【課題】有機材料薄膜の膜厚や膜質の面内均一性を向上させることができ、基板の面内の素子特性ばらつきを低減し良好なものに改善することができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】所定の温度に基板を加熱する工程を有する有機ＥＬ素子の製造方法において、加熱する基板が配置される容器と、基板を固定する部材と、不活性ガスを予め所定の温度に加熱する加熱手段と、加熱された不活性ガスを搬送する配管を具備し、予め所定の温度に加熱された不活性ガスを搬送し、前記容器内に充填又はフロー又は循環させて前記基板を加熱する工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 欠陥のない良好な封止膜を形成できる極めて実用性に秀れた画期的な有機膜形成用マスク，封止膜形成装置並びに封止膜の形成方法を提供することである。
【解決手段】 有機材料を入射して有機膜３を基板２上の有機ＥＬ素子１に被覆する際の前記開口部７の開口形状を、前記基板２に重合する側となるマスク裏面側端開口部７Ａの開口径とマスク表面側端開口部７Ｂの開口径とを同一開口径とせず、前記マスク裏面側端開口部７Ａの開口径が前記マスク表面側端開口部７Ｂの開口径より大きくなる開口形状に形成し、このマスク裏面側端開口部７Ａの前記有機ＥＬ素子１からの離反度を、このマスク裏面側端開口部７Ａと前記基板２上の有機ＥＬ素子１に被覆する前記有機膜３とが接触しない離反度に設定したものである。 （もっと読む）

【課題】ソフトモールドを形成するために使用するマスターモールドのサイズに依存せずに、工程整合性の高いソフトモールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のソフトモールドの製造方法は、ジグの上部にマスターモールドを載せる段階と、ジグ内にプレポリマー層を形成する段階と、プレポリマー層の上にバッグプレーン用基板を付着させる段階と、プレポリマー層を選択的に硬化させて選択的にポリマー層を形成する段階と、ジグ及びマスターモールドからポリマー層及びプレポリマー層を取り外す段階と、硬化していないプレポリマー層をとり除く段階とを含み、プレポリマー層は熱硬化またはＵＶ硬化させられ、熱硬化は、マイクロウェーブオーブン内で行われ、ＵＶ硬化は、透過領域と遮光領域とが定義されたマスクを利用して行われることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
エージング処理後に発生する修復痕の大きさを小さく抑えつつ、欠陥部を修復すること。
【解決手段】
本発明に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法では、基板１表面に、陽極配線２と、陰極配線５と、陽極配線２および陰極配線５の交差部の間に配置された有機発光層７とを有する素子基板１００を製造し（Ｓ２０１）、第１エージング条件下で、陽極配線２と陰極配線５の交差部の間にエージング電圧を印加し（Ｓ２０３）、第１エージング条件よりも厳しい第２エージング条件下で、陽極配線２と陰極配線５の交差部の間にエージング電圧を印加する（Ｓ２０４）。エージング条件を厳しくするのに、例えば、エージング電圧を上昇させるか、素子基板の周囲温度を上昇させる。 （もっと読む）

【課題】 複数の有機ＥＬ表示部を有する有機ＥＬ基板を封止・分断して複数の有機ＥＬディスプレイを製造する際に、接着幅を制御して、ガラス切断位置を広げることなく容易に切断できる封止ガラス基板を用い、安価で長寿命の有機ＥＬディスプレイの製造方法の提供。
【解決手段】 有機ＥＬ基板と、平板状のガラスから形成されており、有機ＥＬ基板の有機ＥＬ積層部のそれぞれに対応する位置の凹部と、凹部の周囲の接着領域と、接着領域周囲の接着剤逃げ溝とを有し、凹部と前記接着剤逃げ溝とは同一の深さを有する封止ガラス基板とを接着剤を用いて貼り合わせ；接着剤逃げ溝の内周壁側面より外側であり、かつ［封止ガラス基板の厚さ］−［接着剤逃げ溝の深さ］までの距離の位置で封止ガラス基板を分断し；接着剤逃げ溝の内周壁よりも外側の位置で有機ＥＬ基板を分断する有機ＥＬディスプレイの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 発光効率が高く、発光寿命の長い有機ＥＬ素子を提供することである。
【解決手段】 分散液を用いて形成される層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の少なくとも１層が棒状分子を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 （もっと読む）

【課題】 機能層膜厚のばらつきに起因する色むら、輝度むら等の発生を抑制できる有機ＥＬ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板１０２上に、画素電極１０８を形成する工程と、画素電極１０８が形成された基板１０２上に、画素電極１０８を囲む、上面の少なくとも一部が撥液性を有し、側面が親液性を有する隔壁１０を形成する工程と、隔壁１０で囲まれた画素電極１０８上に、液体材料を滴下し溶媒を除去することにより、少なくとも発光層１２４を含む機能層１２６を形成する工程と、機能層１２６が形成された基板１０２上に陰極層１２８を形成する工程と、を含む。それにより機能層膜厚のばらつきを起こしにくくし、色むら、輝度むら等の発生を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ膜を蒸着で形成するにあたって、蒸着時間を短縮することができると同時に、膜厚を再現性高く確保して成膜することができる有機ＥＬ素子の製造方法及を提供する。
【解決手段】 有機ＥＬ膜用の材料を蒸着して成膜することによって有機ＥＬ発光素子を製造する。その際に、高蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚以下にまで蒸着し、この蒸着膜厚を測定した後、膜厚測定結果に基づいて、低蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚まで蒸着する。高蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚以下にまで蒸着することによって、蒸着時間を短縮することができる。そして高蒸発レートで蒸着を行なうと膜厚のずれが大きいが、高蒸発レートで蒸着した膜厚を測定し、測定値と目標とする膜厚との差を、低蒸発レートで蒸着することによって、目標とする膜厚とずれの小さい膜厚で成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】表示部にＭＯＳプロセスによる埋め込みミラー構造を採用した場合に、専用の遮光膜を形成しなくても、回路部を動作上問題のないレベルに遮光することができる表示装置を提供する。
【解決手段】ＲＧＢの画素位置でそれぞれ光源体が発光する光を共振する光共振器を構成する３層の金属反射膜７，８，９が形成された表示部と、この表示部の周囲に設けられた回路部３と、この回路部３を覆う遮光膜５とを基板６に形成してなる表示装置の構成として、基板６の回路部３を覆う位置に、３層の金属反射膜７，９，１１を重ね合わせて遮光膜５を形成するとともに、各々の金属反射膜７，９，１１に平面的に位置をずらした状態で抜きパターン７Ａ，９Ａ，１１Ａを形成した。 （もっと読む）

【課題】 薄膜層を確実に比較的簡単に歩留まりよく形成出来、微細パターニングを可能にするパターン形成方法により基板上にパターン化し形成された複数の画素電極上に少なくとも１層の発光層を含む有機化合物層と第２電極とを有する有機ＥＬ素子の製造方法、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置の提供。
【解決手段】 帯状支持体上にパターン化し形成された複数の画素電極上に少なくとも１層の発光層を含む有機化合物層と第２電極とを有する有機ＥＬ素子の製造方法において、有機化合物層形成工程は転写手段を有し、前記転写手段は、感光体ドラムと、帯電装置と、静電潜像形成装置と、静電潜像パターンに応じて塗布液を吐出し、顕像パターンを形成する静電吸引ノズル吐出装置とを有し、前記顕像パターンを前記画素電極上に連続的に転写し、有機化合物層を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 有機発光インキを多数回連続して有機発光層を印刷により形成することができ、耐刷性を向上することができるブランケット及びこれを用いて製造される有機ＥＬ素子を提供すること。
【解決手段】 溶媒を含む有機発光インキの塗布膜が形成される最表層１２ａを備え、ネガパターンが形成された凸部に押圧されて塗布膜が凸部に転写され、最表層１２ａに残った塗布膜のパターンを有機発光層として被形成面に転写することにより有機ＥＬ素子を形成する際に使用されるブランケット１０であって、最表層１２ａが１ｍｍ以上の厚さを有している。 （もっと読む）

【課題】 センサの着脱といった煩雑な作業を要することなく発光装置の特性を補正する。
【解決手段】 光透過性を有する基板１２には複数の発光素子１４が形成される。反射体３５は、各発光素子１４から発せられて基板１２の側端面１２ｂから出射した光の進行方向を、基板１２の背面側に向かう方向に変化させる。センサ３０は、基板１２の背面側の空間に配置されて反射体３５による反射光を検出する。各発光素子１４の発光量の基準となる基準電位はセンサ３０による検出の結果に基づいて補正される。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ構造部の製造工程を簡略化するとともに、ソース・ドレイン電極の材質を限定せずとも、ＴＦＴチャネル部となる半導体層の膜厚を正確に制御することで、表示ムラを防止した電気光学表示装置を提供する。
【解決手段】活性領域層ＡＲ上から、画素電極３０の下方の透明絶縁性基板１の上方にかけて延在するようにドレイン電極２６が配設されている。ソース電極２４およびソース配線２５は、その端面が半導体膜６の何れの端面よりも後退した位置となるように配設され、活性領域層ＡＲ上のドレイン電極２６の端面も、半導体膜６のほぼ平行な関係にある端面よりも後退した位置となるように配設されている。 （もっと読む）

【課題】 大判を切断・分割して個々の自発光パネルを得るものにおいて、切断工程時の引出配線の損傷を防ぎ、製品歩留まりを向上させる。また、検査工程の効率化を図り生産性の向上を図る。
【解決手段】 複数の自発光部１２が形成されたマザー支持基板１０Ｌと、複数の自発光部１２に対応した複数の封止部１１Ａが配置されたマザー封止部材１１Ｌとを備え、マザー支持基板１０Ｌとマザー封止部材１１Ｌとの貼り合わせによって、複数の自発光部１２を複数の封止部１１Ａに対応させて封止する封止領域Ｓを形成している。マザー支持基板１０Ｌは、複数の自発光部１２から封止領域Ｓの外に引き出される引出配線部１２Ａが形成された引出領域１０Ａを有している。マザー封止部材１１Ｌは、引出配線部１２Ａを露出させる孔加工部１１Ｈを有している。 （もっと読む）

【課題】 有機発光層を印刷により形成する際に、最表層において有機発光インキが所望の半乾燥状態になるために必要な試し刷りの回数を減らすことができるブランケット及びこれを用いて製造される有機ＥＬ素子を提供すること。
【解決手段】 溶媒を含む有機発光インキの塗布膜が形成される最表層１２ａを備え、ネガパターンが形成された凸部に押圧されて塗布膜が凸部に転写され、最表層１２ａに残った塗布膜のパターンを有機発光層として被形成面に転写することにより有機ＥＬ素子を形成する際に使用されるブランケットであって、最表層１２ａが１ｍｍ未満の厚さを有していること。 （もっと読む）

【課題】膜状の有機層の組成を非破壊状態で容易に精度よく解析することができる分光エリプソメータを用いた、有機エレクトロルミネッセンス素子に用いられる有機物質の解析方法を提供する。
【解決手段】ステップＳ１で解析すべき試料の単層膜の透過率スペクトル又は吸収スペクトルを分光光度計で測定する。ステップＳ２で前記スペクトルに基づいて試料の組成及び構造の少なくとも一方を予測して多次元の誘電関数を設定する。ステップＳ３で分光エリプソメータで試料のエリプソパラメータΔ，ψを測定する。ステップＳ４で前記誘電関数を用いて試料のエリプソパラメータΔ，ψを計算し、前記エリプソパラメータΔ，ψの計算値と分光エリプソメータによる測定値との平均２乗誤差が最小又は許容範囲内になるように回帰解析法でフィッティングを行い最適な誘電関数を推定する。ステップＳ５で屈折率ｎ及び消衰係数ｋが求められる。 （もっと読む）

【課題】 色変換フィルタ層の膜厚を均一に形成し、安定した発光特性を維持する、見映えのよいカラー有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】 透明支持基板と、前記透明支持基板上に設けられた、３種以上の色変換フィルタ層を少なくとも有する色変換フィルタ基板において、前記色変換フィルタ層が、色の数をｎとしたとき、２（ｎ−１）個のサブピクセルで１つの画素を構成し、１つの色以外の各色はその色のサブピクセルは１画素あたり１サブピクセルであり、当該１つの色はその色のサブピクセルが互いに隣接することなく、一方の端及び他の色のサブピクセル１つを間に挟んだ位置で配置されていることを特徴とする色変換フィルタ基板、有機ＥＬディスプレイおよびそれらの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 基板全体において機能液のスジムラを目立ちにくくすることが可能なヘッドユニット、液滴吐出装置、液滴吐出方法、電気光学装置及び電子機器を提供すること。
【解決手段】 個々のヘッド１１４においてスジムラの発生しやすい位置、すなわち、各ヘッド１１４の基準ノズル１１８ＲのＸ方向上の位置を、ヘッド１１４毎にずらしているので、上記のようにキャリッジ１０３が基体１０Ａ上を走査しながら液体材料１１１を吐出する場合であっても、個々のヘッド１１４により吐出された液体材料１１１のスジムラの位置が重なることが無く、全体において液体材料のスジムラを目立ちにくくすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 高輝度化および省電力化を図ることが可能な有機ＥＬ素子、これを用いた有機ＥＬ表示装置、および有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】 互いに対向配置された陽極２および陰極４と、陽極２および陰極４の間に介在し、かつ発光層３ｂを含む有機層３と、を備える有機ＥＬ素子Ａ１であって、陽極２と有機層３との間には、Ｍｏ酸化物層５が介在している。 （もっと読む）

【課題】 製造工程における有機層の損傷を抑制し、高輝度化および省電力化を図ることが可能な有機ＥＬ素子、これを用いた有機ＥＬ表示装置、および有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】 互いに対向配置された陽極２および陰極４と、陽極２および陰極４の間に介在し、かつ発光層３ｂを含む有機層３と、を備える有機ＥＬ素子Ａ１であって、陰極４は、ＭｇＡｇ合金からなり、かつその厚さが２００Å以下である。 （もっと読む）