【課題】異物によるリーク箇所を良好に修復する。
【解決手段】本発明の電気光学装置の製造方法は、第１電極５０と第２電極６０との間に電気光学物質層７０を有する電気光学装置の製造方法である。第１電極５０を形成する工程と、第２電極を形成する工程６０と、電気光学物質層７０を形成する工程と、電気光学物質層７０が形成された第１電極５０と第２電極６０との間の異物Ｐを検出する検出工程と、検出工程で検出された異物Ｐにおける少なくとも第２電極６０との接触部分を平面視した状態で環状に囲うように、第２電極６０における電気光学物質７０層と反対側からレーザー光Ｌを照射することにより、第２電極５０を貫通するとともに第１電極５０に到達しない溝部６５を形成し、溝部６５に囲まれる部分をその周辺の第２電極６０から島状に切り離すレーザーリペア工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体基板の大面積化を課題の一とする。または、大面積化に際して生じる問題点を解決することを課題の一とする。または、上記の半導体基板を用いた半導体装置の信頼性を向上することを課題の一とする。
【解決手段】半導体基板の大面積化を図るために、ベース基板としてガラス基板等の絶縁表面を有する基板を用いる。そして、該ベース基板に大型の半導体基板を用いて単結晶半導体層を形成する。なお、ベース基板には複数の単結晶半導体層を設けることが好ましい。その後、単結晶半導体層を、パターニングにより複数の単結晶半導体領域に切り分ける。そして、表面の平坦性を向上し、欠陥を低減するために、単結晶半導体領域に対してレーザー光を照射する、又は加熱処理を施す。該単結晶半導体領域の周縁部は半導体素子として用いずに、中央部を半導体素子として用いる。 （もっと読む）

【課題】水分の影響を効果的に防止し、かつ、製造コストを抑えることが出来る有機ＥＬ表示装置の封止方法を得る。
【解決手段】図２（Ｅ）において、有機ＥＬ素子１０３は樹脂シート３０によって被覆されている。樹脂シート３０は封止基板４０および、有機ＥＬ素子１０３が形成された素子基板１０にラミネートによって密着している。素子基板１０に形成された端子部２５にレーザを照射して、レーザによる衝撃波を発生させ、端子部２５から樹脂シート３０を剥離する。その後、点線ａに沿って封止基板４０の端部と樹脂シート３０の端部を除去する。これによって信頼性の高い有機ＥＬ表示装置を低コストで製造することが出来る。 （もっと読む）

第１のマスキングフィルムを基板上に機械的に配置し、第１のマスキングフィルムの第１の配置における１つ、又は２つ以上の第１の開口部を除去して、第１のマスキングフィルムに１つ、また２つ以上の第１のマスキング部を形成することによって、基板をパターニングする方法。第１の材料は、基板、及び第１のマスキング部の上に第２のマスキングフィルムを機械的に配置する前に、第１のパターニング領域を形成するために、基板上に成膜される。１つ、又は２つ以上の第２のマスキング部を形成するために、第２のマスキングフィルム、及び第１のマスキング部の双方の、第１の配置と異なる第２の配置の１つ、又は２つ以上の第２の開口部が除去される。第２の材料は、第２のパターニング領域を形成するために、基板上の第２の配置に成膜される。 （もっと読む）

使用中、所定のパターンを自身の発光部に有する、有機ＬＥＤ装置１０１が、提供される。有機ＬＥＤ装置１０１は、陽極１０５、陰極１０３及び有機発光層１０７を有している。有機発光層１０７は、光を発し、有機発光層１０７は、低減された発光特性を有する部分を有し、有機発光層１０７の前記部分は、有機発光層１０７の吸収バンドにおける波長を有する光によって照射されたものであり、前記光の強度は、有機ＬＥＤ装置１０１の陰極層１０３、陽極層１０５及び有機発光層１０７のアブレーションしきい値よりも低く、有機発光層１０７の照射された前記部分の発光特性を低減する。有機ＬＥＤ装置１０１の発光特性を低減する方法も提供される。
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【課題】表面側のレンチキュラーレンズ等のストライプ状レンズのレンズ構造と、裏面側の光反射層の構造とのアラインメントが良好で光の利用効率に優れた光学フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一方の表面にシリンドリカルレンズ若しくはプリズムレンズ又はそれらの集合体（４）がストライプ状に形成されたレンズ構造面を有するレンズフィルム（１）と、該レンズフィルム（１）のレンズ構造面の裏面に、前記レンズフィルム（１）のレンズ構造面側から入射した平行光の集光形状に対応した開口部（２ａ）を介してストライプ状に形成された顔料として炭酸マグネシウム又はクレーを含有する光反射層（２）を有する。 （もっと読む）

ＯＬＥＤを封止するためにビーム整形機が使用される。ビーム整形機は、第１と第２のレンズおよびビーム整形機を備える。第１と第２のレンズおよびビーム整形機の互いに対する相対位置を変えることによって、ビーム整形機が、異なる形状と強度プロファイルのレーザビームを形成することができる。
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【課題】しきい値制御された、信頼性の高い薄膜トランジスタを有する表示装置を作製する方法を提案することを課題とする。
【解決手段】ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜上に微結晶半導体膜を成膜し、微結晶半導体膜にしきい値制御のための不純物元素をイオン注入法により添加し、その後、レーザビームを照射して微結晶半導体膜の結晶性を改善する。そして、微結晶半導体膜上にバッファ層を形成し、チャネルエッチ型の薄膜トランジスタを形成する。また当該薄膜トランジスタを有する表示装置を作製する。 （もっと読む）

エレクトロルミネッセントアレンジメントを開示する。このエレクトロルミネッセントアレンジメントは、下記機能層を備える：（ａ）層Ａとしての背面電極；（ｂ）層Ｂとしての誘電層；（ｃ）層Ｃとしてのエレクトロルミネッセント層；および（ｄ）層Ｄとしてのカバー電極。 （もっと読む）

【課題】要求される特性を満たした半導体装置及びその作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】絶縁表面を有する基板上に、単結晶半導体層を形成し、単結晶半導体層の一部の領域にレーザー光を照射し、単結晶半導体層のレーザー光が照射されていない領域を用いて画素部の回路を形成し、単結晶半導体層のレーザー光が照射された領域を用いて、画素部の回路を駆動する駆動回路を形成することを特徴としている。これにより、周辺回路領域と画素領域とに適した単結晶半導体層を用いた半導体装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】膜封止構造の有機ＥＬパネルにおいて、パーティクルなどによる欠陥画素の修復を、保護膜を損傷することなく効率的に行う。
【解決手段】第１電極１０４を形成したガラス基板１０１上に、画素分離膜１０５によって互いに分離された有機層１０６による赤色、緑色、青色の発光画素を形成し、その上に第２電極１０７及び保護層１０８を積層する。この有機ＥＬパネルの、パーティクルなどによる欠陥部（非点灯画素）を検出し、レーザー光を照射して欠陥を修復する。このとき、レーザー光の強度を発光色毎に変更し、最適値となるように制御することで、保護層１０８に対する損傷を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】色変換層を高精細にパターン形成することと、青緑色発光素子の青緑色光の外部取り出し効率の改善を同時に解決する方法を提供する。
【解決手段】カラーフィルター基板と貼り合せる有機ＥＬ素子部の有機ＥＬ層に接して設けられる透明電極が、有機ＥＬ層側から第１透明導電層、第２透明導電層の２層からなり、第１透明導電層の屈折率は第２透明導電層の屈折率よりも大きく、前記第２透明導電層には、カラーフィルターの少なくとも１種以上のフィルター部と対向する領域に開口部を設けられてなる有機ＥＬディスプレイの製造方法において、前記上部透明電極上に密着して、発光層からの発光をより長波長の可視光に変換する色変換層を前記開口部の深さよりも薄く形成し、ついで、該開口部以外の第２透明導電層上の色変換層を感圧型接着テープにより剥離し、開口部の色変換層上に色変換層と保護層の合計膜厚が前記開口部の深さより厚くなるように保護層を形成することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。 （もっと読む）

【課題】欠陥画素の発生にもかかわらず、機能を回復することができる有機ＥＬディスプレイを提供する。欠陥画素が発生した際に、有機ＥＬディスプレイを正常に機能できるように、修復する方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬディスプレイは、基板と、ｘ方向に延びるストリップ形状を有する第１電極１２と、ｙ方向に延びるストリップ形状を有する第２電極１４と、を具備する。第１電極１２および第２電極１４と、それらに挟まれる有機ＥＬ膜１３とは、有機ＥＬ素子を構成している。第１電極１２は、ｘ方向に延びるとともに第２電極１４の幅を超える長さを有するスリット１７を、有機ＥＬ素子領域に備えている。 （もっと読む）

【課題】駆動トランジスタの特性バラツキの補正が容易であるのと同時に、輝点画素のリペアが容易な画素回路の構造を提案する。
【解決手段】アクティブマトリクス駆動方式に対応する画素構造を有する表示パネルの画素回路に、（ａ）信号電位の書き込みを制御するサンプリングトランジスタと、（ｂ）書き込まれた信号電位を保持する保持容量と、（ｃ）書き込まれた信号電位により動作する駆動トランジスタと、（ｄ）駆動トランジスタのソース電極と電源供給線の間に接続される補助容量であって、駆動トランジスタのソース電極に引き出し線を通じて接続される補助容量とを有するものを提案する。 （もっと読む）

【課題】欠陥画素を簡便に、かつ、低コストでリペアすることができる欠陥画素のリペア方法及びそれにより欠陥画素がリペアされた表示装置を提供する。
【解決手段】支持基板１２上に画素が配列された表示装置であって、前記画素のうち常時消灯状態となった欠陥画素２２ｂの光取り出し側に配置されている少なくとも一つの部材に、外部から選択的に加えられたエネルギーによって光散乱性が付与されていることを特徴とする表示装置１０。好ましくは、特定温度以上に加熱処理すると透明状態から光散乱状態に変化する感熱層２４を設ける。前記支持基板上に配列されている画素のうち常時消灯状態となる欠陥画素を特定するための検査を行い、検査により特定された欠陥画素の光取り出し側に配置されている少なくとも一つの部材に、外部からエネルギーを選択的に加えて光散乱性を付与する。 （もっと読む）

【課題】 液晶ディスプレイの下部基板に適用されてその補修線路の負荷過大による画素表示異常現象現象の発生率を低減するフラットパネルディスプレイ用下部基板。
【解決手段】 アクティブエリアを具えた基板と、該基板上に配置された複数の第１導電線と、複数の第２導電線、複数の第１補修線及び複数の第２補修線、及び複数の第３補修線を包含し、該第１導電線と該第２導電線は相互に交錯するが接続されず、該第１補修線と第２補修線はそれぞれこれら第２導電線と交錯するが、このアクティブエリア外の二つの対向側に電気的に不接続であり、該第３補修線はアクティブエリア外に位置し並びにこの第１補修線及び第２補修線と電気的に接続される。第２導電線は複数の第２導電線グループを構成し、且つ各第２導電線グループはそれぞれ第３補修線の一つに対応する。 （もっと読む）

【課題】リペア工程の自動化が容易で、スループットの高い有機発光装置のリペア方法を提供する。
【解決手段】基板の上に形成された第１電極と第２電極との間に、少なくとも発光層を含む有機層を有する有機発光素子を複数、配置してなる有機発光装置のリペア方法において、発光不良が発生した前記有機発光素子内の異物を検出し、異物を囲む領域にレーザーを照射して、少なくとも一方の電極を除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】十分な外部取り出し効率を有する有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】透明支持基板１、透明電極３、有機層４及び金属電極５を備える有機ＥＬ素子の製造方法であって、
前記透明支持基板１上に硬化性樹脂２を塗布し、母型を押し付けつつ前記硬化性樹脂２を硬化させた後、前記母型を取り外して、前記透明支持基板１上に周期的な配列で凹凸が形成された硬化性樹脂層２を積層する工程と、
前記硬化性樹脂層２上に、前記透明電極３、前記有機層４及び前記金属電極５を、前記硬化性樹脂層２の表面に形成されている凹凸の形状が維持されるようにして、それぞれ積層して有機ＥＬ素子を得る工程と、
を含むことを特徴とするコルゲート構造を有する有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フルカラーのフラットパネルディスプレイとして、高精細化や高開口率化や高信頼性の要求が高まっている。こうした要求は、発光装置の高精細化（画素数の増大）及び小型化に伴う各表示画素ピッチの微細化を進める上で大きな課題となっている。
【解決手段】レーザビームを用いてマスクの開口を通過させ、選択的に有機化合物を含む層の成膜を行う。光吸収層、及び有機化合物を含む材料層を形成した被照射基板と、第１の電極が設けられた被成膜基板とを向かい合わせて配置し、マスクの開口を通過したレーザビームが光吸収層を加熱することによって加熱された領域と重なる位置の有機化合物を蒸発させることで被成膜基板の面上に選択的に成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】高性能で安価な半導体装置及びその作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に、単結晶半導体基板にイオンを打ち込み前記基板に貼り付けた後熱処理を加えることにより残存させた単結晶半導体層を有する第１の領域と、非単結晶半導体層を有する第２の領域と、を設ける。また、劈開単結晶半導体層に不活性雰囲気中においてレーザー光の照射を行い、非単結晶半導体層には、少なくとも一度、大気雰囲気中においてレーザー光の照射を行うとより好ましい。 （もっと読む）