【課題】コレクタアセンブリの効率を改善し効果的な放射源を提供する。また、放射生成のために使用される励起パワーを減少させることができ、励起源の寿命を延ばすこと。さらに、ＥＵＶ放射に対する集光の効率を改善すること。
【解決手段】リソグラフィにおける使用のためのレーザ生成プラズマ極端紫外線源における使用のためのコレクタアセンブリは、コレクタ本体内に集光ミラーおよび窓を有するコレクタ本体を有する。窓は、励起ビーム、一般的には、赤外線レーザビームを透過し、それによってビームはプラズマを励起するために窓を通り抜けることができる。また、窓はその表面上にＥＵＶミラーを有しており、当該ＥＵＶミラーも励起ビームを透過するが、プラズマによって生成されたＥＵＶを集光ミラーの集光箇所へと反射することができる。窓は、集光効率を改善し、集光箇所におけるイメージの非均一性を減少させる。放射源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法は、コレクタを使用することができる。 （もっと読む）

極端紫外光源は、レーザ生成プラズマ（３）において極端紫外放射を生成することが可能な生成位置と、極端紫外線をコリメートする集光光学系（６）とを備える。加圧ガス流入が、生成位置で発生したデブリ（４）から集光光学系（６）を保護するために、生成位置と集光光学系（６）との間でガスカーテンを形成する。このガス流入は、集光光学系（６）の表面に沿うように送られる。したがって、集光光学系（６）をデブリ（４）から遮蔽することによって、集光光学系（６）の寿命が延びる。この遮蔽ガスをさらに用いて、集光光学系（６）を冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】安定な光量を得る事が可能な極端紫外光光源装置及びその調整方法を提供する。
【解決手段】極端紫外光放射種が供給される材料ガス供給部６と極端紫外光を出射する光出射部１４とを有する本体１と、本体１内に設けられ、極端紫外光放射種を励起してプラズマを発生させる第１、第２の主放電電極７、８及び高電圧パルス発生部９と、本体１内に設けられ、プラズマから放射される極端紫外光を光出射部１４に集光するＥＵＶ集光鏡１０と、第１、第２の主放電電極７、８及び高電圧パルス発生部９とＥＵＶ集光鏡１０との間に設けられたホイルトラップ１１と、ホイルトラップ１１に接続され、ホイルトラップ１１の位置を調整する第１の位置合わせ機構１２と、光出射部１４より出射された極端紫外光から第１の位置合わせ機構１２を操作するため、プラズマの配光分布像を測定する測定部１５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】レーザビームの照射による初期プラズマの発生後、できるだけ速やかに電極間で放電を発生させて効率よく初期プラズマを加熱してＥＵＶ放射を発生させること。
【解決手段】リセット回路部７１は、可飽和リアクトルＳＲ３の２次巻線ＬＲ３に対して、可飽和リアクトルＳＲ３に流れる電流に基づき生ずる残留磁束と同方向に磁束が生ずるようにリセット電流を流す。スイッチＳＷをｏｎにし、磁気スイッチＳＲ１がｏｎとなると、コンデンサＣ０に蓄えられた電荷が移行してコンデンサＣ２に充電されるとともに、レーザが電極２ａに塗布されている高温プラズマ原料に照射される。これにより高温プラズマ原料は気化し対向する第２の電極２ｂに達する。可飽和リアクトルＳＲ３は、上記リセット電流により飽和してｏｎとなっており、コンデンサＣ２から回転電極２ａ，２ｂに直ちにパルス電力が印加され、電極２ａ，２ｂ間に大きな電流が流れ高温プラズマが発生する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光の放射強度分布の変化が、集光鏡の光反射率が低下したことに起因するか、発光点が移動して光軸がすれたことに起因するかを判別すること。
【解決手段】電極１１，１２間にパルス状の大電流を流し、高温プラズマ領域を形成し、波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光を放射させる。このＥＵＶ光は、集光鏡２により集光され、アパーチャ４を介して露光機へ入射する。計測時には、計測ユニット１８を光路内へ移動させ、ＥＵＶとＥＵＶよりも長波長の光の放射強度分布を計測する。極端紫外光の放射強度分布のみが変化している場合は、放射強度分布変化の原因はスズが集光鏡の反射面に付着しためであるとして集光鏡２のクリーニングを行う。また、極端紫外光よりも長波長の光の放射強度分布も変化している場合は、放射強度分布変化の原因は光軸のずれが生じているためであるとして、放電部と集光鏡の位置合せ（アライメント）等を行なう。 （もっと読む）

リソグラフィ装置は放射源によって放出される放射から放射ビームを提供する放射システムを含む。放射システムは放射源から発散される材料を捕捉する汚染物質トラップ（８）を含む。回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸（Ａ）から半径方向（Ｒａ）に延在し、かつ放射システム内の放射ビームの伝搬中に放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素（１１）を含む。放射システムは、回転トラップ要素から汚染物質材料粒子を受ける汚染物質キャッチ（１２、２７、２８）をさらに含み、汚染物質キャッチは、放射システムの動作中、汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する。 （もっと読む）

【課題】繰り返し周波数を上げて平均出力の増大を図ることができる、レーザアシストＤＰＰ方式極端紫外光光源装置に適用するに好適なパルス電力供給手段を提供すること。
【解決手段】スイッチＳＷがオンとなり、第１の磁気スイッチＳＲ０が飽和してオン状態になると、第１のコンデンサＣ０から第２のコンデンサＣ１ヘエネルギーを移行させ、第２のコンデンサＣ１が充電される。電極１ａ，１ｂには、例えばＥＵＶ発生種である高温プラズマ原料が塗布されている。この原料に対して、レーザ装置（エネルギービーム照射手段）２からレーザビーム２ａを照射し、原料を気化させ、上記コンデンサＣ１に充電された電圧により放電を発生させ、気化された上記原料を加熱励起し高湿プラズマを発生させる。パルス電力供給手段にはトランスが設けられておらず、また、回路動作を遅延させる回路要素を減少させたので、繰り返し周波数を速くすることができる。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光光源装置の集光点以降における角度分布特性が悪化して非対称になったことを検知できるようにすること。
【解決手段】レーザービームを照射して固体の原料Ｍを気化させ、放電電極２ａと２ｂの間にパルス電力供給部３からパルス電力を供給し、放電電極２ａ．２ｂ間で放電を発生させる。これにより高温プラズマが発生し、ＥＵＶ光が放射される。集光反射鏡６の光軸を中心とする円環上に、検知手段２０が配置され、検知手段２０内には、ピンホールを有する２つの絞り部材が配置され、ピンホールは、集光点Ｐと集光反射鏡６の光反射面６ａにおける任意の点とを結ぶ仮想線上に並ぶように配置される。このピンホールを通過した光は、受光素子に入射する。この受光素子で検知した照度データに基いて集光点Ｐに集光されたＥＵＶ光の角度分布変動を求めることができる。 （もっと読む）

光学モジュールを用いて、ＥＵＶ放射線ビームを案内する。光学モジュールは、真空排気可能なチャンバ（３２）と、チャンバ（３２）内に収容した少なくとも１つのミラーとを備える。上記ミラーは、互いに補完し合ってミラー反射面全体を形成する反射面（３４）を有する複数の個別ミラー（２７）を有する。支持構造を、熱伝導部（３７）により個別ミラー（２７）それぞれのミラー本体（３５）にそれぞれ機械的に連結する。ミラー本体（３５）の少なくとも若干は、少なくとも１自由度での支持構造（３６）に対するミラー本体（３５）の所定の変位を得るための関連のアクチュエータ（５０）を有する。熱伝導部（３７）は、ミラー本体（３５）が吸収する少なくとも１ｋＷ／ｍ^２の熱パワー密度を支持構造（３６）に放散させるよう構成する。光学モジュールの一態様では、集積電子変位回路を、変位可能な個別ミラー（２７）のそれぞれに空間的に近接して関連付ける。この変更形態では、中央制御装置を、変位可能な個別ミラー（２７）の集積電子変位回路と信号接続する。その結果、個別ミラーに無視できない熱負荷がかかる場合でも高いＥＵＶ放射線スループットを確保する照明光学系を構成できる、光学モジュールが得られる。 （もっと読む）

【課題】多数のホイルを備えたホイルトラップにおいて、多数のホイルを確実に支持でき、またホイルを放射状に並べることができるようにすること。
【解決手段】ホイルトラップは、ＥＵＶ光の光軸に沿って設けられた円柱部材１８と、該円柱部材１８から半径方向に放射状に配置された複数のホイル２０と、外側リング１９から構成されている。外側リング１９内周には、スリット２１が形成され、そのスリットにホイル２０が挿入され、ホイル２０の他端は、円柱部材１９の周側面に突き当てられる。円柱部材１８を配置し、ホイル２０を円柱部材１８の周側面に突き当てるようにしたので、ホイルの枚数が多くなっても、ホイルを放射状にそろえて並べることができる。なお、円柱部材１８の周側面にスリットを形成し、一部のホイルを挿入するように構成すればホイルトラップの組み立てが容易になる。 （もっと読む）

【課題】 汚染粒子によって与えられる損傷を軽減することである。
【解決手段】 放射源は、極端紫外線を生成するように構成される。放射源は、使用中に内部でプラズマが発生するチャンバと、プラズマから副生成物として形成され蒸着面へと放出される材料を蒸着させるように構成された蒸着面を含む。リソグラフィ装置の放射源内の又はプラズマ放射源から副生成物材料を除去する方法は、使用中にプラズマから蒸着面へと放出される材料を蒸着させることを含む。 （もっと読む）

放射システムは、放射ビームを生成するように構成される。この放射システムは、放射およびデブリを放出するプラズマを生成するように構成された放射源（５０）と、集光された放射を放射ビーム放出開口（６０）に誘導する放射コレクタ（７０）とを含む。磁場ジェネレータ（２００）は、磁場強度の勾配を有する磁場を発生させてプラズマを放射コレクタ（７０）から離して誘導するように構成される。 （もっと読む）

【課題】クリーニングガスを集光鏡に導入するに際し、簡易な手段で、外側のミラーに対してよりも内側のミラーに対してクリーニングガスを多く供給できるようにすること。
【解決手段】 クリーニングガスを導入するガスノズル２１を、直管状のパイプで構成し、集光鏡３ａの複数のミラーを支持する支柱に沿って、集光鏡３ａの光出射口を横断するように設け、このパイプに複数のガス吹き出し口を形成する。そして、このガスノズル２１へのクリーニングガスの供給を、集光鏡３ａの光出射口の中心付近に当たる位置からおこない、パイプに設けたガス吹き出し口から、集光鏡の内部に向けて、ガスを吹き出す。これにより、集光鏡３ａの外側のミラーよりも内側のミラーに対してより多くの量のクリーニングガスを供給することができる。 （もっと読む）

放射源（ＳＯ）は極端紫外線を生成するように構成されている。放射源（ＳＯ）は、燃料が放射ビーム（５）に接触されてプラズマを形成する位置に配置されたプラズマ形成部位（２）と、ガスが放射源（ＳＯ）を出ることを可能にするように構成された出口（１６）と、少なくとも部分的に出口（１６）の内部に配置された汚染トラップ（２３）とを含む。汚染トラップは、プラズマの形成によって生成されるデブリ粒子を捕捉（２３）するように構成されている。 （もっと読む）

リソグラフィ装置は、望ましい放射および望ましくない放射を含む放射ビームを、プラズマを使用して生成するように構成された放射源と、放射ビームを調整し、かつリソグラフィ装置の動作中に水素ガスを受けるように構成された照明システムと、パターニングデバイスを保持するように構成されたサポート構造と、を備える。パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができる。基板テーブルは、基板を保持するように構成され、投影システムは、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成される。リソグラフィ装置は、照明システムに入射する際の放射ビームがプラズマにより生成された望ましくない放射を少なくとも５０％含み、かつ水素ラジカルを生成するための前記水素ガスと相互作用する放射波長を含むように構成される。 （もっと読む）

リソグラフィ装置（１）は、極端紫外線を生成するように構成された放射源（ＳＯ）を含み、放射源（ＳＯ）は、プラズマ（２２５）が生成されるチャンバ（２１０）と、プラズマ（２２５）によって放出された放射を反射するように構成された集光ミラー（２７０）と、デブリ軽減システム（２３０）とを含む。デブリ軽減システム（２３０）は、プラズマ（２２５）によって生成されたデブリを熱化するために選択される第１ガス流（２４０）をプラズマに向かって供給するガス供給システム（２３５）と、集光ミラー（２７０）に近接する位置に配置され、チャンバ（２１０）内に第２ガス流（２５０）を供給する複数のガスマニホルド（２４７）を含む。第２ガス流（２５０）は、熱化デブリが集光ミラー（２７０）上に堆積するのを防止するようにプラズマ（２２５）に向かって誘導される。 （もっと読む）

【課題】集光ミラーをクリーニングすることに伴うＥＵＶ光発生装置のダウンタイムの低減を図る。
【解決手段】クリーニング位置に位置されている集光ミラーのクリーニングを終了したことが判定され、かつＥＵＶ光集光位置に位置されている集光ミラーがクリーニングを必要とすることが判定された時点で、ＥＵＶ光集光位置に位置され、クリーニングを必要とする集光ミラーを、クリーニング位置まで搬送するとともに、クリーニング位置に位置され、クリーニングが終了した集光ミラーをＥＵＶ光集光位置まで搬送するようにしている。 （もっと読む）

【課題】実用的に十分な極端紫外光の出力を確保することのできるＥＵＶ光源装置を提供すること。
【解決手段】モータ２０ｄによって放電電極２０ａ，２０ｂが周方向に回転するよう駆動され、また、凹所形成用エネルギービーム照射機５０からレーザビームが液体充填部３１に充填された原料の液面に照射され凹所が形成される。凹所が形成されると、凹所に対してエネルギービーム照射機４０からレーザビームが照射される。液体充填部３１に充填された液体の原料は、このレーザビームが照射されることによって気化し、気化した原料Ｍが放電電極２０ａと２０ｂの間の放電領域に到達する。ついで、高電圧パルス発生部１１によって放電電極２０ａ、２０ｂにパルス電圧が供給され、放電電極２０ａ、２０ｂのエッジ間で高温プラズマが発生し、集光反射鏡４に向けてＥＵＶ光が放射される。 （もっと読む）

【課題】放射源を改善する。
【解決手段】放射源は、放射を生成するように構成される。放射源は、プラズマ燃料から放射放出プラズマを生成するための使用に際して、放電を生成するように構成された第１電極（１１；６１）および第２電極（１２；６２）を含む。放射源は、また、前記第１電極（１１；６１）および前記第２電極と関連付けられた燃料リリース領域へプラズマ燃料を供給するように構成された燃料供給源と、前記燃料供給源により供給された燃料の前記燃料リリース領域からのリリースを誘発させるように構成された燃料リリース装置と、を含む。前記燃料リリース領域は前記第１電極（１１；６１）および前記第２電極から離隔される。 （もっと読む）

印加された軸方向磁場を含めることのできる自己磁場閉じ込め型リチウムプラズマが、二酸化炭素レーザによって亜臨界密度において照射されて、１３．５ｎｍの波長で極紫外光子を高効率、高出力、かつ小型光源で生成する。
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