【課題】一対の部材間に介在する電子部品をシール剤層で好適に封止することができるとともに、該シール剤層の面積・形状及び位置を正確に制御することができる光デバイスの製造方法、及び、該光デバイスの製造方法により製造された光デバイスを提供する。
【解決手段】一対の部材間に介在する電子部品が、少なくとも前記電子部品を被覆可能な面シール剤部と該面シール剤部を囲繞する外枠シール剤部とからなるシール剤層により封止された構造を有する光デバイスの製造方法であって、一方の部材に未硬化の外枠シール剤部、及び、該未硬化の外枠シール剤部の内側に未硬化の面シール剤部を形成する工程（１−１）と、他方の部材を前記未硬化の外枠シール剤部及び面シール剤部を介して貼り合せる工程（１−２）とを有する光デバイスの製造方法。 （もっと読む）

例えばＯＬＥＤなどのエレクトロルミネセンスデバイスに使用するための可変抵抗ＰＥＤＴ／ＰＳＳバッファ層が提供される。別の実施形態によって、可変抵抗ＰＥＤＴ／ＰＳＳバッファ層を含むＯＬＥＤが提供される。さらに別の実施形態によって、キャストする前にＰＥＤＴ／ＰＳＳの水溶液に補助溶剤を添加することによって、水溶液から基板上にキャストされるＰＥＤＴ／ＰＳＳ層の導電率を変化させる方法が開発された。 （もっと読む）

【課題】トランジスタの特性のバラツキによる表示ムラの発生を抑制することが可能なＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】 ソース信号線１８に電圧Ｖｘを印加することにより、駆動用トランジスタ１１ａからのカソード電流Ｉ１が流れる。カソード電流Ｉ１はピックアップ抵抗Ｒで電圧に変換されて測定される。測定される電圧Ｖ＝Ｉ１×Ｒとなるように、ソース信号線１８に印加する電圧Ｖｘを調整する。画素１６の選択はスイッチＳをオンオフ制御することにより行う。カソード電流Ｉ１が所定値になった時のＶｘを、ＡＤ変換回路１７１１で測定し、メモリ３５１でメモリする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、高寸法精度の蒸着パターンを得ることができ、マスクフレームの変形を防止しつつマスクを張力が加えられた状態でマスクフレームに固定した高精度なマスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 マスク構造体１０は、マスク１２とマスクフレーム１６を備える。マスク１２は、開口領域１４を有する。マスクフレーム１６は、少なくとも互いに対向する一対の辺を有し、マスク１２が張力を印加した状態でマスク１２の端部が固定される枠体１８と、一対の辺を互いに接続し、開口領域１４同士の間の直下に配置される桟２０を有する。 （もっと読む）

【課題】キャリア輸送能の優れた導電層を形成することができる導電性材料用組成物、それを用いた導電性材料導電層、信頼性の高い電子デバイスおよび電子機器を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物と、メタクリル系エポキシ架橋剤とを含有する導電性材料用組成物。


［式中Ｘ^１〜Ｘ^４はグリシジルオキシアルキル基、Ｙは複素環基を含む基を表す］ （もっと読む）

【課題】 基板上に直接又は他の層を介して下部電極を形成し、該下部電極上に成膜層を積層した上に上部電極を形成する自発光素子の製造において、仮に下部電極上等の被成膜面上に異物や凹凸が存在する場合であっても、成膜欠陥部を形成しない。
【解決手段】 成膜室２０と、基板１を成膜室２０内で保持する基板保持手段２２と、成膜室２０内に圧力調整ガスＧｐを流入させる圧力調整ガス流入経路２０Ａと、圧力調整ガス流入経路２０Ａとは別に成膜室２０内に設けられ、成膜材料の原料ガスＧｍを発生する原料ガス発生部２１とを備え、成膜室２０内に圧力調整ガスＧｐを流入した加圧状態で、下部又は上部電極２，４、又は成膜層３の少なくとも一層を成膜する。 （もっと読む）

一対の電極間に有機化合物が挟まれた構造を有する発光素子の発光効率の経時的低下を抑制し、長寿命化できる発光素子の製造方法について提供することを課題とする。 一対の電極間に有機化合物からなる複数の層を有する発光素子の作製方法であって、前記複数の層のうち、少なくとも一の層の形成後または形成前に、電子受容性ガスを含む雰囲気に曝す処理をすることを特徴としている。なお、前記複数の層は、発光層を含むものであり、当該発光層と、正孔注入層、正孔輸送層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層から選ばれた一または二以上の層とで構成された層である。
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【課題】 発光素子の点灯率、およびディマー設定の条件によって発生するシャドーイングを、実用上において問題のないレベルに低減させることができる発光表示パネルの駆動装置および駆動方法を提供すること。
【解決手段】 アナログ映像信号は駆動制御回路１１およびＡ／Ｄ変換回路１２に供給され、Ａ／Ｄ変換回路１２において１画素毎に対応した画像データに変換されて画像メモリ１３に書き込まれる。画像メモリ１３に書き込まれた画像データに基づいて発光素子の点灯率が求められ、前記点灯率およびディマー設定データに基づいてルックアップテーブル１４より、走査ライン毎の期間ｔ１を制御する期間制御データが読み出される。前記期間制御データによって、非走査ラインに対する逆バイアス電圧の印加タイミングから、発光駆動電流としての定電流を点灯ラインに供給するまでの期間ｔ１が制御され、結果としてシャドーイングの発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】キャリア輸送能の優れた導電層を形成することができる導電性材料用組成物、かかる導電性材料用組成物を用いて得られたキャリア輸送能の優れた導電性材料、かかる導電性材料を主材料とする導電層、信頼性の高い電子デバイスおよび電子機器を提供する。
【解決手段】式（１）の化合物とエポキシ（メタ）アクリレート系架橋剤とを含む組成物。光重合開始剤を用いて重合させる。


［式中、Ｘは（メタ）アクリロイルオキシアルキル基、Ｙは複素環を含む基を表わす］ （もっと読む）

【課題】従来公知のフェニルピリジンのイリジウム錯体に較べて、ＵＶおよびＰＬスペクトルが短波長化された新規化合物、それよりなる発光材料、それを含む有機ＥＬを提供する。
【解決手段】一般式（２）


などのシアノフェニルピリジンイリジウム錯体および、それよりなる発光材料、有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子を提供する。
【解決手段】第１電極と第２電極との間に発光層を有する有機発光素子において、発光層は、マトリックスポリマー、二つ以上のリン光ホスト物質、及び一つ以上のリン光ドーパントを含む有機発光素子である。これにより、混合リン光ホスト物質を使用してエネルギー伝達効率を向上させることによって、素子の効率及び寿命特性を改善でき、スピンコーティングのような溶液工程で素子を製造できる。 （もっと読む）

【課題】 封止性を損なうことなく、しかも生産効率の低下を招くこともなく、これにより低コストで高品質の有機ＥＬ装置を製造し得る、有機ＥＬ装置の製造方法、及びこの製造方法によって得られる有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】 複数の素子領域３を有した複数個取りの大型素子基板１０に接着剤６を用いて大型封止基板１１を貼着し、その後スクライブライン５に沿って素子領域３毎に個片化する有機ＥＬ装置９の製造方法である。大型素子基板１０及び／又は大型封止基板１１の、スクライブライン５に沿って設けられる接着剤６に対してスクライブライン５側の側部に、スクライブライン５に沿って支持壁材１５を配しておくこと工程と、大型素子基板１０及び／又は大型封止基板１１の、スクライブライン５に沿う所定位置に接着剤６を設ける工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、動画質改善を行う場合でも、輝度半減寿命の減少を緩和する。
【解決手段】 有機ＥＬ素子をアクティブマトリックス駆動する場合、有機ＥＬ素子をアクティブマトリックス駆動する場合、１フレーム期間をＢ個のサブフレーム期間に分けて、Ａ（Ａは２以上の整数）階調レベル以上の階調表示を行う場合にのみ、第Ｂサブフレーム期間を含む全サブフレーム期間に表示部を表示駆動させる。この場合に、特定のサブフレーム期間から周辺のサブフレーム期間に順番に階調表示を行う。このことにより、低輝度階調では動画質改善を図ることができる。また、高輝度階調では、従来のホールド型表示と同様な寿命を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 良好な封止効果を得られるとともに、発光素子に接続される配線を良好且つ円滑に設けることができる有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。
【解決手段】 有機エレクトロルミネッセンス装置Ｓは、基板１と、基板１の第１領域Ｒと貼り合わせられる第２領域Ｃを有し、基板１との間で発光素子３を封止する封止空間Ｋ１を形成する封止部材２とを備えている。第１領域Ｒは、封止空間Ｋ１側の端部Ｅ１と封止空間Ｋ１の外側の外部空間Ｋ２側の端部Ｅ２とを接続するように設けられた平坦面１１と、平坦面１１近傍に設けられた壁面１４Ａ〜１４Ｄとを有している。 （もっと読む）

次の一般式を有する第１の繰り返し単位、
【化１】


ここで、各Ａｒは選択的に置換されたアリール又はヘテロアリールから独立して選択され、一般式（Ｉ）の基は、１０％以下のモル比において存在し、
かつ、選択的に、
５％を超えないモル比において、一般式−Ａｒ−Ｎ（Ａｒ）−Ａｒの主鎖に一つの窒素原子を有する選択的に置換された第２の繰り返し単位、
を含むポリマー。
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【課題】ｎチャネルＴＦＴによる画素回路において高品質な画像表示を可能とするとともに、コストダウンや歩留まり向上を可能とする。
【解決手段】
画素回路は、有機ＥＬ素子と、１個の保持容量と、サンプリングトランジスタ、ドライブトランジスタ、スイッチングトランジスタ、第１及び第２の検知トランジスタからなる５個のＮチャネル薄膜トランジスタとで構成する。そしてこの画素回路は、ドライブトランジスタの閾値電圧の変動と有機ＥＬ素子の経時劣化を補償する保持容量のブートストラップ機能（特性変動補償機能）を備え、電流駆動型の有機ＥＬ素子のＩ−Ｖ特性が経時変化やドライブトランジスタの閾値電圧変動を補償する。その上で、サンプリングトランジスタの導通制御を行う走査線（サンプリングトランジスタのゲートラインＷＳＬ）を、所定行数離れた行の画素回路の第１の検知トランジスタＴ４のゲートラインとして共用する。 （もっと読む）

【課題】 封止性を損なうことなく、しかも生産効率の低下を招くこともなく、これにより低コストで高品質の有機ＥＬ装置を製造し得る、有機ＥＬ装置の製造方法、及びこの製造方法によって得られる有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】 複数の素子領域３を有した複数個取りの大型素子基板１０に接着剤６を用いて大型封止基板１１を貼着し、その後、スクライブライン５に沿って素子領域３毎に個片化する有機ＥＬ装置９の製造方法である。大型素子基板１０及び／又は大型封止基板１１の、スクライブライン５に沿って設けられる接着剤６に対してスクライブライン５側の側部に、スクライブライン５と接着剤６との間にスクライブライン５に沿って溝１２を形成しておく工程と、大型素子基板及１０び／又は大型封止基板１１の、スクライブライン５に沿う所定位置に接着剤６を設ける工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子等の吸水剤として用いることができる、透明でありかつ吸湿性がある組成物を提供する。
【解決手段】 ポリシロキサンの主鎖の末端又は側鎖に、下式
−ＭＸ_mＹ_n
（上式中、Ｍは２価以上の金属原子又はＢもしくはＰ＝Ｏより選ばれ、Ｘは水素、又は置換されたもしくは未置換のアルキル基、アルケニル基もしくはアルコキシ基であり、Ｙは置換されたもしくは未置換のアルコキシ基、シロキシ基、カルボキシル基またはジケトレートであり、ｍは１〜３であり、ｎは０〜２である）
で表される基を含有する化合物を含む湿気反応性組成物。 （もっと読む）

【課題】 ディスプレイの均一性を改善し高解像度及び高光輝度を有するアクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子アレイを提供する。
【解決手段】 走査線及びデータ線によって定められた第１及び第２サブピクセル領域からなるアクティブマトリックス有機ＥＬ素子アレイを提供し、各第１サブピクセル領域は第１発光素子、第１制御ユニット、第２制御ユニットを有し、各第２サブピクセル領域は第２発光素子を有する。前記第１制御ユニットは前記第１発光素子を駆動するために前記第１発光素子に電気的に接続され、前記第２制御ユニットは前記第２発光素子を駆動するために前記第２発光素子に電気的に接続される。単位面積当たり発光効率の低い前記第２発光素子は、同一の駆動電流で駆動する場合前記第１、第２発光素子が均一な輝度を持ち得てその発光面積を増加させるように、前記第２サブピクセル領域に配置される。 （もっと読む）

【課題】 走査線電流の変動を低減し、表示むらやクロストークの少ない電気光学装置の駆動回路を提供する。
【解決手段】 電気光学装置の駆動回路において、表示部を階調制御する階調信号を生成する階調信号生成手段と、走査線のうち特定の走査線を選択し、この選択された走査線を接地する走査線切換え手段と、前記階調信号に基づいて前記各データ線に電流を供給するデータ線切換え手段と、を備え、前記階調信号生成手段は、所定のデータ線がオンからオフに遷移するタイミングで、この所定のデータ線と異なるデータ線がオフからオンに遷移するように、前記各データ線が遷移する遷移タイミングを決定し、この遷移タイミングを含んで前記階調信号を生成する。 （もっと読む）