【課題】露光装置の性能の低下、稼動率の低下を抑制して、基板を良好に露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、極端紫外域の露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光をパルス状に発光する光源装置と、露光光が進行するほぼ真空状態の第１空間を形成する第１部材と、露光光が通過するように第１部材の少なくとも一部に形成された第１開口と、発光と同期して第１開口を開閉する開閉機構とを備えている。 （もっと読む）

【課題】回転フォイルトラップがある状態での二次汚染の恐れを軽減すること。
【解決手段】デブリ防止システムが、放射源から放出されるデブリが放射源からの放射と共にリソグラフィ装置内へ、または装置の中で伝播することを防止するように構成されている。デブリ防止システムは回転軸の周りを回転可能な第１フォイルトラップ、および、第１フォイルトラップを少なくとも部分的に囲む第２フォイルトラップを含む。第２フォイルトラップは放射源を配置するための中心位置に対して光学的に開いている、かつ回転軸に垂直な方向に対して光学的に閉じている複数のフォイルを含む。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光集光鏡において、金属または金属化合物に起因するデブリで汚染された部位にクリーニング手段を効率よく作用させてデブリを除去すること。
【解決手段】パルスパワー電源１５から第１電極１１と第２電極１２の間に電力を供給し、放電部１に高温のプラズマＰを発生させる。これによりＥＵＶ光が放出される。このＥＵＶ光は、集光鏡２を介してＥＵＶ光取出部７から放出される。また、それと同時に放電部１からスズなどを含むデブリも放出され、一部が集光鏡２に到達し反射面に付着する。集光鏡２の光射出側にはクリーニングガス供給ユニット５、ラジカル発生部６が設置され、集光鏡２の非反射面２ｂは、絶縁性の物質で被覆されている。このため、水素ラジカルが非反射面２ｂ等に触れたとしても失活することがなく、集光鏡に付着堆積したスズ等を含むデブリと反応することができ、クリーニングを効率よく行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】
より高い冷却効率を達成し、冷却剤への過度の熱的応力を防止したＸ線冷却システムを提供する。
【解決手段】 Ｘ線管冷却システムは、カソードシリンダー及びＸ線管ハウジングの間に接続され且つ電子源及びターゲットアノードの間に配置されたシールド構造を利用する。シールドはＸ線管の寿命を延長するべくＸ線管及びシールドの全体的な冷却を改善するため複数の冷却フィンを有し、該フィンは、冷却剤リザーバー内に浸漬されたとき、シールドから冷却剤への熱転移を改善することを容易にし、その冷却効果は、シールド内に形成された複数の通路により提供された対流冷却システムにより更に強化される。冷却ユニットは、リザーバーから流体を取り、流体を冷却し、冷却流体を冷却通路を通して循環させる。冷却剤は、通路から出力され、冷却フィンに亘って方向付けられる。通路は、シールドのある区分で、他の区分よりも大きい熱転移率を提供するように配位される。 （もっと読む）

【課題】ガスカーテンを生成する装置の簡単な配置と構成並びに長い寿命が極端な熱負荷の際にも可能である、放射プラズマの直接的な近傍でガスカーテンを生成する新たな可能性を見い出す。
【解決手段】幅広で平らなガスカーテン（１８；１９）の生成用の超音波ノズル輪郭部（１１）を形成するスリットノズル（１）が複数の部分ボディ（１４、１５；２）から組み立てられていて、これらの部分ボディが、スリットノズル（１）のガス導入部分（１４）及びガス排出部分（１５）で熱的な且つ精密機械的な様々な要求を適えるために異なる材料から成ること。 （もっと読む）

【課題】絶縁破壊が生じない高圧ケーブルとの安定した電気接続を可能にするＸ線管用高電圧コネクタを提供する。
【解決手段】ハウジング１１内では、高圧ケーブル１２端子が絶縁充填材１３で封入され、Ｘ線管の真空外囲器および陽極端部が、開口１４に設けた真空外囲器受入空間１５および高電圧端子１６の陽極用空間１７に装着できるようになっている。そして、ハウジング１１と高電圧端子１６を熱的に結合する高熱伝導絶縁部材１８が設けてある。この高電圧端子１６、高熱伝導絶縁部材１８は絶縁充填材１３でハウジング１１に封入されている。また、Ｘ線管をＸ線管用高電圧コネクタに締結するネジ穴１９がフランジ部１１ａに設けてある。上記構成において、Ｘ線管での発熱は高熱伝導絶縁部材１８を通してハウジング１１に容易に放熱される。 （もっと読む）

【課題】 ＬＰＰ方式のＥＵＶ光発生装置で固体ターゲットに高出力のレーザ光を高繰り返し周波数で長時間照射した場合であっても、長時間、安定して高出力のＥＵＶ光を連続して得られるようにする。
【解決手段】 ターゲット供給装置２０には、再生機構３０と送り機構４０と冷却機構５０が設けられている。冷却機構５０は、ターゲット１を、ターゲット１の材料となる金属の融点よりも低い温度になるまで冷却する。送り機構４０は、ＥＵＶ光発生点Ａを通過したターゲット１を再生機構３０を介して冷却機構５０に送るとともに、冷却機構５０を通過したターゲット１を再びＥＵＶ光発生点Ａに送る。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質又はプラズマによって反射されてドライバレーザに戻る反射光（戻り光）によるドライバレーザの故障を防止する極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源は、チャンバ内にターゲットを供給するターゲット供給部と、レーザ光を出射するドライバレーザと、レーザ光をターゲットに集光することによってプラズマを発生させるレーザ集光光学系と、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するＥＵＶ集光光学系と、集光されたレーザ光がターゲット又はプラズマによって反射されてドライバレーザに入射する戻り光の量を低減する空間フィルタと、空間フィルタを通過する戻り光を検出する戻り光検出器と、レーザ集光光学系に含まれている光学素子の位置を調節する位置調節機構と、戻り光検出器によって検出される戻り光の量に基づいて位置調節機構を制御する制御部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 有害なデブリの生成が低減可能である放射源を提供することである。
【解決手段】 放射を発生させるように構成されたデバイスは、液体浴と一対の電極を含む。電極のうち一方の少なくとも一部は、液体浴に対して可動であるケーブル部によって形成される。デバイスは更に、ケーブル部を液体付着位置から点火位置へ移動させるように構成されたアクチュエータと、ケーブル部が点火位置にある場合に、電極間の放電によって、ケーブル部に付着した液体から放電生成放射プラズマをトリガするように構成された点火源とを含む。液体付着位置は浴からの液体を電極の一部に付着させる位置である。
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【課題】
ＥＵＶ光源装置において、チャンバ内のターゲットをレーザビームで励起することによって生成されるプラズマからＥＵＶ光と共に放出されるデブリが、チャンバ内に設けられた光学素子に付着し金属膜が形成されることを防止して、光学素子の耐用期間を延ばす。
【解決手段】
ターゲットを固体の錫（Ｓｎ）とし、ターゲットの励起源をＣＯ2レーザとし、固体の錫をＣＯ2レーザから出力されるレーザビームで励起することによってプラズマから放出するデブリの大きさをナノサイズ以下にしたうえで、放出されるナノサイズ以下のデブリに対して光学素子に到達しないような作用を付与する。 （もっと読む）

【課題】ガス放電による高電流切り換え装置を提供する。
【解決手段】本発明は、高電圧でのガス放電により高電流を切り換える、またはＥＵＶ放射線を放出するガス放電プラズマを生成する装置に関する。本発明の目的は、高出力動作においても、短波長放出ガス放電放射線源および擬火花スイッチのカソードのより長い寿命を可能にする中空カソードプラズマを生成する新規な可能性を見つけることである。この目的は、中空カソード空間（２１）と放電空間（３）との間の金属壁（２２）がセンチメートル範囲程度の厚さを有し、金属壁（２２）の開口が比較的長いチャネル（２３）に変わる点、およびほぼ半径方向に延びる冷却チャネル（２４）が金属壁（２２）内に設けられて効率的冷却により中空カソード（２）の金属壁（２２）のイオン浸食を低減する点で達成される。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に滞留及び蓄積したデブリがチャンバを汚染して集光ミラー等の重要光学コンポーネントの性能を低下させることを防止し、長期間安定に極端紫外光を発生することが可能な極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、プラズマから発生するデブリを捕集して、捕集されたデブリをチャンバ外に排出する除塵装置とを具備する。 （もっと読む）

【課題】プラズマから放出される高速イオンが、真空チャンバ内の構造物に衝突しても、ＥＵＶ光に対する透過率の低い粒子の付着により、ＥＵＶコレクタミラーの反射率が低下し難い極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、真空チャンバと、真空チャンバ内の所定の位置にターゲットを供給するターゲット供給部と、レーザビームをターゲットに照射することによってプラズマを生成するドライバレーザと、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するコレクタミラーと、コレクタミラーを支持固定するコレクタミラーホルダと、プラズマから発生するイオンに対してコレクタミラーホルダ等の構造物を遮蔽し、ＥＵＶ光の透過率が高い材料で形成された遮蔽材とを有する。 （もっと読む）

【課題】放電チャンネルの位置を画定可能とし、放電チャンネルにおける高温プラズマ原料の密度を適宜設定できるようにし、また、ロングパルス化を可能するとすること。
【解決手段】高温プラズマ原料２１に第１のエネルギービーム２３を照射して気化させる。気化した原料が放電領域に到達したとき、電極１１，１２間にパルス電力を印加するとともに第２のエネルギービーム２４を照射する。これにより、プラズマが加熱励起されてＥＵＶ放射が行われる。放射されたＥＵＶ放射はＥＵＶ集光鏡２により集光され取り出される。第１、第２のレーザビーム２３，２４を照射しているので、高温プラズマ原料の空間密度分布を所定の分布に設定するとともに、放電チャンネルの位置を画定することが可能となる。また、放電経路にイオン密度が極端紫外光放射条件におけるイオン密度にほぼ等しい原料ガスを供給することで、ＥＵＶ放射のロングパルス化が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 フィラメント温度が必要以上に高温にならないようにして、フィラメント寿命を延ばすことができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 開放型Ｘ線管１０と、フィラメント電流供給部２１と、高電圧供給部２２とバイアス電圧供給部２３と、Ｘ線検出器１２と、検出信号に基づいてＸ線輝度信号を作成することによりＸ線画像を作成する画像作成部１３とを備え、フィラメント電流供給部とバイアス電圧供給部とにより管電流を制御し、高電圧供給部により管電圧を制御するＸ線検査装置において、フィラメント電流が順次増加していくようにフィラメント電流供給部の制御を行うフィラメント電流制御部４１と、フィラメント電流の増加に対するＸ線輝度信号の変化をフィラメント電流特性として計測するフィラメント電流特性計測部４２と、飽和フィラメント電流（Ｉ_０）を抽出する飽和フィラメント電流抽出部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光を濾過するフィルタの劣化及び／又は破損を防止することが可能なＥＵＶ光源装置を提供する。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光の生成が行われるＥＵＶ生成チャンバ２と、ＥＵＶ生成チャンバ２内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給部３と、ＥＵＶ生成チャンバ２内に供給されたターゲット物質にレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ光源１と、プラズマから放射されるＥＵＶ光を集光するＥＵＶ光集光ミラー８と、ＥＵＶ光集光ミラー８によって集光されたＥＵＶ光を濾過するＳＰＦ１４と、プラズマとＳＰＦ１４との間に配置され、プラズマからＳＰＦ１４に向かって飛散する飛散物を遮ることによりＳＰＦ１４を防護するＳＰＦ防護板１５とを含む。 （もっと読む）

【課題】ガス放電に基づき極紫外放射線を発生するための装置及び方法において、層厚の調整を改善する、特には、電極が効果的な冷却のために例えば液体を通流される場合、放射線を発生するために与えられるパルス駆動の休止時に回転電極（１、１２）に塗布される金属層の非制御な増加を避ける。この時、数キロヘルツの繰り返し周波数の場合に、放電領域には常に新しくコーティングされる電極表面あるように、回転電極の回転速度を速めることが出来るべきである。
【解決手段】少なくとも１つの電極のコーティングされるべきエッジ領域は、電極上の電極エッジに沿って閉じた周で延び又融解金属のために濡れて形成される少なくとも１つの受容領域（３）を有する。上記受容領域へは、融解金属を再生的に塗布するためのコーティングノズル（４、１４）が指向し、上記コーティングノズルはバルブ調整装置（１０）と接続したシャットオフバルブ（１１）を有する。 （もっと読む）

【課題】出力が比較的大きい露光用の極端紫外光源装置において、ドライバレーザ光の照射に対する除熱を良好に行いつつ、固体のターゲットを高速かつ連続的に供給する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、ワイヤにターゲット物質をコーティングするターゲット物質供給手段と、ターゲット物質がコーティングされたワイヤをチャンバ内の所定の位置に供給するワイヤ供給手段と、ターゲット物質がコーティングされたワイヤにレーザビームを照射することによってプラズマを生成するドライバレーザと、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するコレクタミラーとを具備する。 （もっと読む）

【課題】錫デブリ生成放射源からの汚染に長時間さらされるＥＵＶ装置内の汚染バリアの場合、バリアが捕捉されたデブリによって汚染され、そのデブリがバリアの放射透過特性を妨げることがあるため、クリーニング法を提供することが望まれている。
【解決手段】錫デブリ生成放射源からもたらされるデブリを捕捉するデブリ軽減システムが提供される。本デブリ軽減システムは、複数のフォイルを含むデブリバリアと、フォイルをクリーニングするよう構築され、配置されたクリーニングシステムとを含む。クリーニングシステムは、液体合金をフォイルに供給して、捕捉されたデブリを溶解しフォイルから洗い流す供給ユニットを含む。この合金は、ガリウム、インジウム、錫、またはそれらの任意の組み合わせを含む。 （もっと読む）

【課題】プラズマ放射源の電極から発生するマイクロ粒子を減少させるか、または、ＥＵＶ光学系に到達するのを防ぐこと。
【解決手段】自己遮蔽電極（３１、３２）を有する放射源（５０）を開示する。電極（３１、３２）から発生したデブリを減少させる。電極（３１、３２）からＥＵＶ光学系（１０）への経路は、電極自体の一部によりブロックされる（自己遮蔽と呼ぶ）。これにより、電極から発生するデブリの量を大幅に減少させることができる。一実施形態では、両方の電極（３１、３２）の影に入っていない光エレメント（１０）の部分（６０、６１）にデブリが到達するのを防ぐために、１つまたは２つの汚染バリア（１２）を使用してもよい。 （もっと読む）