確実に除去でき、かつ、フラッシング時間の短縮化を図れるスラリー循環装置を提供する。
【解決手段】スラリー循環装置３は、第１，第２供給タンク４１，４２と、第１，第２供給タンク４１，４２に貯留された液体を第１，第２ＣＭＰ装置２１，２２に供給する供給ライン４３と、第１，第２ＣＭＰ装置２１，２２に供給される液体の供給元を切り替える第１，第２循環弁４３６，４３７と、第１，第２ＣＭＰ装置２１，２２から排出される液体を第１，第２供給タンク４１，４２に回収する回収ライン６３と、液体の回収先を切り替えるセパレータ６４と、第１，第２供給タンク４１，４２に純水を補給する第１，第２ＤＩＷ補給部５３，５４と、第１，第２供給タンク４１，４２にアルカリ溶液を補給するアルカリ溶液補給部５５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 研磨後のウェハの厚みばらつきを軽減する。
【解決手段】 センターギアと、このセンターギアを回転軸とする下定盤と、この下定盤の縁側に配置されるインターナルギアと、前記センターギアを回転軸としつつ前記下定盤と向かい合うように配置される上定盤とから構成される研磨装置と、前記研磨装置を内部に配置し研磨で使用した前記溶液を溜める溶液漕と、所定の溶液内にナノバブルを生成するナノバブル発生装置と、前記ナノバブルを含む前記所定の溶液を攪拌する攪拌部と、この攪拌部から前記研磨装置の上定盤に前記ナノバブルを含む前記溶液を供給する第一のポンプと、前記溶液漕に溜まった前記溶液を前記攪拌部へ供給する第二のポンプと、から構成される循環系設備と、を備え、前記研磨装置と前記溶液漕と前記循環系設備との前記溶液が接触する表面に、フッ素樹脂を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】イオン交換樹脂ボンベを交換した際に、イオン交換樹脂ボンベに溜まった空気を加工装置側に送ることなく排出することができる加工廃液処理装置を提供する。
【解決手段】廃液収容タンクと、加工廃液を濾過して清水に精製する廃液濾過手段と、廃液濾過手段によって精製された清水を貯水する清水貯水タンクと、清水を純水に精製するイオン交換樹脂を収容したイオン交換樹脂ボンベを含む純水生成手段と、純水生成手段によって精製された純水を上記加工装置に供給する加工液供給手段とを具備する加工廃液処理装置であって、純水生成手段のイオン交換樹脂ボンベと加工液供給手段とを結ぶ純水送出管と清水貯水タンクとを空気排出管によって接続し、空気排出管に開閉弁を配設するとともにイオン交換樹脂ボンベと加工液供給手段とを結ぶ純水送出管における空気排出管との接続部より加工液供給手段側に開閉弁が配設されている。 （もっと読む）

【課題】 助剤膜を形成する手間も時間もかからず、有価資源として高価値の銅粉を回収することができ、装置の大小に係わらず採用可能な濾過フィルタを提供することにある。
【解決手段】 本願発明の濾過フィルタは、プリント基板の研磨廃液を濾過するための濾過フィルタであって、メッシュ材からなる内袋及び外袋を備えるものである。内袋のメッシュ径を外袋のメッシュ径よりも大きくしてある。内袋及び外袋はいずれも可撓性を備えている。内袋及び外袋は縦長の袋状であり、下端側に開口部が設けられ、開口部から回収物を取り出せるようにしてある。開口部側には開口部を封止するための巻上げ部を設けてもよい。内袋と外袋の上端側に導入口を設けてある。内袋と外袋を連結してユニットとすることもできる。 （もっと読む）

【課題】作業者が棒の先に取付けた掻板で切くず箱または研削滓箱に回収するという労力が無くなり、１個のモータで沈降した切くずまたは、研削滓そして切削油剤中の微小切くず、または、研削滓を自動的に回収出来る。
【解決手段】１個のモータ１で、外側のスクレーパ１０で沈降した切くず、または、研削滓を排出し、同時に外側のロータ８の内部に設けた磁石９によってロータ８の下面外側に切削油剤または、研削油剤中の微小切くず、または、研削滓を吸着させて、切削液剤または、研削剤の中から回収し、さらに、内側スクレーパ１４で機外へ搬送するという１連の動作を連結した部品で同時に自動的に行い切くず、または、研削滓を回収することが出来る。 （もっと読む）

【課題】クーラント熱に対する断熱効果を有効に発揮でき、しかも積極的な冷却効果が期待できる工作機械を提供する。
【解決手段】装置本体２上の工作具にクーラントＣを供給してワークに対して工作を行う工作機械である。機械全体が全体カバー１０にて覆われる。クーラントＣを機外へ排出するクーラント排出路１５と、クーラント排出路１５に沿って配設させてミストＭを機外へ排出するミスト排出路１６とを備える。さらに、機内のミストＭをミスト排出路１６を介して機外へ排出することにより、外気を機内に導入して、その外気の循環によって、装置本体２へのクーラントＣの熱の伝達を抑制する断熱機構５０を備える。 （もっと読む）

【課題】切削屑や研削屑が付着して寿命に達したフィルターを容易に交換することができる加工廃液処理装置を提供する。
【解決手段】加工廃液を収容する廃液タンク２と、加工廃液を送給する加工廃液送給手段８と、廃液を濾過するためのカセットフィルター４と、カセットフィルター４を支持するとともに清水流出口を備えたフィルターラック５，６と、流出した清水を貯留する清水タンク７とを具備する加工廃液処理装置であって、フィルターラック５，６は清水流出口を備えた底壁と、底壁の外周縁から立設して設けられ底壁とともに清水パンを形成する側壁５６と、底壁の上面に配設されカセットフィルター５，６を載置するための支持面を備えた複数個の支持部材５７とを備えており、複数個の支持部材５７は間隔がフォークリフトのフォークが侵入可能な間隔に設定され、支持面の高さ位置が側壁の上面からフォークの厚みより高い位置に設定されている。 （もっと読む）