【課題】有機ＥＬ構造体とカラーフィルタ層を含む下地層との間にガスバリア層を介在させてなるカラー有機ＥＬディスプレイにおいて、下地層に含まれる水分や有機物などのガスがガスバリア層のピンホールを通して有機化合物層中に拡散することでダークスポット部が発生したとしても、そのダークスポット部の成長を抑制する。
【解決手段】下地層１０に含まれるガスがガスバリア層２０のピンホール２１を通して有機化合物層３３中に拡散することで有機化合物層３３に生じるダークスポット部３３ａの上に、陰極３４を除去することにより形成されたものであって上記ガスを封止缶５０内の封止雰囲気中に放出する開口部３４ａを、設けた。 （もっと読む）

【課題】ガラスフリット、シーリング材形成用の組成物及び発光装置を提供する。
【解決手段】第１基板と、第２基板と、第１基板と第２基板との間に備わった発光素子と、及び第１基板と第２基板とを接着させ、発光素子を密封させるシーリング材を具備した発光装置であって、シーリング材はＶ^＋４イオンを含む発光装置、該発光装置を得るためのガラスフリット、シーリング材形成用の組成物、及び該シーリング材形成用の組成物を利用した発光装置の製造方法である。これにより、該発光装置のシーリング材は、塗布法及び電磁波照射によって簡単に形成でき、製造コストが安く、シーリング材の形成時に発光素子の劣化も実質的に防止され、また、シーリング材のシーリング特性にもすぐれ、高寿命性を有する発光装置を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 電極用の引き出しパッドの表面の酸化を防止しつつ、電極および引き出しパッドを低コストで容易に形成することができ、もって電極と引き出しパッドとの接触抵抗の上昇を防止することができる有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板１０上に第１電極２０、有機ＥＬ層６０、第２電極７０が順次積層されている有機ＥＬディスプレイの製造方法において、第２電極の引き出しパッド用に、基板１０上に金属膜３０を積層する工程と、この金属膜３０の表面のうち、少なくとも第２電極と接触する部分３２を炭素膜で被覆する工程と、金属膜３０を引き出しパッドの形状にパターニングした後、炭素膜を除去し、引き出しパットの前記部分３２に第２電極が接触するように第２電極７０を形成する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で低消費電力化された発光シートを提供する。
【解決手段】発光シートを穴あけ加工してなる発光シート；及び発光シートをドリル、熱針、パンチング、フラットダイカット、ロータリーダイカット、レーザー加工等により穴あけ加工することを特徴とする前記発光シートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイパネル完成後の点灯検査で検出された短絡欠陥を修正する場合に、配線の切断が困難であった。
【解決手段】本発明に係るＴＦＴ基板は、走査線（１-1，１-2，１-3）、信号線（２-1，２-2）、グランド電極線（３-1，３-2）及び電源供給線（４-1，４-2）が形成されるとともに、グランド電極線（３-1，３-2）及び電源供給線（４-1，４-2）は、それぞれアルミニウムによって形成された主要配線部と、主要配線部の配線パターンの一部にモリブデンによって形成された修正用配線部（１ａ〜１ｇ，２ａ〜２ｇ，３ａ〜３ｇ，４ａ〜４ｇ）とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、有機ＥＬ層間に絶縁層を配置した場合において、有機ＥＬ層、および／または、陰極と電荷輸送層との接触面がリーク電流の経路とならない、有機ＥＬ素子の製造方法を提供することである。
【解決手段】パッシブマトリックス駆動の有機ＥＬ素子を製造するにあたり、絶縁性基板上に、互いに離間した状態で複数の電極層を配置して陽極列を形成し、上記陽極列上に、少なくとも正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、および金属薄膜を島状に積層して有機ＥＬ層を形成し、さらに上記島状の有機ＥＬ層を上方から覆うように、無機絶縁膜を形成する工程と、上記無機絶縁膜にエッチング処理を施して上記金属薄膜を露出させる工程と、上記金属薄膜および上記無機絶縁膜上に、互いに離間し、かつ、上記陽極列と互いに直交する状態で、複数の電極層を配置して陰極列を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】蒸着により形成される複数の色変換層を、損傷を与えることなしにパターニングすることができる有機ＥＬ発光装置の製造方法の提供。
【解決手段】有機ＥＬ素子と、異なるパターン形状を有する複数種の色変換層とを含む有機ＥＬ発光装置の製造方法であって、（１）有機ＥＬ素子を形成する工程と、（２）蒸着法によって複数種の色変換層を形成する工程と、（３）レーザー光を用いて複数種の色変換層をパターニングする工程と、（４）工程（３）において使用されるレーザー光を吸収する保護層を形成する工程とを含み、複数種の色変換層を形成するために工程（２）および（３）を反復し、工程（３）の後に工程（２）を行う場合には、工程（３）と工程（２）との間で工程（４）を実施することを条件とする有機ＥＬ発光装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】インクジェット印刷のインキ滴が入る溝を、簡便にしかも低コストで形成するための被印刷基材の製造方法の提供。
【解決手段】インクジェット印刷用被印刷基材の製造方法であって、（ｉ）表面にパターンが形成された凸版印刷版、グラビア印刷版、オフセット印刷版から選択される少なくとも１種類の印刷版を用いて、被印刷基材上に樹脂インキを塗布することにより樹脂パターンを形成する工程、その後、（ｉｉ）該樹脂パターンから溶剤を除去する方法、該樹脂パターンを熱硬化させる方法、該樹脂パターンを光硬化させる方法から選択される少なくとも１種類の方法によりインクジェット印刷のインキ滴が入る溝を形成する工程を含むインクジェット印刷用被印刷基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコン基板の結晶化度測定方法及び測定システムを利用して移動度及びしきい電圧のばらつきなどの電気的特性が優れている有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光表示装置の製造方法は、非晶質シリコン基板を結晶化して多結晶シリコン基板を製造する段階と、多結晶シリコン基板にレーザーを照射してラマンスペクトルグラフを得る段階と、ラマンスペクトルグラフのピーク面積から多結晶シリコン基板の結晶化度を算出する段階と、多結晶シリコン基板を使用して薄膜トランジスタを製造する段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】厚さの薄い有機電界発光表示装置が製造でき、有機電界発光表示装置の製造工程時間が短縮でき、かつ、製造工程中、基板の反り及び損傷が防止できる有機電界発光表示装置、製造方法及び有機電界発光表示装置の移送装置を提供する。
【解決手段】基板を用意するステップと、基板の下面に非透過層を形成するステップと、基板を２枚用意して非透過層を相互対向させて合着するステップと、合着された基板のうち非透過層の反上面にそれぞれ半導体層を形成するステップと、各半導体層に有機電界発光素子を形成するステップと、各有機電界発光素子が形成された面に封止材を用いて封止基板を接着するステップと、基板のうち半導体層及び有機電界発光素子が形成されていない端をソーイング（ｓａｗｉｎｇ）するステップと、合着された２枚の基板を個別に分離するステップと、を含む有機電界発光表示装置の製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクやレジストを使用することなく、薄膜加工を簡単な工程で精度良く行う方法を提示する。また、低コストで半導体装置を作製する方法を提案する。
【解決手段】基板上に第１の層を形成し、第１の層上に光吸収層を形成し、光吸収層上に透光性を有する層を形成し、透光性を有する層側から光吸収層に選択的にレーザビームを照射する。光吸収層がレーザビームのエネルギーを吸収することで、光吸収層内における気体の放出、光吸収層の昇華または蒸発等により、光吸収層の一部および光吸収層に接する透光性を有する層の一部を除去する。残存する透光性を有する層または光吸収層をマスクとして用いて、第１の層をエッチングすることにより、従来のフォトリソグラフィー技術を用いずとも、第１の層を所望の場所で所望の形状に加工することができる。 （もっと読む）

【課題】バリア性に優れた欠陥のない無機封止層を長期にわたり付与し、発光不良のない有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）基板上に第１電極層を形成する工程、（ｂ）前記第１電極層上に有機発光媒体層を形成する工程、（ｃ）前記有機発光媒体層上に第２電極層を形成する工程（ｄ）前記基板全体をＯ原子を含むガスを用いてプラズマ処理する工程、（ｅ）前記第１電極、有機発光媒体層および第２電極全体を覆う封止層を形成する工程、および（ｆ）前記封止層上をＦ原子を含むガスを用いてプラズマ処理する工程、を含む有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ表示装置の表示欠陥をその原因に応じて精度良く検出する。
【解決手段】ＥＬ素子に供給する駆動電流を制御するための素子駆動トランジスタＴｒ２をその線形領域で動作させ、ＥＬ素子を発光レベルとしたときの発光輝度又はカソード電流に基づくことで、ＥＬ素子のショートに起因した滅点欠陥を検出する。素子駆動トランジスタＴｒ２をその飽和領域で動作させＥＬ素子を発光レベルとしたときのカソード電流から素子駆動トランジスタＴｒ２の特性ばらつきに起因した暗点欠陥を検出でき、発光輝度から異常表示画素を検出する場合、異常表示画素のうち滅点検査時に滅点欠陥と判定されていない画素を求め、この画素を素子駆動トランジスタＴｒ２の特性ばらつきに起因した暗点欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】材料の利用効率を向上させ、かつ、作製工程を簡略化して作製可能な表示装置及びその作製技術を提供することを目的とする。
【解決手段】光吸収層を形成し、光吸収層上に絶縁層を形成し、光吸収層及び絶縁層に選択的にレーザ光を照射し、絶縁層の照射領域を除去し絶縁層に開口を形成し、開口に光吸収層と接するように導電膜を形成する。露出した光吸収層と接するように開口に導電膜を形成することによって、光吸収層及び導電膜は絶縁層を介して電気的に接続することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクやレジストを使用することなく、薄膜加工を簡単な工程で精度良く行う方法、また、低コストで半導体装置を作製する方法を提案する。
【解決手段】基板１００上に第１の層１０１を形成し、第１の層１０１上に光吸収層１０３を形成し、光吸収層１０３に選択的にレーザビーム１０５を照射する。光吸収層１０３がレーザビーム１０５のエネルギーを吸収することで、光吸収層１０３内における気体の放出、光吸収層１０３の昇華または蒸発等により、一部が物理的に解離する。即ち、光吸収層の一部にレーザビーム１０５を照射し、当該照射領域の一部を除去する。残存する光吸収層１１３をマスクとして用いて、第１の層１０１をエッチングすることにより、従来のフォトリソグラフィー技術を用いずとも、第１の層１０１を所望の場所及び形状に加工することができる。 （もっと読む）

【課題】材料の利用効率を向上させ、かつ、作製工程を簡略化して作製可能な表示装置及びその作製技術を提供することを目的とする。
【解決手段】光吸収層を形成し、光吸収層上に絶縁層を形成し、光吸収層及び絶縁層に選択的にレーザ光を照射し、絶縁層の照射領域を除去し絶縁層に第１の開口を形成し、第１の開口を有する絶縁層をマスクとして光吸収層を選択的に除去し、絶縁層及び光吸収層に第２の開口を形成し、第２の開口に光吸収層と接するように導電膜を形成する。露出した光吸収層と接するように第２の開口に導電膜を形成することによって、光吸収層及び導電膜は絶縁層を介して電気的に接続することができる。 （もっと読む）

【課題】従来の有機接着剤により形成されたシールよりも寿命の長いフリットシールを形成する。
【解決手段】基礎成分と少なくとも１種類の吸収成分とを含むガラス部分を有してなるフリット組成物であって、基礎成分が、約５から約７５モル％のＳｉＯ₂、約１０から約４０モル％のＢ₂Ｏ₃、および０から約２０モル％のＡｌ₂Ｏ₃を含み、少なくとも１種類の吸収成分が、（ａ）０より多く約２５モル％までのＣｕＯ、および／または（ｂ）０より多く約７モル％までのＦｅ₂Ｏ₃、０より多く約１０モル％までのＶ₂Ｏ₅、および０から約５モル％のＴｉＯ₂を含むフリット組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】滅点素子にレーザを照射する回数および場所を少なくするとともに、効率の良い有機ＥＬ表示装置のレーザリペア方法を提供すること。
【解決手段】ＥＬ表示装置の画素を点灯させ、点灯した画素中に滅点素子が存在する場合、滅点素子が存在する画素を特定する工程と、滅点素子が存在する画素において、欠陥の可能性がある部分を特定する工程（ステップＳ２５）と、欠陥の可能性がある部分が特定されたＥＬ表示装置を点灯させながら、欠陥の可能性がある部分にレーザを照射する工程（ステップＳ２７）とを備え、前記レーザを照射する工程を、滅点素子が点灯するまで、または全ての欠陥の可能性がある部分に照射するまで繰り返す（ステップＳ２６〜Ｓ２８）。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工によって樹脂ブラック材料を使ったブラックマトリクス基板を製造することを可能とし、ガラス面、ブラックマトリクスパターン上への残さや異物の付着の無いブラックマトリクス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板全面にブラックマトリクス材料を形成し、その表面に保護層を形成したのち、所望のパターン以外の部分にレーザを照射して、不要なブラックマトリクス材料を保護層と同時に除去し、さらに、表面の保護層を除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】極めて優れたフレキシブル性を有し、且つ欠陥が発生しても欠陥の発生した画素ごとに容易に修理することができるシート状の発光体を得ることを可能とするカプセル状マイクロ発光素子、並びにそのカプセル状マイクロ発光素子を効率よく得ることが可能なカプセル状マイクロ発光素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】発光層１３を少なくとも有し且つ一画素を構成する発光部と、前記発光部を個別に封止するカプセル状の封止層１７と、前記発光部に電圧を印加するための第一電極１１及び第二電極１５とを備えることを特徴とするカプセル状マイクロ発光素子。 （もっと読む）