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Fターム[3K107FF08]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | パラメータ (13,035) | 表面物性 (345) | 粗度 (206)

Fターム[3K107FF08]に分類される特許

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【課題】高いバリア性能と、UVカット性とともに、デバイス素子用フィルムとして十分な耐水性、耐熱性(透明性、膜強度)、耐傷性にも優れる多機能のガスバリア性フィルムを提供し、該ガスバリア性フィルムを用いた有機素子デバイスを提供する。
【解決手段】基材の片面にガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、該ガスバリア層とは反対面にUVカット性を有している層を有し、かつ該UVカット性を有している層の表面にエンボス加工が施されていることを特徴とするガスバリア性フィルム及び有機素子デバイス。 (もっと読む)


【課題】光取り出し効率を向上するとともに、短絡の発生を低減し、高効率の光取り出しと電気特性向上とを両立した有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板1と、前記基板1表面に形成され光透過性を有する第1電極2と、少なくとも一つの有機発光層を含む有機層3と、前記有機層3の前記第1電極2とは反対側に形成された第2電極4とを含む。第1電極2は、導電性ナノ粒子又は導電性ナノワイヤーとバインダーとからなる第1透明導電層5、及び、導電性高分子からなる第2透明導電層6がこの順で基板1表面に形成されたものである。 (もっと読む)


【課題】印刷法により機能性材料を含むインキを被印刷体に面内均一に薄膜形成するための印刷装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る印刷装置は、網点またはセルの土手を形成するようにパターニングされた印刷版11と、この印刷版11を保持して回転する回転体12と、前記印刷版11にインキを供給する、表面が平滑な面で仕上げられたインキロール13と、前記印刷版11に供給されたインキが転写される被印刷体17を保持して移動する移動手段18とを具備している。 (もっと読む)


【課題】低照度から高照度にかけて広い照度範囲で光の取出し効率の高いガラス基板およびそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子の基板に用いる短冊状のガラス基板であって、厚さが30μm以上300μm以下であり、少なくとも一方の面は凸の曲率を持ち、幅方向の反りが0.5μm/mm以上であり、少なくとも他方の面の表面粗さRaが0.2nm以下であることを特徴とするガラス基板である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、表面平滑性に優れ、薄膜素子の特性劣化を抑制することが可能な薄膜素子用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、所定の方法で算出した相対溶存酸素飽和率が95%以下となるように、ポリイミド樹脂組成物を脱気する脱気工程と、金属基材上に、上記ポリイミド樹脂組成物を塗布して絶縁層を形成する絶縁層形成工程とを有し、上記絶縁層の表面粗さRaが30nm以下であることを特徴とする薄膜素子用基板の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】不完全結晶成長領域を含まない多結晶シリコンでゲート電極または遮光部材のような金属パターン上に位置する半導体層を形成することにより、駆動特性及び信頼性を向上させる薄膜トランジスタ、その製造方法、及びこれを含む表示装置を提供する。
【解決手段】多結晶シリコンで形成された半導体層142を含む薄膜トランジスタにおいて、前記半導体層と基板110との間に前記半導体層と絶縁するように位置する金属パターンをさらに含み、前記半導体層の多結晶シリコンは、結晶成長方向と平行な結晶粒界を含み、表面における波状線の最大ピークと最小ピークとの間の距離として定義される表面粗度が15nm以下である。 (もっと読む)


【課題】有機発光層から発生した光を効率良く外部に取り出せると共に、高いガスバリア性を有する基板材料を創案し、有機EL照明等の光の取り出し効率および信頼性を高めるガラス板を提供する。
【解決手段】板厚が2mm以下であり、且つ屈折率ndが1.55以上の板ガラス。ガラス組成としてBaO、Ti↓2O、Nb↓2O↓5、La↓2O↓3、ZnO、ZrO↓2を合わせて10〜60%含み、あるいはBaO、Ti↓2O、Nb↓2O↓5、La↓2O↓3、Gd↓2O↓3、WO↓3、Ta↓2O↓5、ZrO↓2を合わせて10〜70%含む。 (もっと読む)


【課題】支持体によって支持した樹脂フィルムに機能素子を高い精度で形成し易く、かつ、機能素子を形成した後、支持体から剥離し易い樹脂フィルム及びその製造方法並びに電子デバイス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】積層フィルム100は、両面の表面粗さが異なる第1の樹脂フィルム10と、両面の表面粗さが異なる第2の樹脂フィルム20と、を含み、第1の樹脂フィルムの表面粗さが大きい側の面と第2の樹脂フィルムの表面粗さが大きい側の面とが貼り合わされている。第1の樹脂フィルムと第2の樹脂フィルムとの間に無機層として、例えば金属層が挟まれていてもよい。 (もっと読む)


【課題】良好な特性を維持しつつ微細化を達成した半導体装置の提供を目的の一とする。さらに、これらの微細化を達成した半導体装置の良好な特性を維持しつつ、3次元高集積化を図ることを目的の一つとする。
【解決手段】絶縁層中に埋め込まれた配線と、絶縁層上の酸化物半導体層と、酸化物半導体層と電気的に接続するソース電極及びドレイン電極と、酸化物半導体層と重畳して設けられたゲート電極と、酸化物半導体層と、ゲート電極との間に設けられたゲート絶縁層と、を有し、絶縁層は、配線の上面の一部を露出するように形成され、配線は、その上面の一部が絶縁層の表面の一部より高い位置に存在し、且つ、絶縁層から露出した領域において、ソース電極またはドレイン電極と電気的に接続し、絶縁層表面の一部であって、酸化物半導体層と接する領域は、その二乗平均平方根粗さが1nm以下である半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】発光層の表面均一性を向上させることができる有機電界発光素子の製造方法の提供。
【解決手段】有機電界発光素子の製造方法は、陽極2と陰極8の間に、発光層5及び該発光層に隣接する隣接層を含む有機層を有してなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記発光層を、発光材料と、ホスト材料とを溶媒に溶解乃至分散させた塗布液を前記隣接層に塗布し、前記ホスト材料の融解温度よりも高く、かつ前記溶媒の沸点よりも高い温度で加熱して、形成することを含み、前記発光層の純水に対する接触角A(°)と、前記隣接層の純水に対する接触角B(°)との差の絶対値が13(°)以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐熱性および寸法安定性が高い絶縁層が形成された金属基材を備え、良好な素子特性を示す電子素子を提供する。
【解決手段】金属基材2と、上記金属基材上に形成され、ポリイミドを含む絶縁層3と、上記絶縁層3上に形成された電子素子部10を有し、上記絶縁層3の吸湿膨張係数が0ppm/%RH〜15ppm/%RHの範囲内であることを特徴とする電子素子1。 (もっと読む)


【課題】膜厚が均一であり且つボイド状欠陥が少ない絶縁層を有する無機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】無機エレクトロルミネッセンス素子は、基板18と、量子ドットを含み且つ基板の上方に配置される発光活性層11と、基板18と発光活性層11の間に配置される絶縁層15と、基板18と絶縁層15の間に配置される下部電極17と、発光活性層11の上方に配置される上部電極16とを少なくとも有する。絶縁層15が基板18の側において接する被堆積物17の表面を、先端径が10nmのAFM探針を用いて1μmの範囲で観察した時の算術平均粗さRaが3nm未満である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、これに用いられる有機エレクトルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は無機透明基板、上記無機透明基板上に形成された調色層、上記調色層上に形成された接着剤層、および上記接着剤層上に配置された透明性を有する補強層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタと、上記無機透明基板の調色層側表面とは反対側の表面に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】水分または酸素の浸透に対する抵抗性を効果的に向上させた封止薄膜を含む有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態による有機発光表示装置は、基板本体、前記基板本体上に形成された有機発光素子、前記基板本体上に形成されて前記有機発光素子をカバーし、0度より大きく50度以下の接触角を有する親水性表面を含む親水性高分子膜、そして前記親水性高分子膜の前記親水性表面上に形成された無機保護膜を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、従来の基板に比較して大幅に軽量化でき、かつ透明性とガスバリア性を兼ね備えた表示装置用基板を提供することである。
【解決手段】本発明は、透光性を有する少なくとも一対の超薄ガラス板間に、該超薄ガラス板の少なくとも1枚の厚さ以上の厚さを有する、少なくとも1層の接着性透光性樹脂層を含む板状体層が介在される表示装置用基板であって、該超薄ガラス板の表面粗さ(Ra値)が0.5nm以下であることを特徴とする表示装置用基板である。 (もっと読む)


【課題】低コストかつ簡便な塗布法による優れた透明性と高い導電性を備え、屈折率が小さく、平坦性に優れる低屈折率透明導電膜と、その製造方法を提供する。
【解決手段】主成分に有機インジウム化合物、有機錫化合物、有機亜鉛化合物のいずれか一つ以上の有機金属化合物である塗布液を用い、耐熱性基板上に塗布膜を形成し、乾燥塗布膜を形成させ、乾燥塗布膜を焼成して、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上が主成分の無機膜を形成する製造方法で、有機インジウム化合物、有機錫化合物、有機亜鉛化合物のいずれか一つ以上の有機金属化合物が主成分の乾燥塗布膜を、露点−10℃を越える酸素含有雰囲気下で、少なくとも無機成分の結晶化が起こる焼成温度以上まで昇温し、含まれる有機成分を除去することで、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上が主成分の微粒子間に空隙を有する低屈折率の導電性酸化物微粒子層を形成する。 (もっと読む)


【課題】駆動素子の破損が生じにくい表示装置用パネル、およびこれを用いた表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる表示装置用パネル100は、平面視において、表示領域12と、該表示領域12の外側に並設された制御領域14とを有する基板10と、平面視において、基板10の制御領域14内に固定された半導体素子20と、を含み、基板10の厚みは、半導体素子20の厚み以上であり、半導体素子20の表面の少なくとも一部は、算術平均高さ(Ra)が0.1nm以上10nm以下の輪郭曲線を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、金属層とポリイミド層とが積層された可撓性を有する基板上にTFTを作製した際に、金属箔表面の凹凸によるTFTの電気的性能の劣化を抑制することができ、TFTの剥離やクラックを抑制することができるフレキシブルデバイス用基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属箔と、上記金属箔上に形成され、ポリイミドを含む平坦化層と、上記平坦化層上に形成され、無機化合物を含む密着層とを有することを特徴とするフレキシブルデバイス用基板を提供することにより、上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】太陽電池や発光素子等の光学素子において、光の利用効率を改善することができるガラス基板及びガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一面の長手方向に、突条と条溝との周期的な繰り返し構造を有するガラス基板であって、波長300nm〜800nmのヘイズ率が30%以上であることを特徴とするガラス基板。ガラス母材の少なくとも一面に、突条と条溝との周期的な繰り返し構造を形成し、次に、前記ガラス母材を加熱して前記突条及び前記条溝の長さ方向に延伸する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、表面平滑性が高く、抵抗値の低い透明導電膜を有する透明導電性フィルムを提供することにある。
【解決手段】透明フィルム基板上にインジウムを含有する酸化物膜からなる透明導電膜が形成された透明導電性フィルムであって、前記透明導電膜が二層で構成され、基板側から一層目が結晶化した層であり、さらにその上の二層目がアモルファス層であることを特徴とする透明導電性フィルム。 (もっと読む)


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