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Fターム[3K107GG14]の内容

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Fターム[3K107GG14]に分類される特許

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【課題】高効率かつ高精細な有機EL表示装置を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】第1電極と第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられ少なくとも発光層を含む有機化合物層と、を有する有機EL素子を複数備える有機EL表示装置の製造方法であって、第1電極が設けられた基板上に、水に不溶である有機化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層上であって、前記有機化合物層が形成された領域の一部に、水溶性材料を含むマスク層を設ける工程と、前記マスク層が設けられていない領域に形成された有機化合物層を除去する工程と、前記マスク層を除去する工程と、前記マスク層を除去した後、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む層を形成する工程と、を有することを特徴とする、有機EL表示装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】気密容器における気密性の長期的な信頼度を高める。
【解決手段】まず、粘度が負の温度係数を有し、互いに間隔をおいて並んでいる複数の接合材1a,1b,1cを、第1の基材と第2の基材の双方に接触するように第1の基材と第2の基材との間に配置する。次に、局所加熱光41を接合材1a,1b,1cに沿って照射し、第1の基材と第2の基材とを接合する。局所加熱光41の照射によって接合材1a,1b,1cを溶融させて、互いに隣接する接合材1a,1b,1c同士を連結させる。 (もっと読む)


【課題】多層配線を形成する際における配線の加工に要する工程を簡便にすることを課題
とする。また、開口径の比較的大きいコンタクトホールに液滴吐出技術やナノインプリン
ト技術を用いた場合、開口の形状に沿った配線となり、開口の部分は他の箇所より凹む形
状となりやすかった。
【解決手段】高強度、且つ、繰り返し周波数の高いパルスのレーザ光を透光性を有する絶
縁膜に照射して貫通した開口を形成する。大きな接触面積を有する1つの開口を形成する
のではなく、微小な接触面積を有する開口を複数設け、部分的な凹みを低減して配線の太
さを均一にし、且つ、接触抵抗も確保する。 (もっと読む)


【課題】有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】対向配置された第1基板と第2基板;第1基板と第2基板との間に配され、画素ごとに分離形成された画素電極、画素電極に対向配置された共通電極、及び画素電極と共通電極との間に配された有機発光層;を備え、第1基板と画素電極との間に配され、画素電極に発光信号を伝達する少なくとも一つの薄膜トランジスタ、少なくとも一つのキャパシタ、及び少なくとも一つの配線部;を備え、薄膜トランジスタ及びキャパシタを構成する電極部及び配線部のうち少なくとも一つの表面には、電極部及び配線部の光学特性が変形された光特性変形層が形成された有機発光表示装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】機械的な外力を加えて両基板を切断する際に、基板での過大な応力や変形の発生を防止する。
【解決手段】互いに対向する第1の基板1と第2の基板7の間に複数の接合材2と複数の支持部材3とが配置された組立体20を用意する。支持部材3の各々は、第1の基板1の第2の基板と対向する面に、隣接する接合材同士を仕切る第1の仮想線10に沿って設けられる。接合材2を加熱して第1の基板1と第2の基板7とを接合材によって接合するとともに、支持部材3の各々と第2の基板7とを当接させる。第2の基板7を第1の仮想線10に沿って機械的な外力を与えて切断し、第1の基板1を接合材と第1の仮想線の間に位置する第2の仮想線12に沿って機械的な外力を与えて切断する。 (もっと読む)


【課題】固体封止構造または膜封止構造を有する有機エレクトロルミネッセンスデバイスにおいて、封止層にダメージを与えることなく短絡箇所の修復を行うことが可能な有機エレクトロルミネッセンスデバイスを提供する。
【解決手段】
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、 少なくとも一方が金属層からなる第1および第2電極と、前記第1および第2電極の間に設けられた有機材料からなる有機機能層と、前記金属層を覆うバッファ層と、前記バッファ層を覆い且つ層内に複数の空隙を有する空隙含有層と、前記第1および第2電極、前記有機機能層、前記バッファ層および前記空隙含有層を含む積層構造体を被覆する封止層と、を含む。前記バッファ層は、前記金属層を構成する金属の融点よりも低い温度で気化する材料であって前記封止層と同一の材料を含む。 (もっと読む)


【課題】有機マイクロエレクトロニクスデバイスを製造する目的で放射線硬化型熱転写素子を製造及び利用する方法の提供。
【解決手段】サブストレート100とサブストレート100の上を覆っている光熱変換層102を含む放射線硬化型熱転写素子と、熱転写素子を作製するための方法。該光熱変換層102は、硬化波長の放射線の照射によって硬化可能な放射線硬化型物質と、硬化波長における放射線吸収度を実質的に向上させない結像放射線吸収剤物質からなる。該放射線硬化型熱転写素子は、有機マイクロエレクトロニクスデバイスを作製するためのプロセスで用いることができる。 (もっと読む)


【課題】レーザ光を用いて、対象物の所定箇所をさらに正確にかつ能率よく加工し、修正を行う
【解決手段】基板を載置するステージと、基板を加工する加工部となる局所排気領域と、ステージに向けてガスを噴射することにより該ステージから浮上するためのガス供給部と、ステージに向けて噴射したガス及び局所排気領域から該ステージ側に供給されたガスを排気する排気部とを備えた局所排気装置を有する。
局所排気装置は、局所排気領域に繋がる流路を、薄膜形成用の原料ガスを供給する原料供給部と、エッチングにより局所排気領域内に発生したダストを排出する局所排気部とに切り換えて連通させる切換手段を備える。そして、基板に薄膜を形成する場合には、切換手段により局所排気領域に繋がる流路が原料供給部に連通され、基板をエッチングする場合には、切換手段により局所排気領域に繋がる流路が局所排気部に連通される。 (もっと読む)


【課題】ダークスポットの発生を食い止め、歩留まりが高い有機EL装置を開発する。
【解決手段】
基板2上に少なくとも第1電極層3と、機能層5と、第2電極層6が積層され、第1電極層3が第1電極層分離溝15によって複数に分離された有機EL装置1において、前記第1電極層分離溝15の底部に基板2の素材と第1電極層3の素材が混じった絶縁層25が存在する構成とすることによって、絶縁性を高め、ショートすることを防止している。 (もっと読む)


【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料を創案することにより、有機EL素子パッケージを利用した有機ELデバイス等の長期信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともSnO含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料であって、(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比が0.6〜4であり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】リーク電流や短絡を生じにくい照明用に適した有機EL素子を、高価なフォトリソグラフィを使用することなく、レーザ加工により製造する有機EL素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機EL素子の製造方法は、基板1上に、分割して第1電極2を形成する工程と、隣り合う発光素子の第2電極4に接触する部分に対応する第1電極2に隣接するよう絶縁膜5を形成する工程と、隣り合う発光素子の第2電極4に接触する部分に対応する第1電極2上に積層された有機発光層3をレーザ加工により除去し分割する第1分割溝8を形成する工程と、第1分割溝8を埋め、且つ、複数の有機発光層3上を覆うよう第2電極4を形成する工程と、絶縁膜5の上に積層された有機発光層3/第2電極4をレーザ加工により除去し分割する、底面が絶縁膜5となる第2分割溝11を形成する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】
カラーフィルタ方式のOLEDパネルでも、単一波長で、かつ高い信頼性で検査・修正が可能であり、歩留まりを向上させることのできる薄膜表示素子の検査修正方法及び検査修正装置を提供する。
【解決手段】
発光層の上に形成された金属電極膜と発光層の金属電極膜と反対の側に形成された透明電極膜とを有する薄膜表示素子の発光の状態を検査して不良箇所を修正する方法及びその装置を、金属電極と透明電極とに電力を印加して発光層を発光させ、この発光層の発光の状態を金属電極に対して透明電極の側から観察して発光層で発光していない位置を検出し、この検出した発光層で発光していない位置の情報に基づいて金属電極に透明電極と反対の側からレーザを照射して発光層で発光していない位置の上方の金属電極膜を除去するように構成した。 (もっと読む)


【課題】安定した発光特性を有し、且つ、リーク電流や短絡を生じにくい照明用に適した有機EL素子を、高価なフォトリソグラフィを使用することなく、レーザ加工により製造する有機EL素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機EL素子の製造方法は、第1電極2が分割して形成された基板1上に、有機発光層3を形成する工程と、有機発光層3の上のみに所定厚さの下部第2電極4bを形成する工程と、第1電極2上に積層された有機発光層3/下部第2電極4bを分割する第1分割溝8をレーザ加工により形成する工程と、第1分割溝8を埋め、且つ、複数の有機発光層3/下部第2電極4b上を覆うよう上部第2電極4cを形成する工程と、第1電極2上に積層された有機発光層3/下部第2電極4b/上部第2電極4cを分割する第2分割溝11をレーザ加工により形成する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】所望の輝度変化パターンが、素子の電圧−電流特性に影響されずに、より容易に、かつ、きれいな画質で、再現性よく形成された有機電界発光素子及びその製造方法の提供。
【解決手段】陽極と陰極との間に発光層を有してなり、発光面内の少なくとも一部に輝度を変化させた輝度変化パターンからなる面積階調を有することを特徴とする有機電界発光素子及びその製造方法である。前記輝度変化パターンの形成が、電磁波照射によって行われる態様が好ましい。 (もっと読む)


【課題】容易にコントラストをつけることができ、かつ製造コストを下げることができると同時に、パターン化に用いる有機電界発光素子として正孔注入層にアリールアミン骨格を有する化合物以外の材料をも適用することが可能であり、材料選択の幅を広げることができる有機電界発光素子の製造方法。
【解決手段】窒素ガス及び希ガスのいずれかを含むガス雰囲気下で陽極を表面処理する表面処理工程と、前記表面処理工程により表面処理された陽極上に少なくとも正孔注入層と発光層とを含む有機電界発光素子を作製する有機電界発光素子作製工程と、有機電界発光素子の発光面の少なくとも一部に電磁波を照射して輝度を変化させる電磁波照射工程とを含むことを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】各画素が複数の互いに異なる色相の発光層を備えた副画素からなる有機EL表示装置において、各副画素の発光層を、シャドーマスクを用いず、且つ、不要な層の除去時に他の層へのダメージを生じることなく成膜し、発光効率の高い装置を製造しうる製造方法を提供する。
【解決手段】全副画素領域に第1の色相の発光層を有する第1の有機化合物層4を成膜した後、第2の副画素領域12と第3の副画素領域13から第1の有機化合物層4を除去し、次に、全副画素領域に第2の色相の発光層を有する第2の有機化合物層5を成膜した後、第3の副画素領域13から第2の有機化合物層5を除去し、最後に全副画素領域に第3の色相の発光層を有する第3の有機化合物層5を成膜する。 (もっと読む)


【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子の発光効率と発光寿命を改良する金属パターン形成用積層体とそれを用いた金属パターン形成方法及び該金属パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】光熱変換層3と金属転写層4とを有する金属パターン形成用積層体1に真空下で赤外レーザー8を照射し、該赤外レーザーを照射した領域9の金属転写層を蒸発させて、非接触の被転写体5の上に金属パターンを形成することを特徴とする金属パターン10の形成方法。 (もっと読む)


【課題】有機発光素子の製造方法及び有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光層を具備する中間層の特性を容易に向上させるように、ベース部材を準備する段階、第1電極が形成された基板を準備する段階、基板をベース部材上に配する段階、基板を覆い、基板周辺の露出されたベース部材と接するように、ドナーフィルムを配する段階、ベース部材とドナーフィルムとを接合する段階、基板を挟んで接合されたベース部材及びドナーフィルムをレーザ熱転写用装置内に投入して転写工程を進め、第1電極上に有機発光層を含む中間層を形成する段階、及び中間層上に第2電極を形成する段階を含む、有機発光素子の製造方法及び有機発光表示装置の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】電気素子パッケージの設計の自由度を確保しつつ、ガラスフリットの溶着時に加えられるレーザ光の照射熱によって、電極や電気素子が損傷するという事態を可及的に低減する。
【解決手段】有機EL層2を内部空間に気密封止した有機EL素子パッケージ1であって、有機EL層2が配置された素子基板3と、素子基板3の有機EL層2側の表面に間隔を置いて対向する封止基板4と、有機EL層2の周囲を囲むように素子基板3と封止基板4との間の隙間を気密封止するガラスフリット5と、素子基板3とガラスフリット5の間に配置され且つガラスフリット5を溶着する際に照射されるレーザ光を反射する反射膜として機能する誘電体多層膜8とを有する。この誘電体多層膜8は、低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層とを交互に積層したものから形成される。 (もっと読む)


【課題】薄型固体封止をしてもレーザリペア時のダメージを抑制でき、EL発光特性が低下することなく長期間にわたり維持することが可能な有機EL素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基材上に、少なくとも、第一電極層、有機発光媒体層、第二電極層、パッシベーション層をこの順に積層して有機EL素子を形成する工程と、前記有機EL素子中の異物を検査する工程と、前記異物又は前記異物の接する範囲の前記第一電極層若しくは前記第二電極層に焦点を持つマイクロレンズを前記パッシベーション層上に形成する工程と、前記マイクロレンズを介してレーザを照射する工程と前記マイクロレンズを備えたパッシベーション層上に封止層を積層し、有機EL素子を形成する工程と、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法としたもの。 (もっと読む)


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