Fターム[4C092AA04]の内容
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Fターム[4C092AA04]に分類される特許
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有向ビームのプラズマ源とマイクロリソグラフィーへのその応用
本発明は、所望波長範囲の放射波をある放出方向に発生させる方法に関する。本方法によれば、その波長が該所望範囲を含んでいる初期放射波を放射波供給源により作り出し、この初期放射波を、波長が所望範囲外の初期放射波のビームを実質的に除去するように濾波する。本発明の方法は、初期放射波のビームをその波長に応じて選択的に偏向させて、所望波長のビームを回収するように、初期放射波が通過するコントロール領域においてビームの屈折率の制御された分布を作り上げることにより濾波を行うことを特徴とする。本発明は関連する装置にも関する。
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極紫外線放射又は軟X線放射を作り出すための方法及び装置
【課題】プラズマを生成するために使用される装置の電力を大きく増加させる必要なくよりよい経済的条件の下でおよそ13.5nmのスペクトル範囲でEUVリソグラフィーへの使用を可能にする一方、装置を使用者の特定のニーズに合わせる高い柔軟性を提供する。
【解決手段】極紫外線(EUV)又は軟X線放射を発生させる装置が、プラズマを生成するために106W/cm2を超える強度でターゲットにフォーカスされたレーザ放射を生成するためにレーザ源と、レーザ源で生成されたプラズマの経路の周りに位置した電極とを有する。電極は、レーザ生成プラズマ膨張時間の時定数より小さい固有の時定数を有する急放電をプラズマ中で生成するための手段と結合している。
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