【課題】酸素及び水分などの浸透が防止されるようにフリットで封止された有機電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】画素が形成される画素領域及び前記画素領域以外の非画素領域を含む第１基板と、前記画素領域を含む一領域で前記第１基板と対向するように接合される第２基板と、前記非画素領域と前記第２基板との間に位置し、前記第１基板及び第２基板を接合するフリットと、前記第１基板に形成され、前記フリットと重畳される少なくとも一つの電極ラインとを備え、前記電極ラインは、前記フリットと重畳される交差部領域で少なくとも一つの開口部を備える。 （もっと読む）

【課題】フリットをスキャンドライバと重畳されるように形成してデッドスペースを減少し、スキャンドライバと対応される位置に金属膜を形成することでフリットのレーザ照射の時にスキャンドライバの損傷を防止することができる有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】画素領域と非画素領域で分けられ、前記画素領域には第１電極、有機薄膜層及び第２電極からなる有機電界発光素子が形成され、前記非画素領域にはスキャンドライバ及び前記スキャンドライバの位置と対応されるように金属膜がそれぞれ形成された第１基板と、前記第１基板の画素領域及び非画素領域と所定間隔が離隔されて封着される第２基板と、前記第２基板の非画素領域の周辺部に沿って形成されたフリットと、を含み、前記フリットは前記非画素領域に形成されたスキャンドライバの活性領域部分まで重畳されるように形成される。 （もっと読む）

【課題】基板と封止基板をフリットで完全に合着させる有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一面に第１電極と第２電極間に有機発光層を含んで構成される有機発光素子が形成された画素領域と非画素領域を含む第１基板と、前記第１基板の画素領域を含む一領域上に合着される第２基板と、前記第１基板の非画素領域と前記第２基板の間に具備されて前記第１基板と前記第２基板を接着するフリットと、及び前記フリットの外側に形成される樹脂で構成される補強材を含んで構成される。 （もっと読む）

密封ガラスパッケージを製造するために使用できる封止装置および方法がここに記載されている。ある実施の形態において、密封ガラスパッケージは、周囲環境（例えば、酸素、水分）に敏感な薄膜素子を保護するのに適している。そのようなガラスパッケージのいくつかの例としては、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイ、センサ、および他の光学素子が挙げられる。本発明は、例としてＯＬＥＤディスプレイを使用して説明されている。
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複数のOLEDデバイスを備えるOLEDディスプレイを製造する方法は、複数のOLEDデバイスを、共通の光透過性電極を共有するようにして基板の上に設けるステップと；その共通の光透過性電極の上にパターニングされた導電層構造を形成し、1つ以上のOLEDデバイスの発光領域の位置に揃えてウエルを区画するステップと；光学材料を1つ以上のウエルに供給するステップを含んでいる。
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【課題】レーザリペアによる素子の損傷を最小化することができる有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は有機電界発光表示装置及びその製造方法に係り、前記有機電界発光表示装置は、基板と；前記基板上に位置し、複数個に分割されるセル及び、前記各セルを相互に連結する切り取りパターンを具備する画素電極と；前記画素電極上に位置する少なくとも発光層を含む有機膜層と；前記有機膜層上に位置する上部電極とを含むことによって、素子の損傷を最小化してレーザリペアすることができる。 （もっと読む）

【課題】平板表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板と、基板上に形成されたソース電極及びドレイン電極と、ソース／ドレイン電極とコンタクトされる半導体層と、基板上に形成されたゲートと、ソース／ドレイン電極とゲートとの間に形成され、開口部を備える絶縁膜と、絶縁膜の開口部によって一部分が露出される画素電極と、を備える平板表示装置である。絶縁膜は、ゲート絶縁膜と画素電極とを限定する画素定義膜として作用する。 （もっと読む）

第1の透明導電層（102）と、第2の導電層（104）と、前記第1および第2の導電層の間に挟まれた、少なくとも一つの有機層を有する有機機能スタックを構成する機能層（103）と、を有する装置である。前記第1の透明層（102）と、前記第2の層（104）の少なくとも一つのセグメント（112）とを電気的に相互接続するように、少なくとも一つのビア（110）が配置され、前記セグメントは、前記第2の層の残りの部分から電気的に絶縁される。本発明では、第1の透明層に電力を均一に供給することが可能となる。ビアおよびセグメントは、透明導電層を介して印加されるレーザにより形成されることが好ましい。

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第1の透明電極層（103；203）と、第2の電極層（104；204）と、前記第1および第2の電極層（103、104；203、204）の間に挟まれた有機機能層（102；202）と、を有する有機機能装置（101；201）に、電極層パターンを形成する方法である。当該方法は、レーザ（704；804）を、前記第1の透明電極層（103；203）を介して、前記有機機能装置（701；801）に照射されるように配置するステップ（601）と、前記レーザ（704；804）により、前記第2の電極層（104；204）の導電性を局部的に変化させることが可能となるように、レーザパラメータの組を選定するステップと、前記レーザパラメータの組に従って、前記レーザ（704；804）により、前記第2の電極層（104；204）の導電性を局部的に変化させ、これにより前記電極層パターンが形成されるステップと、を有する。
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【課題】有機電子デバイスの処理および製造の分野において、電気的なリードを介して、均一かつ低い電気的接触抵抗で、電極と外部電源または電気的な制御デバイスとの接続部の量産において、高信頼性のプロセスを提供することである。
【解決手段】該電極との接続のために金属性パッドを設け、金属性パッドを有機発光ダイオードデバイス上に沈着するステップと、該金属性パッドの縁辺の少なくとも一部を少なくとも部分的にカバーする切除窓を設けるステップと、前記切除窓を使用して該金属性パッドおよび該有機発光ダイオードデバイスを切除して、電極との接続部を形成するステップとを有することを特徴とする方法によって解決される。 （もっと読む）

本発明は、第１の物質からなる犠牲層が部分又は全面に形成された基板を提供する第１の段階と、直接犠牲層を線加工する第１の手段を用いて、前記犠牲層に、第１の物質が存在しないと共に、線幅が最高第１の解像度を持つパターン溝を形成する第２の段階と、第２の手段を用いて、第２の解像度で第２の物質を前記パターン溝に充填する第３の段階とを含む、基板上に第２の物質によりパターンを形成する方法及び前記方法によりプレパターンが形成された基板を提供する。
本発明によるパターン形成方法は、パターン形成用第２の物質を浪費することなく、或いは最小化して、高解像度のパターンが得られるため、生産費用を節減でき、インクジェット方式のように低解像度を持つ第２の手段と、レーザーなどの集束可能なエネルギービームのように高解像度を持つ第１の手段とを組合わせることで、高解像度のパターンを高い工程効率で生産できる。
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基材と、誘電体を伴う半導体材料の転写層とを含んでなる熱画像形成可能なドナー要素を加熱するステップを含んでなる、熱的方法によってパターン形成された半導体−誘電材料を基材上に形成せしめる方法が開示される。このドナーは、受容体上に形成されるべき所望のパターンのポジ画像で露光され、それによって半導体および誘電材料の層の露光部分が同時に転写されて、半導体および誘電材料の所望のパターンが受容体上に形成される。半導体材料をパターン形成せしめて薄膜トランジスタを形成せしめることができる。この方法は、発光ポリマーまたは小分子と電荷注入層とのパターン形成に使用して、光電性有機電子デバイスの発光ディスプレイを形成せしめることもできる。この方法に使用されるドナー要素も開示される。薄膜トランジスタおよびこの方法に使用されるドナー要素の形成方法も開示される。
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【課題】発光ディスプレイの第１電極（透明電極１０２）と第２電極（金属電極１０４）のショートによる欠陥を修復し、歩留まりを向上させる。
【解決手段】透明電極１０２及び金属電極１０４がショート等して発光しない画素や発光不良画素等の欠陥画素が生じた場合、欠陥画素に対応する透明電極１０２及び金属電極１０４が交差する領域に対応する金属電極１０４のうち、当該欠陥部分に対応する部分Ｂのみ削除する修復を行うことにより、残余部分Ａの金属電極１０４によって有機層１０３を介し対向する透明電極１０２間に電流を流し、その画素ならびに以降走査される画素を発光させる。金属電極１０４の対応部分の削除は、レーザ光を照射することにより行われる。 （もっと読む）

本発明は、相互接続された光−電子装置のカプセル化されたモジュールの製造方法であって、第１の電極の配列を規定するパターンにおいて、基板上にパターニングされた第１電極を形成する工程、前記第１電極の少なくとも主要部分の上を覆うように前記基板上の前記パターニングされた第１電極上に光−電子活性材料層を形成する工程、前記第１電極の配列に対応する第２電極の配列を規定するパターンにおいて、第１電極に対して反対の極性を有するパターニングされた第２電極層を前記第１電極と前記第２電極の間の前記光−電子活性材料層の上に形成し、前記第１電極と前記第２電極の間の前記第１電極、第２電極及び光−電子活性材料は、前記基板上の光−電子活性セルの配列を規定し、前記光−電子活性材料層及び前記パターニングされた第２電極層は各第１電極の主要部を覆うように形成され、各第１電極の微小領域は前記パターニングされた光−電子活性材料層及び前記第２電極層によって覆われていないことを特徴とする工程、露出された第１電極部と隣接する隣接するセルの第２電極を相互接続するために相互接続パッドを規定するパターンにおいてカプセル用シート上にパターニングされた相互接続層を形成する工程、及び前記相互接続されたパッド配列を露出された第１電極部及び隣接するセルの第２電極に接触させるために、前記光−電子活性セルの配列上にパターニングされたカプセル用シートをラミネートし、前記露出された第１電極部は前記相互接続パッドによって前記隣接セルの第２電極に相互接続され、前記相互接続されたセルはカプセル化されたモジュールを形成するために前記カプセル用シートによってカプセル化されることを特徴とする工程を含むモジュールの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】パターニングされた多層薄膜構造体は、超高速レーザ及び吸収分光法を用いて、多層構造体の下側の層にダメージを与えることなくパターニングされる。この構造体は、熱スペクトル、強度スペクトル及び吸光スペクトルに基づいて除去可能な層を選択し、適切な波長（Λ）、パルス幅（τ）、スペクトル幅（Δλ）、スポットサイズ、バイトサイズ及びフルエンスでプログラムされた超高速レーザを用いることによって形成される。最終の構造体は、最後に設けられた層（頂部層）又は多層構造体内のより下位の層においてパターニングされた構造的特徴（ビア、絶縁領域又はインクジェット印刷された領域など）を有し得、且つ、有機発光ダイオード（OLED）及び有機薄膜トランジスタ（OTFT）の構成要素などのアプリケーションにおいて使用され得る。本発明の方法は、製品のスペックを決定するステップと、基板を提供するステップと、層を選択するステップと、該層を設けるステップと、該層をパターニングするステップと、多層薄膜構造体にさらなる層を追加する必要があるかどうかを判定するステップとを包含する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、OLED等の有機薄膜材料の層の超高速レーザパターニングに用いる複合シート材料を選択する方法である。適切なレーザ処理パラメータでプログラムされた超高速レーザを用いることにより、下側の層にダメージを与えることなく、上位層のパターニングを行うことが出来る材料を選択する。これらのパラメータは、各層の吸光スペクトル、熱特性及び化学特性を検討することによって得られる。本発明の方法は、例えば、各層の吸光スペクトルを測定するステップと、各層の熱特性及び化学特性を検討するステップと、該層が除去可能であるかどうかを判定するステップと、レーザの設定を決定するステップと、レーザアブレーション処理によって該層をパターニングするステップと、さらなる層を除去する必要があるかどうかを判定するステップとを包含する。さらに、該方法は、層の材料特性が下側の層にダメージを与えることなくアブレーションを行うには好ましくない場合に、代替材料を選択する下位方法を包含する。 （もっと読む）

基板２００上に機能材料をパターン形成する方法は、（ａ）基板の少なくとも１つの主要面に機能材料の層２２５を付着させる段階と、（ｂ）機能材料の層に、機能材料２２５が不溶である溶媒中に可溶な保護材料の層２３０を付着させる段階と、（ｃ）基板上の明確に画定された領域における保護材料の層２３０および機能材料の層２２５の両領域を除去する段階と、（ｄ）残っている露出した保護材料２３０を、前記溶媒中に溶解させることによって基板２００から除去する段階とを含む。

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互いに離れたアノードおよびカソードと、青色発光層と、黄色、オレンジ色又は赤色の光を出す発光層とを備えていて、該青色発光層が、ホスト材料として、一般式（I）のモノアントラセン誘導体：


を含んでいる白色発光OLEDデバイス（ただし一般式（I）において、R₁〜R₈はHであり；R₉はR₁₀と同じではなく；R₉は、脂肪族炭素環のメンバーとの縮合環を持たないナフチル基であり；R₁₀は、脂肪族炭素環のメンバーとの縮合環を持たないビフェニル基であり；R₉とR₁₀は、アミン類とイオウ化合物を含まない）。
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次の工程：（ａ）基板上に第１の導電性部材および導電性リードを形成する工程であって、第１の導電性部材および導電性リードが互いに離間されている工程と、（ｂ）基板上に有機層、第１の導電性部材、および導電性リードを形成する工程と、（ｃ）該有機層の上にパターン化した導電層を形成する工程であって、パターン化した導電層が第２の導電性部材を含み、およびパターン化した導電層が、有機層の露出部分および有機層の非露出部分を作り出す工程と、（ｄ）少なくとも１種の酸素含有ガスを使用して、少なくとも有機層の露出部分をドライエッチングして、導電性リードの一部を露出させる工程であって、ドライエッチングが約０．０１〜７．５ミリトールの範囲の圧力で行われる工程とを含む有機電子デバイスの形成方法。

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本発明は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイデバイスを製造するための方法であって、該方法は次のステップを有している：
導光性の基板を設け、
該導光性の基板に少なくとも１つの透明な電極を配置し、該透明な電極は導光性の導電膜から成っており、
サブアッセンブリに少なくとも１つ有機層を形成し、該少なくとも１つ有機層は有機エレクトロルミネッセンス媒体から成っていて、該少なくとも１つ有機層は前記電極を被覆しており、
前記少なくとも１つ有機層の全面に導電膜を形成し、かつ
該導電膜の少なくとも一部分を照射法を使用して除去して、相互に電気的に絶縁されておりかつ透明な電極に対して垂直である方向に延在しているストライプライクな電極が生成されるようにする
方法を開示している。
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