【課題】本発明は、母基板及びセル切断工程を利用して製造される表示装置において、切断面形状を改善して強度を高め、セル切断後のエッジグラインディング工程を省略することができる、表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表示素子が形成された表示領域を含む第１基板と、表示領域を覆うと共に第１基板上に固定される第２基板と、第１基板と第２基板との間に配置されるシーラントと、を含み、前記第１基板が含む第１切断面及び前記第２基板が含む第２切断面は、表示装置の平面を基準にして表示領域に向かって凹曲線状に形成された複数の角部を含む表示装置。 （もっと読む）

【課題】基板の密封に使用されるレーザビーム照射装置、及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第１基板と第２基板との間に配置された密封部にレーザビームを照射することにより第１基板及び第２基板を密封するレーザビーム照射装置であって、レーザビームを照射するレーザヘッドと、レーザビームの走行速度及び運動方向を制御する制御部と、を備えている。レーザビーム照射装置の制御部による制御下で、レーザビームは、密封部が形成する経路に沿って前後方向に反復運動を行い、経路上の同一位置を２回以上通過するように照射される。 （もっと読む）

【課題】高解像度有機薄膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】高解像度有機薄膜パターンの形成方法に係り、（ａ）基板上に第１有機層を形成する段階と、（ｂ）第１有機層に選択的に光エネルギーを照射し、第１有機層を選択的に除去し、第１有機層の残っている部分に犠牲層を形成する段階と、（ｃ）基板及び犠牲層上の全面に、第２有機層を形成する段階と、（ｄ）ソルベントを使用し、犠牲層を除去し、犠牲層上に形成された第２有機層をリフトオフすることによって、残っている第２有機層に第２有機層パターンを形成する段階と、を含む有機薄膜パターンの形成方法である。 （もっと読む）

本発明により、有機発光ダイオード装置の製造の方法であって、担体基板を備えるステップと、第１の電極物質層を前記担体基板に堆積させるステップと、前記堆積された第１の電極物質層内に電気的に分離された領域を形成するステップと、前記第１の電極物質層に有機光電子活性物質層を堆積させるステップと、前記有機光電子活性物質層に第２の電極物質層を堆積させるステップと、を有する方法が提案される。該方法は、前記有機光電子活性物質層を堆積させるステップ及び前記第２の電極物質層を堆積させるステップにおいて、前記担体基板は、前記有機光電子活性物質層及び前記第２の電極物質層により前記担体基板の機能領域全体をマスクレスに被覆され、少なくとも前記第２の電極物質層は、少なくとも選択された領域においてアブレーションされ非導電性に下塗りされ、前記第２の電極物質層内に非導電性領域を形成することを特徴とする。
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【課題】本発明は、微小な欠陥を検出することができ、または／及び画素修復の成功率が高く、或いは／並びに自動化が容易で生産性の高い有機ＥＬディスプレイパネル修正設備及び修正方法を提供することにある微小な欠陥を検出でき、欠陥修復成功率や設備安定性が高く、パラメータ設定が容易で量産性の高い有機ＥＬディスプレイパネル修正設備を提供する。
【解決手段】本発明は、有機ＥＬ膜による画素が形成されたマザー基板上の前記画素の欠陥をレーザ光を照射して修正する際に、前記欠陥の位置情報と大きさに基づいて前記レーザ光を透過させる光透過パターンを有するホトマスクを介して前記欠陥の位置に照射することを第1の特徴とする。また、非点灯不良画素の画像と正常画素との画像を比較して非点灯不良画素内の前記欠陥の位置と大きさを検出することを第2の特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機発光装置における発熱による劣化や発光効率の低下、輝度分布の拡大等の問題を低減する。
【解決手段】（ａ）透光性基板１上に、透光性の第１の導電性電極層２、有機発光層を含む積層体層３、第２の導電性電極層４を順次形成した後、レーザービームを透光性基板側から照射し、積層体層及び第２の導電性電極層の一部を同時に除去して第１の導電性電極層の一部を露出させる第１の開口部５を設ける工程、（ｂ）第２の導電性電極層及び第１の開口部の上に絶縁体層を少なくとも１層含む絶縁体含有層６を形成した後、レーザービームを透光性基板側から照射し、第１の開口部の上にある絶縁体含有層の一部を除去して第１の開口部と内接しない位置に透光性の第１の導電性電極層の一部を露出させる第２の開口部７を設ける工程、（ｃ）絶縁体含有層及び第２の開口部の上に第３の導電性電極層８を形成する工程を含む有機発光装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、画素領域を保護すると共に、画素領域の外側の有機物層を効果的に除去して、上部電極及び上部電極電源ラインの接続時にこれらの間の接触抵抗を最少化し、有機発光素子の発光特性を向上させることができる有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光表示装置の製造方法は、基板上の画素領域の外側に上部電極電源ラインを形成し、画素領域に下部電極を形成し、画素領域と画素領域の外側に少なくとも一層の有機物層を形成し、画素領域に上部電極を形成し、上部電極の外側に露出された有機物層部位を選択的に除去して上部電極電源ラインを露出させ、常圧条件で上部電極及び上部電極電源ラインと重なるように上部電極及び上部電極電源ラインの間に導電物質を塗布して接続部を形成する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】有機光学電子装置における電気的相互接続部を形成する方法、有機光学電子装置を製造する方法を提供する。
【解決手段】第１導電層（１３）を形成するステップと、上記第１導電層（１３）の上に有機半導体層（１２）を堆積するステップと、上記有機半導体層（１２）の上に第２導電層（１４）を堆積するステップと、接続領域において、上記第１導電層（１３）と上記第２導電層（１４）との間に電気的短絡（１５）を形成するステップであって、この形成は、上記接続領域にレーザー光を照射することによって上記有機半導体層（１２）を介して上記第１導電層（１３）と上記第２導電層（１４）とを電気的に相互接続することによって行う。 （もっと読む）

【課題】光熱変換シートを繰り返し再利用でき、シートの利用効率が向上し、繰り返し使用により光熱変換層と保護層との層間剥離が生じることなく、転写後の光熱変換層からの汚染も防止できる光熱変換シート及び有機電界発光装置の製造方法の提供。
【解決手段】有機電界発光装置をレーザー熱転写法により製造するのに用いられる光熱変換シートであって、基材と、該基材上に光熱変換層と、該光熱変換層上に保護層とを有してなり、前記光熱変換層が、光熱変換材料を含有する光熱変換シートである。該光熱変換シートと、支持体上に有機電界発光素材層を有する有機電界発光素材シートと、基板とをこの順に積層して積層体を形成する積層工程と、前記積層体の光熱変換層に光を照射して前記基板上に前記有機電界発光素材層を転写する転写工程とを含む有機電界発光装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】有機発光層を容易に形成できる有機発光表示装置の製造方法、有機発光表示装置用の表面処理装置及び有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に第１電極を形成する工程と、第１電極上に第１電極の所定の部分を露出するように開口部を持つ画素定義膜を形成する工程と、画素定義膜及び開口部を通じて露出された第１電極上に電荷伝達層を形成する工程と、電荷伝達層の露出された表面のうち、開口部と対応しない表面を、選択的にレーザーを利用して疎水化する工程と、電荷伝達層上に有機発光層を形成する工程と、有機発光層と電気的に接続されるように第２電極を形成する工程と、を含む有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、より少ない労力で作製される有機エレクトロルミネセントデバイス１に関し、基板２と、基板２の上の基板電極３と、基板電極３の上の少なくとも１つの有機発光層を有するエレクトロルミネセント積層体４と、エレクトロルミネセント積層体４を少なくとも覆う対向電極５と、対向電極５を覆う短絡防止層６であって、対向電極５及び短絡防止層６の二重層ＤＬを構築する当該短絡防止層６と、短絡防止層の上に少なくとも一部がある電気絶縁層とを有する有機エレクトロルミネセントデバイスであって、エレクトロルミネセント積層体４の上に二重層ＤＬが設けられている或る領域において、少なくとも二重層ＤＬに導入される切込み部近傍の電気絶縁層８の堆積後の二重層をロールアップするのに適した引張応力ＴＳが短絡防止層６によって二重層ＤＬ内に引き起こされ、前記切込み部は対向電極５を基板電極３から電気的に切断するのに適し、電気絶縁層８は、切込み部７においてエレクトロルミネセント積層体４を部分的に溶解して切込み部付近において二重層ＤＬをロールアップするため、切込み部近傍の前記エレクトロルミネセント積層体に対する二重層の接着力を弱めるために導入された切込み部７を持つ二重層の領域を少なくとも部分的に覆った、当該有機エレクトロルミネセントデバイスに関する。本発明は、また、そのようなＯＬＥＤデバイスの製造方法に関する。
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【課題】表示装置によってシール材組成物の材料が限定されることなく、複数個の表示装置を製造する場合などに、周囲（特に四隅）から剥離しやすくなることを防止し、製造工程中などに、基板が剥離しにくい表示装置の製造方法及び表示装置を提供する。
【解決手段】２枚の基板をシール材により貼り合わせた後に個片に切断して製造する工程を有する表示装置の製造方法において、２枚の基板２，３の少なくとも１枚が可撓性を有する基板であり、貼り合わされた２枚の基板２，３とシール材を、切断する手段Ａにより同時に切断する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体薄膜の結晶の不均一性を緩和し、薄膜トランジスタの動作特性を向上させることが可能な半導体膜の製造方法を提供する。
【解決手段】
基板１０上に非晶質シリコン膜１５Ａおよび光熱変換層１６をこの順に形成する。光熱変換層１６を介して非晶質シリコン膜１５Ａに第１ビームＬ１を照射することにより非晶質シリコン膜１５Ａに高温過熱領域１１を形成する。同時に、第２ビームＬ２を照射することにより高温過熱領域１１の走査方向の前後に低温過熱領域１２（昇温領域１２Ａおよび徐冷領域１２Ｂ）を形成する。非晶質シリコン１５Ａでは、第１レーザＬ１の照射により結晶成長が始まり、第２レーザＬ２の照射により昇温、徐冷されるため、非晶質シリコン１５Ａの結晶化が緩やかに進行し、結晶粒径の不均一性が緩和される。 （もっと読む）

【課題】レーザー光を用いてスクライブラインを形成する工程を用いる場合、導電性を備えた端子部分と平面的に重なるガラス板をレーザースクライブすると同時に、当該ガラス板を透過して、端子部分にもレーザー光が照射される。スクライブ用のレーザー光の強度は、ガラス板に損傷を与えるべく高い光強度を備えており、端子部分が損傷を与えてしまうという課題がある。
【解決手段】レーザー光Ｌが照射されるＣＦ基板１６と、電極端子３０を備える素子基板１との間にシール層としての第２封止層２２を形成してレーザースクライブを行う。電極端子３０には、第２封止層２２で吸収されることで減衰したレーザー光が照射される。そのため、電極端子３０が受ける損傷を抑えてレーザースクライブすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】有機層に混入した異物を破壊せず、他の機能層のダメージを与えることなく、有機ＥＬ素子の欠陥を修復すること。
【解決手段】ＴＦＴが内蔵された基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された複数の有機ＥＬ素子とを有し、前記有機ＥＬ素子は、前記基板上に配置された第１電極、前記第１電極上に配置された有機層、および前記有機層上に配置された第２電極を含む、有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、前記ＴＦＴが内蔵された基板を準備する工程と、前記ＴＦＴに接続した前記第１電極を、前記基板上に形成する工程と、前記第１電極に前記有機層を形成する工程と、前記有機層の形成後、前記有機層に混入した異物を検出する工程と、前記異物を囲む溝を、前記有機層に形成する工程と、前記有機層上に前記溝によって囲まれた領域から分断された前記第２電極を形成する工程と、を有する、有機ＥＬディスプレイの製造方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明は高精彩に成膜できるまたは生産性あるいは稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置または有機ＥＬデバイス製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、真空蒸着チャンバの壁に設けられた真空隔離手段から前記マスクを搬出し、前記真空隔離手段を共有するマスク洗浄チャンバで前記基板に付着した前記蒸着材料の堆積物にレーザ光を照射し前記マスクをドライ洗浄し、洗浄後前記マスクを真空隔離手段を介して前記真空蒸着チャンバに戻し、前記蒸着を行なうことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トップエミッション方式とボトムエミッション方式のいずれの有機ＥＬ素子においても実施可能で、かつ、封止後、大気中にてリペアを実施することができる有機ＥＬ素子とその製造方法及び有機ＥＬ素子のリペア方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも、基材と、前記基材上に形成された第一電極層と、前記第一電極層上に形成された有機発光媒体層と、前記有機発光媒体層上に形成された第二電極層と、前記基材を封止する封止基材と、からなる有機ＥＬ素子であって、前記第二電極層は非晶質透明導電性酸化物層を含み、前記第二電極層上に光熱変換層が形成され、前記封止基材は前記光熱変換層が吸収する所定の波長について透過性をもつことを特徴とする有機ＥＬ素子としたものである。 （もっと読む）

【課題】陽極、陰極及び有機化合物層からなる発光素子の欠陥部を検査して修理することにより、良質な画像表示を行うことができる発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】基板に発光素子が設けられた発光装置の作製方法であって、発光素子は、陽極と、陰極と、陽極と陰極の間の有機化合物層を有し、基板を上、発光素子を下にした状態で発光素子にバイアスを印加することで発光素子を発光させ、発光により欠陥部を特定し、欠陥部にレーザを照射することで陽極と陰極を物理的に引き離す発光装置の作製方法により課題を解決する （もっと読む）

【課題】 ロール・トゥ・ロール方式でも確実にバリアフィルムを密着することができる有機ＥＬの製造方法を提供する。
【解決手段】 可撓性を有する基板２の表面に、複数の第１の電極４を形成する第１の電極形成工程と、第１の電極４の上に有機層５を形成する有機層形成工程と、有機層５の上に第２の電極６を形成する第２の電極形成工程と、複数形成された第１の電極４、有機層５、第２の電極６および基板２の全表面を覆うようにバリアフィルム７を形成するバリアフィルム形成工程と、バリアフィルム７の端部７ａのうち、基板２、第１の電極４あるいは前記第２の電極６の表面に対して平行に形成された端部をレーザー照射により除去するバリアフィルム除去工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】陽極、陰極及び有機化合物層を有する発光素子の欠陥部を検査して修理する作製方法により、良質な発光装置を提供する。
【解決手段】欠陥部を有する発光素子にバイアスの電圧を印加して欠陥部を検出する。このような欠陥部はエミッション顕微鏡により測定することができる。検出された欠陥部にレーザーを照射して、欠陥部のショート箇所を物理的に引き離すことで修理する。レーザー照射後に欠陥部に絶縁膜を形成することもできる。このような発光装置の作製方法である。 （もっと読む）