【課題】放電生成プラズマ放射源、および、生成される高速（高エネルギ）イオンの数を減少させる放電生成プラズマ放射源を使用した放射を生成する方法を提供する。
【解決手段】放電生成プラズマ放射源は、レーザビームパルスを提供して、前記放電生成プラズマ放射源のプラズマ内にピンチを誘発させるように構成されるレーザビームパルスジェネレータを含む。レーザビームパルスジェネレータは、所定放電エネルギに対する所定波長の放射の最大出力に対応する最適レーザビームパルスエネルギよりも大きいエネルギを有するレーザビームパルスを提供するように構成される。 （もっと読む）

本発明は、実質的に中心に孔の開けられた円盤の形態を有する、回転ターゲット用のマウントに関する。このマウントは、ニッケルベースの構造的に強化された超合金である材料から作られ、その周辺に沿ってより薄い領域が設けられる円盤の形状を取る。この薄い周辺領域と中央開口部を取り囲む厚い領域とは、３°と１０°の間の傾斜を有するショルダ領域によって分離され、この薄い周辺領域の中央孔を取り囲む厚い領域に対する厚さの比は、１．５と３の間にある。この超合金は、機械加工後に構造的強化処理を行ったインコネルである。このマウントの面のうちの少なくとも１つは、熱放射によって熱を放出するのに役立つ放射性の被覆で被覆される。
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【課題】ＥＵＶ光発生装置にかかるコストを低減しつつ、回復不能な高速イオンによる集光ミラーの損傷および許容量の少ない低速イオンの集光ミラーへの付着を飛躍的に低減させ、更に、集光ミラーでＥＵＶ光の捕集を効率的に行えるようにする。
【解決手段】ＥＵＶ光発生点若しくはＥＵＶ光発生点近傍においてレーザ光入射方向と平行若しくは略平行となる磁力線が発生する。これによりイオンは、磁力線に捕捉される。捕捉されたイオンは、磁力線に沿って移動される。そして、集光ミラー３に形成された孔３ｅを介して、イオン回収手段の入り口に導かれ、イオンが回収される。 （もっと読む）

【課題】レーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置において、プラズマから放出されるイオン等の荷電粒子を速やかにチャンバ外に排出する。
【解決手段】この極端紫外線光源装置は、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置にターゲット物質を供給するターゲット供給手段と、ターゲット供給手段によって供給されるターゲット物質に対してレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、１つのコイルを用いてプラズマの発生位置に非対称磁場を形成する磁場形成手段と、コイルによって発生される磁力線が向かうチャンバの２つの面の内の少なくとも一方に配置されている荷電粒子回収機構とを具備する。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内を移動するデブリがＥＵＶ集光ミラー等の光学素子の反射率又は透過率を低下させることを防止して、長期間安定に極端紫外光を発生することができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置にターゲットを供給するターゲット供給装置と、ターゲットにレーザ光を照射して第１のプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内に設置され、第１のプラズマから放射される極端紫外光を集光して射出するＥＵＶ集光ミラーと、チャンバ内にガスを供給するガス供給装置と、ガスを励起して、第１のプラズマが生成される領域の周囲に第２のプラズマを生成する励起装置と、チャンバ内を排気すると共に、第１のプラズマから放出されるデブリをチャンバ外に排出する排気装置とを具備する。 （もっと読む）

本発明は、光学的放射、特に極紫外線放射ＥＵＶ又は軟Ｘ線を生じる放射源２であって、上記放射源２の放射経路における光学面上に堆積し得る不要物質及び／又は粒子を放出する放射源２との使用のためのデブリ低減装置と、対応する駆動装置とに関する。デブリ低減装置は少なくとも１つの回転フォイルトラップ５と駆動装置を有する。駆動装置は、駆動モータ１４と、回転フォイルトラップ５が固定される駆動軸１０とを有する。駆動モータ１４、及び駆動軸１０を支持するベアリング１３は、駆動軸１０用のアパーチャと密封ガス用の少なくとも１つの出口開口２１とを持つケーシング２０の中に包含される。出口開口２１は密封ガスを送り出すためのポンプに接続可能である。アパーチャは駆動軸１０とケーシング２０の間の間隙２３を画定するように設計され、上記間隙２３は上記間隙２３を通して上記ケーシング２０の中へ密封ガスを供給するための供給管１９に接続される。提案されるデブリ低減装置は、デブリ低減装置が使用される真空室の汚染のリスクなしに、従来の駆動モータと、油を塗られた又は油を差されたベアリングの使用を可能にする。これは駆動装置の増進された耐用年数をもたらす。
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【課題】高輝度の電子線が照射された場合においても、ターゲット上に形成された電子線照射部の温度上昇を抑制し、熱応力によるターゲットの荒れを抑制するとともに、ターゲットの飛散を抑制して、高輝度のＸ線を安定して発生させる。
【解決手段】所定の電子線を発生させるための電子線源と、前記電子線の照射を受けて電子線照射部を形成し、この電子線照射部から所定のＸ線を生成するターゲットとを具え、前記ターゲットは、前記電子線照射部を中心として一定の半径ｒの曲率を有する半球状又は半円柱状の凸部を含むようにしてＸ線発生装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】回転軸の貫通突出部分からハウジング内の外囲器に臨む空間内への外気の混入を防止して、Ｘ線管の高電圧とハウジングとの絶縁耐力の低下を防止する。
【解決手段】陰極５と陽極６とを外囲器２内に収容し、その外囲器２とともに絶縁油をハウジング１内に収容し、外囲器２とハウジング１とを高電圧絶縁する絶縁容器９を備え、外囲器２に一体連接した陽極側回転軸８の回転軸芯方向の一端側をハウジング１の外方に貫通突出させてモータ１４に連動連結する。ハウジング１の陽極側回転軸８の貫通部分を覆うとともに陽極側回転軸８を貫通させる状態で補助ケーシング１６を設け、ハウジング１と補助ケーシング１６とで囲まれる補助空間Ｓ内に絶縁油を収容し、ハウジング１および補助ケーシング１６の陽極側回転軸８の貫通部分に、絶縁油の外方への漏れ出しを防止する第１および第２のオイルシール１７，１８を介装する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射線生成の副生成物として作り出される粒子によって生じる問題に影響を受けないリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】該リソグラフィ装置は放射線のビームを供給する照明システムと、パターニング構造を支持する支持構造を配備する。該パターニング構造は放射線ビームの断面にパターンを与えるように構成されている。該装置はまた、基板を支持する基板支持と、パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムを配備する。該照明システムは極紫外線を生成する放射線生成システムと、極紫外線を収集する放射線収集システムを配備する。極紫外線生成の副生成物として作りだされる粒子はほとんど粒子移動方向に移動する。該放射線収集システムは粒子移動方向と大きく異なる収集方向に放射する極紫外線を収集するように調整される。 （もっと読む）

【課題】放射源を改善する。
【解決手段】放射源は、放射を生成するように構成される。放射源は、プラズマ燃料から放射放出プラズマを生成するための使用に際して、放電を生成するように構成された第１電極（１１；６１）および第２電極（１２；６２）を含む。放射源は、また、前記第１電極（１１；６１）および前記第２電極と関連付けられた燃料リリース領域へプラズマ燃料を供給するように構成された燃料供給源と、前記燃料供給源により供給された燃料の前記燃料リリース領域からのリリースを誘発させるように構成された燃料リリース装置と、を含む。前記燃料リリース領域は前記第１電極（１１；６１）および前記第２電極から離隔される。 （もっと読む）

【課題】放熱特性を向上させることで、長期にわたって高電圧コネクタの絶縁性を確保できるＸ線管装置を提供すること。
【解決手段】アノード電極３５及びカソード電極３６とを真空外囲器内に収納するＸ線管３０と、Ｘ線管３０を収納するとともに、内部に冷却液が充填されたハウジング２０と、ハウジング２０に設けられ、一端側にハウジング３０の外部に露出する外部端面４１，５１、他端側に真空外囲器３１の内部に位置する内部端面４２，５２、及び、冷却液に接する側面４３，５３を有する柱体状の高電圧絶縁部材４０，５０と、高電圧絶縁部材４０，５０内部に設けられ、アノード電極３５及びカソード電極３６に接続され、外部端面４１，５１へ導出する高電圧金属端子４４，５４とを備えている。 （もっと読む）

本発明は、高圧電気接続線１１に関し、とりわけ、ガス放電源１０を高圧電源９に電気的に接続するための高圧電気接続線１１に関する。前記接続線は、電気絶縁層１で隔てられる２つの導電板２のスタックから形成される。前記導電板２の材料より高い電気抵抗率を持つ材料から成る導電層８が、前記絶縁層１と前記導電板２との間に配設される。提案接続線は、高圧電源とパルス放電ランプとを接続するために用いられる場合により長い寿命を提供する。
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【課題】放射源から生成される汚染物質を照明システムまたは他の構造から排除または低減する。
【解決手段】パターニングデバイスからのパターンを基板上に投影するように構成されたリソグラフィ装置が開示される。このリソグラフィ装置は、照明システム（ＩＬ）と、照明システム（ＩＬ）の内壁（６４）と外壁（６２）との間から、または、放射源（ＳＯ）がある場合には、照明システム（ＩＬ）の内壁（６４）と放射システム（ＳＯ）の内壁（６２）との間からガスを排出するポンプシステム（７８）に接続されたアウトレットとを含む。 （もっと読む）

【課題】グリッド電極を接地電位に設定する場合においても、電子ビームの焦点形成に対して電圧変動の影響を抑制する。
【解決手段】カソード電極１５、グリッド電極１７、フォーカス電極１８およびＸ線を放出する陽極ターゲット１４を有するＸ線管と、前記陽極ターゲットに印加する管電圧を生成する管電圧発生部１９と、前記フォーカス電極に印加するフォーカス電圧を生成するフォーカス電圧発生部２３と、前記カソード電極および前記グリッド電極間に印加するバイアス電圧を生成するバイアス電圧発生部２０と、前記フォーカス電圧を分圧してカソード電圧を生成し、このカソード電圧を前記バイアス電圧発生部２０が生成する前記バイアス電圧と合成して前記カソード電極１５に印加する分圧部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】コレクタミラーの変形および劣化を防止することができる極端紫外線を生成するモジュールおよび方法を提供する。
【解決手段】極端紫外線を生成するモジュール（１）は、点火物質の小滴を所定のターゲット点火位置に供給する供給源と、所定のターゲット点火位置に焦点が合わされ、所定のターゲット点火位置に配置されるそのような小滴（４）に衝突することによりプラズマを生成して小滴を極端紫外線生成プラズマに変化させるレーザ（６）とを含む。さらに、このモジュールは、極端紫外線を反射して極端紫外線を焦点（ＦＰ）に合わせるミラー面（１４）を含むコレクタミラー（１２）を含む。流体供給源（２）は、ミラー面に対して横断方向においてミラー面から離れるように流れるガス流（ＧＦ）を形成してプラズマによって生成された粒子デブリを軽減する。 （もっと読む）

【課題】バッファガスの有効性を改善することができる放射源、放射を生成する方法、及びリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】チャンバ１およびプラズマ生成物質の供給源４を含む放射源ＳＯであって、放射源ＳＯは、チャンバ１に導入されるプラズマ生成物質がレーザビーム７と相互作用し、それによって放射放出プラズマを生成する相互作用点１３を有しており、放射源ＳＯは、バッファガスをチャンバ１に送出するように構成され、かつ相互作用点１３に隣接する出口１２を有する導管１１をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】放熱特性を向上させることができる冷却器及びこの冷却器を備えたＸ線管装置を提供する。
【解決手段】冷却器２は、冷却液７を循環させてＸ線管を冷却する。冷却器２は、冷却液７を循環させるポンプ２ｊと、冷却液の熱を外部へ放出させる熱交換器２ｆと、Ｘ線管の稼動中に冷却液の循環流量を制御する流量制御機構２ｍと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】改良された放射源をもつリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィシステムが、放射を発生するように構成された放射源であって、放射源は、カソードおよびアノードを含み、カソードおよびアノードは、放電空間内に配置された燃料内に放電を生成してプラズマを発生するように構成され、放電空間は、使用中、プラズマによる放射放出を調節してプラズマによって画定される容積を制御するように構成された物質を含む、放射源と、パターニングデバイスを保持するように構成されたパターンサポートであって、パターニングデバイスは、放射にパターン形成してパターン付き放射ビームを形成する、パターンサポートと、基板を支持するように構成された基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】 ホイルトラップを設けることなく、高速イオンや高速原子を捕捉し、高速イオンや高速原子によるＥＵＶ集光鏡のダメージを抑制できるようにすること。
【解決手段】 放電ガスをプラズマ生成部２に供給し、高電圧パルス発生部１１の放電回路１１ａから第１、第２の主放電電極２ａ、２ｂ間に高電圧パルス電圧を印加する。これにより高温プラズマが発生し波長１３．５ｎｍの極端紫外光が放射される。この極端紫外光は集光反射鏡４により集光されＥＵＶ光取出部６から出射する。また、第１、第２の主放電電極２ａ、２ｂ間に放電が発生するタイミングと略同一タイミングで第２の主放電電極２ｂと第３の電極１５間に放電回路１１ｂからパルス電力を供給する。これにより、プラズマＰ２が生成され、生成されたプラズマＰ２により生ずる電界と磁界により、上記高温プラズマに起因して生ずる高速粒子を捕捉する。 （もっと読む）

【課題】集光反射鏡の光反射面上に堆積する汚染物質を完全に除去することのできる集光反射鏡の前処理およびクリーニング方法並びに極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】放電ガスをプラズマ生成部２に供給し、高電圧パルス発生部１１から第１、第２の主放電電極２ａ、２ｂ間に高電圧パルス電圧を印加する。これにより高温プラズマが発生し波長１３．５ｎｍの極端紫外光が放射される。この極端紫外光は集光反射鏡４により集光されＥＵＶ光取出部５から出射する。高温プラズマの生成により生ずるデブリが集光反射鏡４の光反射面上に汚染物質層を形成するが、これを完全に除去するため、本発明においては汚染物質層が形成される前に、集光反射鏡の表面にクリーニングガス構成物質を付着させておく。これにより、クリーニングガス供給ノズル２５からクリーニングガスを流通させることで、汚染物質をほぼ完全に除去することができる。 （もっと読む）