【課題】放電ガスの供給量を一定に制御するための流量制御系を設けることなく、ＥＵＶ光の出力を適切な状態に保つことが可能なＥＵＶ発光装置を提供すること。
【解決手段】放電容器であるチャンバ１０内に、放電ガス供給ユニット１４より放電ガスを導入し、第１，２の主放電電極間に高電圧パルス電圧を印加し、高温プラズマから極端紫外光を放射させる。この極端紫外光は集光鏡２により集光され出射する。チャンバ１０内はガス排気ユニット８により一定の排気量でチャンバ１０内を排気され、チャンバ１０内圧力が圧力モニタ９によりモニタされる。流量調整バルブ制御部２４ａは、チャンバ１０内圧力と制御部１６から送られる基準圧力データ信号を比較し、これに基づき流量調整バルブ２４ｂの開度が制御される。これにより、チャンバ１０内の圧力が一定になるように制御され、チャンバ１０内には放電ガスが安定して供給される。 （もっと読む）

【課題】コレクタミラーの冷却機構と回転機構とを両立させることにより、コレクタミラーの寿命を伸長させる。
【解決手段】極端紫外光を反射する反射面が形成されており、プラズマから放射された極端紫外光を反射して所定の方向に導くコレクタミラー１０と、該コレクタミラーの背面側に配置された冷却媒体用流路２３と、該冷却媒体用流路に冷却媒体を導入する配管２１と、冷却媒体用流路から冷却媒体を導出する配管２２とを含む冷却装置２０と、コレクタミラーを円周方向に回転させる回転装置３０と、コレクタミラーの反射面における損耗量に関連付けられた値に基づいて、回転装置によってコレクタミラーを回転させるタイミングと回転角度とを決定する制御装置１００とを有する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光発生部から放出されるデブリが集光光学手段に到達しないように容器内のガスの流れを制御し得るようにすること。
【解決手段】集光鏡２の光射出側から光入射側へのガス流が形成されるように、集光鏡２の光射出側に第２ガス供給ユニット１６ｂ、第２ガス排気ユニット９ｂを配置し、第２ガス供給ユニット１６ｂから供給されるガスを集光鏡２の内側を通って第１ガス排気ユニット９ａから排気させる。そのため、例えば、容器（チャンバ１０）の内壁を内側に突き出させ、ガスがすべて集光鏡２の内側を通過するように構成する。また、ホイルトラップ３と集光鏡２を一体化し、集光鏡２の内側を流れたガスがホイルトラップ３の内側のみを通過するようにしてもよい。また、上記ガスとして、付着堆積したデブリを除去するクリーニング効果のあるクリーニングガス、あるいはその混合ガスを用いてもよい。 （もっと読む）

【課題】回転陽極型Ｘ線管を、冷却媒体を使用して冷却することにより、出力されるＸ線の特性を、長期に亘って安定に維持可能とする。
【解決手段】この発明の回転陽極型Ｘ線管装置は、陽極ターゲット（１５）と一体化された真空外囲器（１１）と、真空外囲器を収納し、回転可能に保持するハウジング（５）と、真空外囲器の陽極ターゲットに近接して冷却媒体が循環する循環路（５ｂ，５ｃ，７ｃ）と、陽極ターゲットに対向して静止するように真空外囲器内に収納配置された陰極（１３）と、陰極を支持する陰極支持体（１３ａ）と、真空外囲器とハウジングに固定された固定体との間に設けられた軸受機構（５５）と、陰極支持体またはハウジングに固定された固定体と真空外囲器との間に設けられた真空シール機構（５３）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、コレクタミラーのメンテナンスのコストを低減する。
【解決手段】ターゲット物質にレーザビームを照射して該ターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する極端紫外光源装置において、極端紫外光を集光する際に用いられるコレクタミラー１０であって、極端紫外光を反射する反射面が複数の領域に分割されており、複数の領域の内の一部の領域を含む交換用ミラー１２と、複数の領域の内の他の領域を含むコレクタミラー本体１１とを有し、交換用ミラー１２がコレクタミラー本体１１に対して取り外し可能となっている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光発生チャンバのウインドウの劣化等を容易に検出することが可能なＥＵＶ光源装置を提供する。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、ドライバーレーザ１と、ＥＵＶ光発生チャンバ２と、レーザ光をＥＵＶ光発生チャンバ２内に透過させるウインドウ６と、ＥＵＶ光集光ミラー８と、レーザ光をターゲット物質の軌道上に集光させるレーザ光集光光学系４と、ウインドウ６の温度を検出する温度センサ８２と、極端紫外光の発生が行われるときに、温度センサ８２によって検出されたウインドウ６の温度に基づいて、ウインドウ６の劣化を判定するレーザ光光学系劣化チェック処理部８０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置において、安定したターゲット物質の流れの形成を妨げることなく、プラズマの熱からターゲットノズルを保護できるノズル保護装置を提供する。
【解決手段】ターゲット物質１を通過させる開口１５５が形成されており、且つ、内部に冷却媒体を循環させる流路が設けられている水冷ジャケット１５３と、水冷ジャケットをターゲット物質の軌道から退避させる第１の状態、又は、水冷ジャケットにおけるターゲット物質の通路を確保しつつ、水冷ジャケットによりターゲットノズル１２２に対するプラズマ２の熱放射を遮蔽する第２の状態となるように、水冷ジャケットを移動させ、又は、水冷ジャケットの形状を変化させるアクチュエータ１５２とを含む。 （もっと読む）

【課題】出力が比較的大きい露光用の極端紫外光源装置において、一旦発生したデブリを処理するのではなく、発生するデブリを極力抑制する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に固体の錫又はリチウムをターゲットとして供給するターゲット供給手段と、ターゲット供給手段によって供給されるターゲットに対して、パルス動作によりレーザビームを照射することによってプラズマを生成するＣＯ_２レーザと、反射面に多層膜を有し、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するコレクタミラーとを具備する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光発生チャンバのウインドウの劣化によるＥＵＶ光の発生効率の低下を防止することが可能なＥＵＶ光源装置を提供する。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、ドライバーレーザ１と、ＥＵＶ光発生チャンバ２と、ウインドウ６と、ＥＵＶ光集光ミラー８と、レーザ光を発散する凹レンズ４１と、発散されたレーザ光をコリメートする凸レンズ４２と、コリメートされたレーザ光を反射してターゲット物質に集光する放物凹面鏡４３と、放物凹面鏡４３の位置及び角度を調整する放物凹面鏡調整機構４４と、ウインドウ６及び放物凹面鏡４３を保護するためのパージガスを供給するパージガス供給部３１、３３と、パージガスをウインドウ６及び放物凹面鏡４３に導くためのパージガス導入路３３、３４と、ウインドウ６及び放物凹面鏡４３を囲むパージガスチャンバ５０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】エネルギービームを照射して原料を気化し、電極放電により高温プラズマを生成するＥＵＶ光源装置において、エネルギービームが電極に照射されることにより発生する電極のアブレーションを抑制すること。
【解決手段】プラズマ原料２ａが原料供給手段２によって、放電領域（放電電極１ａ，１ｂ間）の近傍（放電領域を除く空間であって、レーザビーム５により気化された原料が放電領域に到達できる空間）に滴下され、レーザビーム５が高温プラズマ原料２ａに対して照射される。レーザビーム５の照射により気化した高温プラズマ原料２ｂは放電領域の方向に広がる。この時点で一対の放電電極１ａ，１ｂに電力が印加されると、気化した高温プラズマ原料２ｂは加熱・励起されて高温プラズマ４となり、ＥＵＶ光を放射する。当該ＥＵＶ光放射は、ＥＵＶ集光鏡３により集光され不図示の露光装置に送られる。 （もっと読む）

【課題】絶縁特性及び放射線遮蔽特性を維持しながら容易に製造し供給することが可能な放射線遮蔽を提供する。
【解決手段】放射発生器（１００及び６００）において発生させる電磁波放射の送出を制御するための装置（１２５、２００、３００、４００、５００、６１４、７００、８００、９００）を提供する。本装置は、サブストレート層（２０５、３０５、４０６、４０８、５２５、７０５）を有するプリント回路基板（２０２、３０２、４０２、５０２、６１６、８０５、８１０、８１５、９０５、９１０及び９１５）と、該サブストレート層にバインドさせた少なくとも１つの媒質層（２１０、３１０、３１５、４１０、４１２、５０５、５１０、７１０、８２５、８３０）と、を含む。プリント回路基板は電磁波放射の送出を制御するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】主としてＸ線発生装置技術を改善し、特には、装置の冷却の改善、装置のアノードおよびカソード要素の間の望ましくないアーク放電の容易な検出、および装置に電力を供給する電気的接続部にＸ線管を接続することの改善を実現するＸ線発生装置を提供すること。
【解決手段】ハウジングと、内部にアノードを備えた第一端部、および内部にカソードを備えた第二端部を含み、Ｘ線発生装置の動作中にＸ線を出射するように適応させたＸ線管と、ハウジング内に配置したソケット部材を有し、前記ソケット部材は第一部品と第二部品を含み、前記第一部品、第二部品または両方は内部に開口部を規定し、Ｘ線発生装置の動作中にＸ線を放射する際、Ｘ線管はソケット部材内に配置され、これらのＸ線は規定された開口部を通過する。 （もっと読む）

【課題】ホイルトラップ開口を大きくしてホイルトラップの効果を低減させたり、光の利用効率を低下させたりすることなく、ＥＵＶ光の強度を測定できるようにすること。
【解決手段】チャンバ１内にＥＵＶ光放射種を含む放電ガスを導入し、第１、第２の主放電電極３ａ，３ｂ間に高電圧発生部１３から高電圧パルス電圧を印加する。これにより、主放電電極３ａ，３ｂ間に放電ガスによる高密度高温プラズマＰを発生し、このプラズマから波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。放射されたＥＵＶ光のうち、ＥＵＶ集光鏡６の光軸上の光は、ホイルトラップ５の貫通孔５ｄや集光鏡６の中央支柱の貫通孔を通過し、反射部材１１ａにより光軸外に反射され、ＥＵＶ光モニター１１に入射する。制御部１４は、ＥＵＶ光モニター１１に入力したＥＵＶ光の強度信号に基づき、ＥＵＶ光強度が一定になるように、高電圧発生部１３から供給する電力を調整する。 （もっと読む）

【課題】良好なデブリ除去を実現し、安定してＥＵＶ光を供給することができる光源装置を提供する。
【解決手段】プラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を光学系に供給する光源装置であって、前記プラズマを収納するチャンバーと、前記チャンバー内に緩衝ガスを供給するガス供給手段と、前記チャンバー内の環境状態を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果に基づいて、前記チャンバー内における前記緩衝ガスの圧力を制御する制御手段とを有することを特徴とする光源装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光源に用いられる反射鏡等、スズが付着した部材からスズを除去する方法を提供する。
【解決手段】水素イオン２３及び希ガスイオン２２を含むプラズマを生成し、スズ付着部材２１に負の電位が与えられるように部材と接地の間にプラズマを加速するための電圧を印加する。これにより、希ガスイオン２２がスズ付着部材２１の表面に入射してスズ２４を物理的にスパッタすると共に、水素イオン２３や水素ラジカル２５がスズ付着部材２１の表面においてスズ２４を水素脆化させ、スズ２４をスズ付着部材２１表面から除去する。除去されたスズ２４Ａは、プラズマ中の水素プラズマと反応し、気体である四水素化スズ２６となる。排気装置によりこの四水素化スズ２６を除去することにより、スズがスズ付着部材２１の表面に再付着することを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの軌道を擾乱させることなく、ドロップレットターゲットをレーザ照射位置に高速に供給する機構と、プラズマから発生したイオン（帯電したデブリ）を磁場の作用によりトラップする機構とを両立させる。
【解決手段】予め設定されているプラズマ発光点に向けてターゲット物質を噴射するターゲットノズル１２と、該ターゲットノズルから噴射されるターゲット物質を帯電させる電荷供給装置１７と、該電荷供給装置によって帯電させられるターゲット物質を加速する加速装置１８と、プラズマ発光点においてターゲット物質にレーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザ発振器１３と、プラズマ発光点に磁場を形成する電磁石であって、ターゲット物質の軌道において、磁束線が略直線状且つターゲット物質の進入方向に対して略平行となる磁場を形成する電磁石１９ａ及び１９ｂとを有する。 （もっと読む）

【課題】構成が単純で適用範囲が広い体積変化吸収器、そのような体積変化吸収器を有するＸ線発生器、および、そのようなＸ線発生器を備えたＸ線撮影装置を実現する。
【解決手段】体積変化吸収器（３００）は、液体が封入される容器の壁を貫通して気密に取り付け可能な剛性のパイプ状部材(３１０)と、前記パイプ状部材の前記容器の内側となる部分の端部を気密に覆うように一端部が取り付けられ他端部が押し潰し状態で封止された可撓性のチューブ(３３０)とを具備する。 （もっと読む）

出口開口まで圧力下で液体物質を推進させることによって、相互作用領域を通って伝搬するターゲット噴流を形成するステップと、少なくとも１つの電子ビームを、前記ターゲット噴流と相互作用して前記電子ビームがＸ線放射を発生するように、前記相互作用領域内のターゲット噴流上に向けるステップとを含む、Ｘ線放射を発生させる方法であって、前記ターゲット噴流の横方向における前記電子ビームの半値全幅が前記ターゲット噴流の横寸法の約５０％以下である、方法。この方法を実施するシステムもまた開示される。
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【課題】 Ｘ線によって物品を検査するＸ線検査装置において、Ｘ線源から発生するＸ線の外部漏洩を防止しながら、装置内部を効率的に冷却することができる手段を提供する。
【解決手段】 Ｘ線を発生するＸ線源（２）と、Ｘ線源（２）を取り囲んで密封する装置壁（４１）と、を備え、装置壁（４１）の内側に、内部熱伝導体（４３）が設けられており、装置壁（４１）の外側に、内部熱伝導体（４３）から装置壁（４１）を介して伝導される熱を放熱する外部熱伝導体（４４）が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ集光鏡によって集光されるＥＵＶ光の遠方配光分布を良好とし、照度ムラを抑制すること。
【解決手段】回転楕円面形状、回転放物面形状、ウォルター型形状等の複数枚の薄い凹面ミラーを入れ子状に高精度に配置したＥＵＶ集光鏡において、各ミラーｂ，ｃ，ｄ，ｅの光入射端の厚みにより遮光されないように、各ミラーａ〜ｅの光入射端の反射面でない側の形状をナイフエッジ状に形成する。同様に、各ミラーｂ，ｃ，ｄ，ｅの光出射端についても、光出射端の形状をナイフエッジ状の構成する。これにより、ＥＵＶ光源装置に使用したときの遠方配光分布を良好とし、光度の低下度は従来のものより小さくすることができる。 （もっと読む）