【課題】 ホイルトラップを設けることなく、高速イオンや高速原子を捕捉し、高速イオンや高速原子によるＥＵＶ集光鏡のダメージを抑制できるようにすること。
【解決手段】 放電ガスをプラズマ生成部２に供給し、高電圧パルス発生部１１の放電回路１１ａから第１、第２の主放電電極２ａ、２ｂ間に高電圧パルス電圧を印加する。これにより高温プラズマが発生し波長１３．５ｎｍの極端紫外光が放射される。この極端紫外光は集光反射鏡４により集光されＥＵＶ光取出部６から出射する。また、第１、第２の主放電電極２ａ、２ｂ間に放電が発生するタイミングと略同一タイミングで第２の主放電電極２ｂと第３の電極１５間に放電回路１１ｂからパルス電力を供給する。これにより、プラズマＰ２が生成され、生成されたプラズマＰ２により生ずる電界と磁界により、上記高温プラズマに起因して生ずる高速粒子を捕捉する。 （もっと読む）

【課題】集光反射鏡の光反射面上に堆積する汚染物質を完全に除去することのできる集光反射鏡の前処理およびクリーニング方法並びに極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】放電ガスをプラズマ生成部２に供給し、高電圧パルス発生部１１から第１、第２の主放電電極２ａ、２ｂ間に高電圧パルス電圧を印加する。これにより高温プラズマが発生し波長１３．５ｎｍの極端紫外光が放射される。この極端紫外光は集光反射鏡４により集光されＥＵＶ光取出部５から出射する。高温プラズマの生成により生ずるデブリが集光反射鏡４の光反射面上に汚染物質層を形成するが、これを完全に除去するため、本発明においては汚染物質層が形成される前に、集光反射鏡の表面にクリーニングガス構成物質を付着させておく。これにより、クリーニングガス供給ノズル２５からクリーニングガスを流通させることで、汚染物質をほぼ完全に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】回転フォイルトラップがある状態での二次汚染の恐れを軽減すること。
【解決手段】デブリ防止システムが、放射源から放出されるデブリが放射源からの放射と共にリソグラフィ装置内へ、または装置の中で伝播することを防止するように構成されている。デブリ防止システムは回転軸の周りを回転可能な第１フォイルトラップ、および、第１フォイルトラップを少なくとも部分的に囲む第２フォイルトラップを含む。第２フォイルトラップは放射源を配置するための中心位置に対して光学的に開いている、かつ回転軸に垂直な方向に対して光学的に閉じている複数のフォイルを含む。 （もっと読む）

【課題】 回転電極型のＤＰＰ光源において、電極の冷却を効率よく行う手段を提供する。
【解決手段】 ＥＵＶ光源は、電極部と、電極駆動部と、電極冷却部とを備える。電極部は、一対の電極間の放電によりターゲット材料をプラズマ化し、生成されたプラズマからＥＵＶ光を放射させる。電極駆動部は電極部を回転させる。電極冷却部は電極部を非接触で冷却する。 （もっと読む）

【課題】ガスカーテンを生成する装置の簡単な配置と構成並びに長い寿命が極端な熱負荷の際にも可能である、放射プラズマの直接的な近傍でガスカーテンを生成する新たな可能性を見い出す。
【解決手段】幅広で平らなガスカーテン（１８；１９）の生成用の超音波ノズル輪郭部（１１）を形成するスリットノズル（１）が複数の部分ボディ（１４、１５；２）から組み立てられていて、これらの部分ボディが、スリットノズル（１）のガス導入部分（１４）及びガス排出部分（１５）で熱的な且つ精密機械的な様々な要求を適えるために異なる材料から成ること。 （もっと読む）

【課題】 有害なデブリの生成が低減可能である放射源を提供することである。
【解決手段】 放射を発生させるように構成されたデバイスは、液体浴と一対の電極を含む。電極のうち一方の少なくとも一部は、液体浴に対して可動であるケーブル部によって形成される。デバイスは更に、ケーブル部を液体付着位置から点火位置へ移動させるように構成されたアクチュエータと、ケーブル部が点火位置にある場合に、電極間の放電によって、ケーブル部に付着した液体から放電生成放射プラズマをトリガするように構成された点火源とを含む。液体付着位置は浴からの液体を電極の一部に付着させる位置である。
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【課題】ガス放電による高電流切り換え装置を提供する。
【解決手段】本発明は、高電圧でのガス放電により高電流を切り換える、またはＥＵＶ放射線を放出するガス放電プラズマを生成する装置に関する。本発明の目的は、高出力動作においても、短波長放出ガス放電放射線源および擬火花スイッチのカソードのより長い寿命を可能にする中空カソードプラズマを生成する新規な可能性を見つけることである。この目的は、中空カソード空間（２１）と放電空間（３）との間の金属壁（２２）がセンチメートル範囲程度の厚さを有し、金属壁（２２）の開口が比較的長いチャネル（２３）に変わる点、およびほぼ半径方向に延びる冷却チャネル（２４）が金属壁（２２）内に設けられて効率的冷却により中空カソード（２）の金属壁（２２）のイオン浸食を低減する点で達成される。 （もっと読む）

電磁放射を発生させるための放射源（５０）は、アノード（１）、カソード（２）、及び放電空間（４）を含む。アノード（１）とカソード（２）は、プラズマ（１６）を形成して電磁放射を発生させるべく放電空間（４）内の物質（Ｐ）中に放電（１６）を生成するように構成される。放射源（５０）は、物質（Ｐ）の少なくとも１つの成分を放電空間（４）に近接する位置に供給するように構成された燃料供給源（１４）も含む。この燃料供給源（１４）は、アノード（１）及びカソード（２）から離れて配置される。放射源（５０）は、アノード（１）及び／又はカソード（２）上又は近辺に冷却及び／又は保護層を形成及び／又は維持するように構成された更なる供給源（１０）も含む。
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【課題】放電ガスの供給量を一定に制御するための流量制御系を設けることなく、ＥＵＶ光の出力を適切な状態に保つことが可能なＥＵＶ発光装置を提供すること。
【解決手段】放電容器であるチャンバ１０内に、放電ガス供給ユニット１４より放電ガスを導入し、第１，２の主放電電極間に高電圧パルス電圧を印加し、高温プラズマから極端紫外光を放射させる。この極端紫外光は集光鏡２により集光され出射する。チャンバ１０内はガス排気ユニット８により一定の排気量でチャンバ１０内を排気され、チャンバ１０内圧力が圧力モニタ９によりモニタされる。流量調整バルブ制御部２４ａは、チャンバ１０内圧力と制御部１６から送られる基準圧力データ信号を比較し、これに基づき流量調整バルブ２４ｂの開度が制御される。これにより、チャンバ１０内の圧力が一定になるように制御され、チャンバ１０内には放電ガスが安定して供給される。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光発生部から放出されるデブリが集光光学手段に到達しないように容器内のガスの流れを制御し得るようにすること。
【解決手段】集光鏡２の光射出側から光入射側へのガス流が形成されるように、集光鏡２の光射出側に第２ガス供給ユニット１６ｂ、第２ガス排気ユニット９ｂを配置し、第２ガス供給ユニット１６ｂから供給されるガスを集光鏡２の内側を通って第１ガス排気ユニット９ａから排気させる。そのため、例えば、容器（チャンバ１０）の内壁を内側に突き出させ、ガスがすべて集光鏡２の内側を通過するように構成する。また、ホイルトラップ３と集光鏡２を一体化し、集光鏡２の内側を流れたガスがホイルトラップ３の内側のみを通過するようにしてもよい。また、上記ガスとして、付着堆積したデブリを除去するクリーニング効果のあるクリーニングガス、あるいはその混合ガスを用いてもよい。 （もっと読む）

【課題】放電部や集光鏡等の交換作業が容易で、装置の停止時間を短くすることができる極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】容器１０の開口を覆う、容器１０に対して着脱可能な蓋部材２１を設ける。この蓋部材２１に、第１の電極１１、第２の電極１２、絶縁材１３などから構成される放電部材１８、ＥＵＶ集光鏡２、ホイルトラップ３を取り付け、放電部集光鏡ユニット１９とする。そして、放電部集光鏡ユニット１９の状態で、放電部材１８の光軸と、集光鏡２の光軸とを一致させ、また放電部材１８に対する集光鏡２の光軸方向の位置を調整したのち、放電部集光鏡ユニット１９の集光鏡側を、容器１０（チャンバ）の開口に向け、チャンバ１０の中に集光鏡２およびホイルトラップ３を挿入し、蓋部材２１を容器１０に固定する。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、電気的に動作する放電によって、ＥＵＶ放射及び／又は軟Ｘ線を発生させるプラズマ放電ランプに関する。本発明のランプは、放電空間内にギャップを形成するように互いに間隔を隔てて配置された、少なくとも２つの電極を備え、前記電極の間のガス媒体中に、プラズマ（１４）のイグニションを生じさせる。金属適用装置は、前記電極の表面に金属を適用する。電極は、コンベアベルト（１５）から形成され、金属を前記ギャップに搬送するように駆動され、それぞれの電極のために整形要素（１３）が設けられ、ギャップにおける電極の適切な形状及び距離を確保する。エネルギービーム装置（４）は、ギャップにおける少なくとも１つの前記表面へエネルギービームを導くように適合し、少なくとも部分的に前記適用された金属を蒸発させ、それにより、前記ガス媒体を生成する。本発明のプラズマ放電ランプによれば、小型のランプの設計で、高い入力電力が達成される。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光放射源にスタナン気体を安定した流量で供給することが可能なスタナン気体供給システムを提供する。
【解決手段】極端紫外光放射源にスタナン気体を供給するスタナン気体供給システムであって、前記極紫外光放射源に配管を通して接続され、スタナン液体およびスタナン気体の混合物が収容される密閉容器と、前記密閉容器を−６０℃より低温に冷却するための冷却手段と、前記配管に介装される低圧マスフローコントローラと、前記密閉容器と前記低圧マスフローコントローラの間に位置する前記配管部分に取り付けられ、その配管部分でのスタナン気体の圧力を検出する圧力検出器と、前記圧力検出器での圧力検出値に基づいて前記冷却手段による前記密閉容器の冷却度合を制御するための制御手段を具備したことを特徴とするスタナン気体供給システム。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光源に用いられる反射鏡等、スズが付着した部材からスズを除去する方法を提供する。
【解決手段】水素イオン２３及び希ガスイオン２２を含むプラズマを生成し、スズ付着部材２１に負の電位が与えられるように部材と接地の間にプラズマを加速するための電圧を印加する。これにより、希ガスイオン２２がスズ付着部材２１の表面に入射してスズ２４を物理的にスパッタすると共に、水素イオン２３や水素ラジカル２５がスズ付着部材２１の表面においてスズ２４を水素脆化させ、スズ２４をスズ付着部材２１表面から除去する。除去されたスズ２４Ａは、プラズマ中の水素プラズマと反応し、気体である四水素化スズ２６となる。排気装置によりこの四水素化スズ２６を除去することにより、スズがスズ付着部材２１の表面に再付着することを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】ホイルトラップ開口を大きくしてホイルトラップの効果を低減させたり、光の利用効率を低下させたりすることなく、ＥＵＶ光の強度を測定できるようにすること。
【解決手段】チャンバ１内にＥＵＶ光放射種を含む放電ガスを導入し、第１、第２の主放電電極３ａ，３ｂ間に高電圧発生部１３から高電圧パルス電圧を印加する。これにより、主放電電極３ａ，３ｂ間に放電ガスによる高密度高温プラズマＰを発生し、このプラズマから波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。放射されたＥＵＶ光のうち、ＥＵＶ集光鏡６の光軸上の光は、ホイルトラップ５の貫通孔５ｄや集光鏡６の中央支柱の貫通孔を通過し、反射部材１１ａにより光軸外に反射され、ＥＵＶ光モニター１１に入射する。制御部１４は、ＥＵＶ光モニター１１に入力したＥＵＶ光の強度信号に基づき、ＥＵＶ光強度が一定になるように、高電圧発生部１３から供給する電力を調整する。 （もっと読む）

【課題】プラズマからの輻射によるチャンバの加熱を防止する極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】チャンバ１１と、チャンバ１１内に極端紫外光放射種を供給する原料供給ユニット１２５と、上記極端紫外光放射種を加熱して励起し、高密度高温プラズマ１００を発生させる放電部１２と、上記高密度高温プラズマ１００から放射される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光鏡１２８と、上記集光された光を取り出す上記チャンバ１１に形成されたＥＵＶ光取り出し部１２９と、上記チャンバ１１内を排気するガス排気ユニット１２７とを備えた極端紫外光光源装置において、上記チャンバ１１の内側に熱吸収部材１０１−１〜１０１−５を設ける。熱吸収部材１０１−１〜１０１−５はチャンバ１１から離間して取り付けられ、冷却媒体が流れる配管が設けられる。 （もっと読む）

【課題】良好なデブリ除去を実現し、安定してＥＵＶ光を供給することができる光源装置を提供する。
【解決手段】プラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を光学系に供給する光源装置であって、前記プラズマを収納するチャンバーと、前記チャンバー内に緩衝ガスを供給するガス供給手段と、前記チャンバー内の環境状態を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果に基づいて、前記チャンバー内における前記緩衝ガスの圧力を制御する制御手段とを有することを特徴とする光源装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】平板投影装置用の照射源として使用しうるＥＵＶ放射線を放射する改良されたプラズマ源を提供する。
【解決手段】平板投影装置の照射系の照射源２２０は放電がピンチ容積２２９内へ崩壊するように間に放電を生じさせる電極２２１，２２２を含む。崩壊する放電はピンチ容積において強くイオン化された、高温のプラズマを生じさせる。供給源２２７の作業流体が噴射ノズルからピンチ容積内へ放出され、それにより高温状態まで昇温され、遠紫外線ＰＢを放射する。 （もっと読む）

本発明は、放電スペース内の蒸発した液体材料によって形成されるガス状媒体内で、ＥＵＶ放射線および／または軟Ｘ線を放出する放電プラズマ（８）が発生され、液体材料は、放電スペース内の表面に設けられており、エネルギービーム（９）によって少なくとも一部が蒸発されるようになっている、ＥＵＶおよび／または軟Ｘ線ランプの変換効率を高める方法に関する。本発明は、ＥＵＶ放射線および／または軟Ｘ線を発生するための対応する装置にも関する。この方法では、前記液体材料の化学元素よりも質量数が小さい化学元素から構成されたガス（１１）が、指向された状態で放電スペースへ、および／または放電スペースへの供給路上の液体材料へ、少なくとも１つのノズル（１０）を介して局所的に供給され、放電スペース内の蒸発した液体材料の密度を低下させる。本方法および対応する装置によりランプの変換効率が高められる。 （もっと読む）

【課題】 ＥＵＶ光源内部にある複数の消耗品個々の適切な交換時期を判定し、露光装置のランニングコストを低減する
【解決手段】 ＥＵＶ光源１００の状態を表すパラメータを検出する検出手段１０９、３０１により得られた値を、消耗品１０６、１０７と同数設定した閾値と比較する。検出手段により得られた値がいずれの閾値以上であるかまたは以下であるかによって、いずれの消耗品を交換するかの判断を行う。 （もっと読む）