【課題】生産に適した出力レベルおよび繰返し速度を実現する放射源を提供する。
【解決手段】放射源は、プラズマを形成して電磁放射を生成するために、アノードとカソード間の空間内のガスまたは蒸気中で放電を起こすように構成され配置されたアノードおよびカソードを備える。ガスまたは蒸気は、キセノン、インジウム、リチウム、および／またはスズを含むことができる。熱の損失を改善するために、放射源は複数のプラズマ放電要素を含み、それぞれを短い時間だけ用い、その後他の放電要素が選択される。ピンチ形成、したがってＥＵＶ放射のパルスの的確なタイミングを改善するために、放射源はトリガ装置を備える。変換効率を改善するため、放射源は低いインダクタンスを有するように構成され、自己誘発型で動作する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ集光鏡によって集光されるＥＵＶ光の遠方配光分布を良好とし、照度ムラを抑制すること。
【解決手段】回転楕円面形状、回転放物面形状、ウォルター型形状等の複数枚の薄い凹面ミラーを入れ子状に高精度に配置したＥＵＶ集光鏡において、各ミラーｂ，ｃ，ｄ，ｅの光入射端の厚みにより遮光されないように、各ミラーａ〜ｅの光入射端の反射面でない側の形状をナイフエッジ状に形成する。同様に、各ミラーｂ，ｃ，ｄ，ｅの光出射端についても、光出射端の形状をナイフエッジ状の構成する。これにより、ＥＵＶ光源装置に使用したときの遠方配光分布を良好とし、光度の低下度は従来のものより小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】電気的に作動するガス放電に基づく極紫外線発生装置において、放電回路のインダクタンスを減少させることで電極を充電するのに必要な時間を減少させる。
【解決手段】高圧電源が、ディスク電極として構成された、回転可能に設置された電極に連結している。高圧電源は、ディスク表面に平行に配向されたリング面を有する回転軸と同心のリングに沿って配置されたコンデンサ要素を有するコンデンサバッテリーを有する。電気接続が、回転軸と同心のリングに沿ってコンデンサ要素からディスク表面にガイドされる。 （もっと読む）

【課題】溶融金属を電極表面に適用する際に層厚さの調節の改良を実現し、電極の回転速度の増加に関連した溶融金属の環境への制御されない広がりに抗するより良好な保護を与える。特に、電極の消費されない放電領域が数キロヘルツの反復率で放電領域に常に位置する程度に回転速度を増加させることを可能とする。
【解決手段】塗られるべきエッジ領域が、電極表面上の電極のエッジに沿って閉じて周囲に延びる少なくとも１つの受容領域を有し、受容領域が溶融金属で濡れるように構成され、溶融金属の再生可能な適用のために、液体供給ノズルが受容領域に誘導されていることで達成される。 （もっと読む）

【課題】中間集光点におけるＥＵＶ光の輝度分布が光軸対称性を有するようにし、ＥＵＶを利用した露光装置の光学系の設計を容易にすること。
【解決手段】第１の電極２ａに貫通孔２ｃを設け、第２の電極２ｂをこの貫通孔２ｃの一方の側に近接させて設ける。第２の電極２ｂは回転し、液体状または固体状の原料を、第１の電極２ａの貫通孔の中心軸上の貫通穴近傍に搬送する。そして、レーザ光を照射して原料を電離させ、第１の電極２ａと第２の電極２ｂ間に放電電圧を印加して放電電流を流し、電離した原料から上記貫通孔内に高密度高温プラズマを生成させてＥＵＶ光を発生させる。貫通孔２ｃの中心軸と、ＥＵＶ光を集光する集光鏡３の光軸を一致させ、貫通孔の中心軸と放電電流の流れる方向を一致させる。これにより、輝度分布が光軸対称性を有するＥＵＶ光を取り出すことができる。 （もっと読む）

【課題】排気装置やデブリトラップが大掛かりにならず、容易に放電部側とＥＵＶ集光鏡側に所望の圧力差を設定することが可能なＥＵＶ光源装置を提供すること。
【解決手段】チャンバ１は、放電空間とＥＵＶ集光鏡３ａが設けられた集光空間に仕切られ、その間に開口１５ａを有するアパーチャ部材１５が設けられ、アパーチャ部材１５は冷却される。第１、第２の放電電極２ａ，２ｂが回転し、ＳｎまたはＬｉにレーザ光が照射され、第１、第２の放電電極２ａ，２ｂ間にパルス電力が印加されると、放電が発生し両電極２ａ，２ｂ間には高密度高温プラズマが形成され波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。ＥＵＶ光は、ＥＵＶ光集光部３に入射し、ＥＵＶ光集光部３で集光され露光装置の照射光学系へ導かれる。放電空間と集光空間を排気する第１、第２の排気装置５−１，５−２が設けられ、放電空間は数Ｐａ、集光空間は数１００Ｐａに維持される。 （もっと読む）

軟Ｘ線発生器は、カソードとアノードとの間の放電を開始するために高い信頼性と再現性でプラズマを提供する円錐形状の独特なパルストリガ組立体を有する。また、本発明の軟Ｘ線発生器は、外周縁を有する略円盤状の回転アノードを有する。このアノードは、アノードの異なる分部をプラズマ放電に晒すためにカソードに対して回転でき、これによりアノードの磨耗を低減すると共により長期の運転を可能にする。また、アノードの腐食は、使用中におけるアノードの液体冷却によって低減できる。発生器は、カソード・アノード放電のために比較的低いキャパシタンスを使用し、連続的で再現可能な結果を得るために比較的高い電圧とパルス繰り返し速度（周波数）を使用する。 （もっと読む）

【課題】集光光学系に付着、堆積したスズおよび／またはスズ化合物のデブリを除去する手段を備えた、スズを極端紫外光放射種に用いた極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】容器１０内に極端紫外光放射種であるスズを導入するために、スズなどの原料を供給する原料供給手段と、容器１０内で原料を加熱・励起して高密度高温プラズマを発生させる加熱・励起手段１１，１２，１３と、上記プラズマから放射される極端紫外光を反射して集光する集光光学手段２と、集光光学手段２を介して極端紫外光を取り出す取り出し部７と、容器１０に接続された排気手段９とを有する極端紫外光光源装置において、集光光学手段２を加熱して集光光学手段２に付着、堆積したスズなどを液化する加熱手段８と、液化したスズなどを集光光学手段２から除去する除去手段５ａ、５ｂ・・・とを備えた極端紫外光光源装置である。 （もっと読む）

【課題】本発明はプラズマに基づく放射線源の望ましくないスペクトル成分（帯域外放射線）を抑制する装置に関する。
【解決手段】プラズマとＥＵＶ放射線の適用位置の間にフィルタユニット４が設けられ、フィルタユニット４は、分子が所望のＥＵＶ放射線では吸収極大を有さず、少なくともＩＲ領域で放出される他の望ましくない波長では集中的な吸収極大を有する少なくとも１つの高速に流れるガスを含む少なくとも１つのガスカーテン４１を有することで達成される。空間的に画定してガスカーテン４１を制限し、真空室５から可能な限り完全にガスカーテン４１を遠ざけるために、少なくとも１つのスリットノズルおよび効率的なガスシンクがビーム束１１の光軸に対して互いに対向する横方向に配置される。 （もっと読む）

【課題】デブリの運動エネルギーを低下させ、高密度高温プラズマから０°の角度で出射する不用な光は遮光するが、必要な光は遮光しない、また加工が容易で廉価な構造体を備えた極端紫外光光源装置を提供する。
【解決手段】容器１内に極端紫外光を放射する原料を供給する原料供給手段１０と、供給された原料を加熱・励起して極端紫外光を放射するプラズマを発生させる加熱・励起手段４，５，６と、上記プラズマから放射される極端紫外光を集光するように容器１内に配置された集光光学手段１３と、上記集光された極端紫外光を取り出す光出射部１４とを有する極端紫外光光源装置において、加熱・励起手段４，５，６と集光光学手段１３との間に、極端紫外光の光軸上に凹面部を有する部材１５を設け、該凹面部は上記プラズマに対向して設けられている。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一つのＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光源（３）と、特に、有効利用する波長の範囲で、前記ＥＵＶ光源（３）の、又は前記ＥＵＶ光源（３）の中間像の一つの強度変動及び／又は位置変化を測定する開口絞り及びセンサ装置（１）とを備えたＥＵＶ照明システムにおいて、前記開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）とを有し、前記開口絞り及びセンサ装置（１）は、前記開口絞り（２．１）が前記ＥＵＶ光源（３）から、又はその中間像（７）の一つから発せられる照射の所定の立体角範囲が前記ＥＵＶ位置センサ（２．３）に当たるように配置される、ＥＵＶ照明システムに関する。 （もっと読む）

極端紫外（ＥＵＶ）放射を供給するシステムは、集光を有するレーザビームを生成するように配置されたレーザ光源と、レーザ光源に対して移動可能であり、表面材料を搬送するためのキャリアとを備え、表面材料は、キャリアによって搬送されると、再生可能なターゲットエッジを提供する。集束ビームは、ターゲットエッジに衝突して、ＥＵＶ放射を発生するプラズマを生成するように配置される。該システムは、そこに衝突したＥＵＶ放射を反射することによってＥＵＶ放射を活用するためのミラーと共に動作可能である。ミラーは、ほぼ非球面な表面と、非球面な表面を少なくとも部分的にコートするために反射液体を供給するための手段とを備え、ミラーは、遠心力で液体を非球面な表面に閉じ込めるように回転可能である。
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【課題】ガス放電のための放電回路のインダクタンスをかなり減少させ、同時に電極システムの寿命を増加させる。また、様々なエミッターの使用を保証する。
【解決手段】放電チャンバに収容された回転電極装置が互いから距離を置いて互いに固く連結された電極を有し、共通の軸の周りに回転するように設けられる。２つの電極のために高電圧パルスを発生させる高圧電源のコンデンサー要素が相互の距離により形成された自由スペースに配置される。電極は、コンデンサー要素及びコンデンサー要素を充電するための電源に電気接続している。 （もっと読む）

【課題】放射線への電気エネルギーの変換効率を改善する。
【解決手段】アノードおよびカソードを備え、該アノードおよびカソードが、該アノードとカソードとの間の空間内の物質内で放電を行い、電磁放射線を生成するためにプラズマを形成するように構成され、配置されている放射線源の変換効率を改善するために、上記放射線源ユニットは、インダクタンスが低くなるように、また最小のプラズマで動作するように構成される。 熱の消散を改善するために、流体循環システムが、その気相および液相の両方で流体を使用することにより上記放射線源空間およびウィック内に形成される。 汚染物がリソグラフィ投影装置に入り込むのを防止するために、放射線源ユニットは、汚染物の生成を最低限度に抑えるように構成され、放出される放射線と干渉を起こさないで、汚染物を捕捉するためにトラップが使用される。 （もっと読む）

【課題】 ＥＵＶ光源装置内部の電極等に堆積した不純物（例えば、Ｓｎおよび／またはＳｎ化合物等の堆積物）を効率よく除去することにより、安定したＥＵＶを得ること。
【解決手段】 チャンバ１内にＳｎＨ₄ ガス等の原料ガスを導入し、高電圧パルス発生部１２から電極３ａ，３ｂ間に高電圧パルスを印加し、高密度高温プラズマ発生部９に高密度高温プラズマを発生させ波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光を放射させる。放射されたＥＵＶ光はＥＵＶ集光鏡５により反射されＥＵＶ光取出部６から放射される。またＥＵＶ放射停止時等に、チャンバ１内にＸｅガスなどの希ガスを導入し、高電圧パルス発生部１２から電極３ａ，３ｂ間に高電圧パルスを印加し、希ガスプラズマ放電を発生させる。希ガスの高密度高温プラズマが断熱膨張して生じる希ガスの高速のイオンまたは中性原子が、チャンバ内の電極等に堆積した不純物に衝突して不純物を離脱させ除去する。 （もっと読む）

【課題】 後段の光学系に含まれる光学素子への汚染を低減することが可能な光源装置を提供する。
【解決手段】 プラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を光学系に供給する光源装置であって、前記プラズマを生成する領域を覆うチャンバー内の気体に含まれる炭化水素化合物の濃度が３００ｐｐｂ以下であることを特徴とする光源装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】極紫外線を発生するための装置および方法を提供する。
【解決手段】極紫外線を発生するための装置および方法の目的は、様々なエミッタを使用するために電極の耐用年数を増加させた放射線源を作製することであり、放電チャンバ内の堆積物は金属エミッタを用いる時にかなり低減される。出発原料は、指向注入によって連続的に導入されてパルスエネルギービームにより予備イオン化される連続した一連の単一体積として供給される。少なくとも比較的大きい熱負荷がかかる電極が回転電極として作製される。 （もっと読む）

【課題】デブリトラップのプレートにデブリが堆積することを防ぐ。
【解決手段】容器１と、容器１内に錫および／または錫化合物、またはリチウムおよび／またはリチウム化合物を含む原料を供給する原料供給手段１０と、容器１内に供給された原料を放電により加熱・励起して極端紫外光を放射するプラズマを発生させる加熱・励起手段７と、プラズマから放射された極端紫外光を集光するように容器１内に配置された集光光学手段１３と、集光された極端紫外光を取り出す光出射部１４と、加熱・励起手段７と集光光学手段１３との間に設けられるデブリトラップ１５とを備える極端紫外光光源装置において、デブリトラップ１５は、冷却媒体により冷却されるリング状の支持体と、上記支持体の内側に、この支持体に支持され、放射状に配置された複数のプレートとから構成され、上記支持体と上記プレートとの間に断熱手段を設けた。 （もっと読む）

【課題】リング状の支持体内により多くの枚数のプレートを配置することを可能にした極端紫外光光源装置のホイルトラップを提供する。
【解決手段】極端紫外光光源装置のホイルトラップ１５を、支持体であるリング１８と、このリング１８の内側で支持される放射状に配置された複数のプレート１９とから構成し、更に複数のプレート１９を、両側をリング１８により支持され、十字型に組み合わされた２枚の第１のプレート（Ａ）１９と、第１のプレート（Ａ）１９により分割された空間に配置され、一端はリング１８により支持され、他端は第１のプレート（Ａ）１９の交点付近で互いに突き当てられて位置決めされる複数の第２のプレート（Ｂ）１９とから構成される。 （もっと読む）

本発明は、特に、EUV放射線および／または軟X線用の放射線ユニットに使用される破屑軽減システムに関する。本破屑軽減システムは、薄膜トラップ（11）を有し、この薄膜トラップは、放射線の直線通過が可能となるいくつかの経路と、バッファガス（7）を前記薄膜トラップにガス供給するための一つまたは複数の供給配管（5）とを有する。薄膜トラップは、前記経路のいくつかにまで広がる、少なくとも一つの内部の空間（14）を有し、前記供給配管は、前記空間に通じている。本発明の破屑軽減システムでは、効果的な破屑軽減が可能である。

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