【課題】正面輝度を向上させることによって面内輝度のバラツキを低減し、高温環境下における保存安定性に優れた面発光体を提供する。
【解決手段】透明基板を有する面発光素子と調光ブロックとを少なくとも有する面発光体において、前記調光ブロックは少なくとも片面に複数の凸部を有し、該凸部の先端部が前記面発光素子の出射面に接する面発光体の製造方法であって、前記面発光素子の基板を液状の樹脂槽に、前記発光素子の出射面が接するように、前記面発光素子の基板を前記樹脂槽内に浮かばせる工程と形成すべき前記凸部の形成に沿って光線を走査することで、前記樹脂を光硬化させて、前記凸部を形成する工程とを有する面発光体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイの表示リペア部を容易に修正することが可能であり、ＥＬ発光特性が低下することなく、また、薄型固体封止をしても長期間に亘って封止性能を維持することが可能な有機ＥＬ素子と、この有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基材２上に、第一電極層４、有機発光媒体層６、第二電極層８、第一パッシベーション層１０、第二パッシベーション層１４、封止層１６が順に積層された有機ＥＬ素子１であって、有機発光媒体層６の一部を除去して形成されたリペア部Ｒと、第一パッシベーション層１０と第二パッシベーション層１４との間に形成され、且つ各層の積層方向から見て少なくともリペア部Ｒと重なる有機層１２を備える。 （もっと読む）

【課題】第二有機化合物層の発光時に、第二電極から接続電極へ電流が流れて第一有機化合物層が発光するのを防止でき、色ずれがなく、輝度低下のない良好な有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】基板１１の上に、第一電極１２、第一有機化合物層１４、第二電極１５、第二有機化合物層１６及び第三電極１７が積層され、第三電極１７を駆動回路に接続するための接続電極１２Ａを有し、第一有機化合物層１４または／および第２有機化合物層１６には、第二電極１５に接する電子注入層ＥＩＬまたは正孔注入層ＨＩＬが形成され、第二電極１５から接続電極１２Ａに至るリークパスが形成されうる経路、及び接続電極１２Ａの面上のいずれかの部分には、第一有機化合物層１４及び第二有機化合物層１６のうち、少なくとも、電子注入層ＥＩＬまたは正孔注入層ＨＩＬが部分的に存在しない。 （もっと読む）

【課題】低コストで製造でき、且つ撓みを有したマスクを用いる場合であっても、非塗布領域にインクが染み込むのを防止できる有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】塗布領域１８と非塗布領域１９を有し且つ非塗布領域１９に貫通孔１２が設けられている基板１を準備する工程と、その塗布領域１８に塗布液を塗布するための開口部２８と非塗布領域１９に塗布液を塗布しないための非開口部２９とを有するマスク板２を準備する工程と、基板１をステージ３に減圧吸引する工程と、基板１上にマスク板２を載せ、その基板１が有する貫通孔１２を介してマスク板２を基板１上に減圧吸引する工程と、マスク板２が有する開口部２８内にノズル塗布法で有機ＥＬ層用塗布液を塗布する工程とを有する方法によって、有機ＥＬ素子を製造する。 （もっと読む）

【課題】レーザ封着に代表される光加熱封着に適用する際に、広い波長域で十分な光吸収率を有すると共に、封着温度を低温化することを可能にした封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル％表示で、２７〜３３％のＰ₂Ｏ₅、５０〜７０％のＳｎＯ、０．５〜３％のＴｅＯ₂、０〜１０％のＺｎＯ、０〜５％のＣａＯ、０〜５％のＳｒＯ、０〜５％のＢ₂Ｏ₃、０〜５％のＧａ₂Ｏ₃、０〜３％のＧｅＯ₂、０〜３％のＩｎ₂Ｏ₃、０〜３％のＬａ₂Ｏ₃、及び０〜３％のＷＯ₃を含むガラス組成物からなる。封着用ガラスはレーザ光等の光ビームで加熱する封着工程に適用され、電子デバイス１の封着層６の形成に使用される。 （もっと読む）

【課題】炭素薄膜の製造方法、炭素薄膜を含んだ電子素子及び炭素薄膜を含んだ電気化学素子を提供する。
【解決手段】基板上にコーティング工程を利用し、高分子膜を形成する段階と、高分子膜上に保護膜を形成する段階と、基板を熱処理し、基板上に炭素薄膜を形成する段階と、を含む炭素薄膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、固体封止構造を有する有機ＥＬパネルにおいて、有機ＥＬ素子の封止後にレーザーリペアが可能な有機ＥＬパネルを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、支持基板と、上記支持基板上に形成された透明電極層と、上記透明電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層と、上記有機ＥＬ層上に形成された金属電極層と、上記金属電極層上に形成され、有機材料からなり、鉛筆硬度が３Ｂ以下である金属取り込み層と、上記金属取り込み層、上記金属電極層、上記有機ＥＬ層および上記透明電極層を覆うように形成された接着層と、上記接着層上に形成された封止基板とを有することを特徴とする有機ＥＬパネルを提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡単に輝点を無くすことができる有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の画素それぞれの発光および非発光を制御するための複数のスイッチング素子３０を形成する。複数の画素に対応する複数の画素電極３６を形成する。複数の画素電極３６上に、発光層を含む有機層４２を形成する。有機層４２上に、複数の画素電極３６に対向するように共通電極４４を形成する。複数の画素のうち、複数のスイッチング素子３０によってＯＦＦすることができない輝点画素を検出する。共通電極４４の、輝点画素に対応する部分に、レーザー光Ｌを照射して島状電極形成領域５４を形成する。輝点画素では、島状電極形成領域５４によって、有機層４２への電流の供給を遮断するかあるいは少なくとも低下させる。 （もっと読む）

【課題】レーザービーム照射のように、除去部分の線幅が小さいパターン化方法によって素子の集積が行われた場合であっても、非発光の素子不良が解消された有機ＥＬ発光装置を提供する。
【解決手段】透光性基板１上に、複数の電気的に直列接続された単位発光素子が形成され、各単位発光素子は、透光性基板側から透光性の第１の導電性電極層２、有機発光ユニット層３および第２の導電性電極層４を有する有機ＥＬ発光装置の製造方法において、素子の封止が行われる前に、複数の単位発光素子の少なくとも１つに電圧が印加される。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基板に転写方式で薄膜トランジスタを備える画像表示装置を製造することが可能な技術を提供することである。
【解決手段】
支持基板の主面側に有機材料からなる樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層の上層に半導体回路または表示回路を形成する工程と、前記樹脂膜に吸収される波長の光を前記支持基板側から照射して、前記支持基板から前記樹脂層を剥離する工程と、前記樹脂層を薄膜化又は除去する工程と、前記樹脂層の側から第１基板を貼る工程とを有する画像表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】輝度ムラの発生が抑制され、表示品質の高い有機ＥＬディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】基板１００と、基板１００上に配列されて画像表示領域９００を構成する複数の画素電極２１０と、塗布法で形成された発光材料からなる発光層６００を含む、画素電極上に配置された有機機能層６５０と、有機機能層６５０上に配置され、複数の画素電極２１０に対して共有する対向電極２２０と、画像表示領域９００の外周を囲むように基板１００上に配置された壁状の封止部７５０と、封止部７５０上に配置された封止板７００と、を備えた有機ＥＬディスプレイパネル１０である。対向電極２２０が、封止部の内壁面７７０上にも配置されている。 （もっと読む）

【課題】有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光表示装置は、基板１０１と、基板１０１上に配され、相互に断線された第１パターン部１６１ａと第２パターン部１６１ｂとを有する画素電極１６１と、基板１０１上に配され、画素電極１６１を露出させる画素定義部１６０と、画素電極１６１上に配され、光を発生させる中間層１６２と、中間層１６２及び画素定義膜１６１上に配される対向電極１６３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】異なる色を発光する画素を有する発光装置の作製において、画素の大きさ、間隔の異なる発光装置を同一装置にて、ダウンタイムなく作製する作製装置、および当該作製装置を使った発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】レーザビームを複数に分岐させ、照射面において同一間隔で一列に並べ、製造対象の仕様に合わせて回転させる作製装置により、いかなる画素間隔の発光装置の作製にも対応できる。画素の大きさの変更にはレーザビームの投影レンズの倍率を変えるなどして対応する。これにより、異なる大きさと間隔の画素を有する発光装置の作製を、同一装置の簡易な設定変更のみで可能にできる。 （もっと読む）

【課題】低コストで気密性の向上を図れ、且つ、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間の所定ギャップ長を確保することが可能な発光装置の製造方法を提供する。
【解決手段】接合部４０の形成にあたって、第１のガラス基板２０の一表面側において接合部４０に対応した部位に低融点ガラスを主成分とするペースト状もしくはシート状の第１の接合材４０ｂを乗せて焼成する基本過程を複数回繰り返すことにより所定ギャップ長に応じて設定した所望の厚みのガラス層４０ａを形成する第１の工程と、ガラス層４０ａ上に低融点ガラスを主成分とする第２の接合材４０ｃを乗せた後、第２の接合材４０ｃに第２のガラス基板３０を重ね合わせ、第２のガラス基板３０における第１のガラス基板２０側とは反対側からレーザ光を照射して第２の接合材４０ｃを溶融させることでガラス層４０ａと第２の接合材４０ｃとにより形成される接合部４０を形成する第２の工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】カソード配線１２０を表面上に含む基板１０と、基板上に形成され、カソード配線１２０と電気的に絶縁されたアノード電極１３０と、アノード電極上に形成され、複数の単位画素を形成する有機物質層１４０と、有機物質層を覆うカソード電極１６０と、カソード配線とカソード電極とを電気的に連結する少なくとも一つの電気的連結部１５０と、を備える有機発光表示装置である。 （もっと読む）

【課題】支持体へのダメージの少ない、高精細なパターン電極の製造方法及びそのパターン電極を用いた有機電子デバイスを提供すること。
【解決手段】支持体１１上に形成された導電性ポリマーを含有する導電層を含むパターン電極１３Ｂの製造方法において、該パターン電極が、支持体上に導電性ポリマー液を塗布して導電層１３を形成し、該導電層の上に紫外線非透過性のマスク１４を載置し、次いで該マスクの上方からエキシマ光照射をすることでパターンを形成することを特徴とするパターン電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】硬化型樹脂接着剤又はフリットガラスで封止しても、封止強度が強く、横方向の衝撃耐性の強い大型の有機ＥＬディスプレイ１００、及び製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも陽極層、有機発光層を含む有機発光媒体層、陰極層が形成された基板１１とキャップ状の封止基板１２とを、キャップ状の封止基板の額縁部でシール剤を介して封止してなる有機ＥＬディスプレイであって、前記基板上に発光部を囲むように枠状のフリットガラス層４１が形成され、前記基板と前記キャップ状の封止基板とを封止基板の額縁部５１でシール剤６１を介して封止する時に、前記枠状のフリットガラス層の外側部に前記封止基板の額縁部の内側壁面を嵌合させること。 （もっと読む）

【課題】各発光画素ごとに均一な発光が可能となる表示装置を提供する。
【解決手段】画素駆動回路ＤＳ１１は、画素ごとに形成された画素電極１４２と、各画素電極１４２と対向して配置された対向電極と、ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を有する薄膜トランジスタである第１及び第２駆動トランジスタＴｒ５３,Ｔｒ５４、並びに第１及び第２スイッチング素子Ｔｒ５１,Ｔｒ５２とを備えている。第１駆動トランジスタＴｒ５３は、画素電極１４２の一辺側に接続されており、第２駆動トランジスタＴｒ５４は、画素電極１４２の一辺側に対向する他辺側に接続されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、母基板及びセル切断工程を利用して製造される表示装置において、切断面形状を改善して強度を高め、セル切断後のエッジグラインディング工程を省略することができる、表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表示素子が形成された表示領域を含む第１基板と、表示領域を覆うと共に第１基板上に固定される第２基板と、第１基板と第２基板との間に配置されるシーラントと、を含み、前記第１基板が含む第１切断面及び前記第２基板が含む第２切断面は、表示装置の平面を基準にして表示領域に向かって凹曲線状に形成された複数の角部を含む表示装置。 （もっと読む）