【課題】有効波長領域（１３．５ｎｍ近傍）のＥＵＶ光の発光源であるプラズマにプラズマ媒質を所望の時間、安定供給することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】中心電極１２とガイド電極１４の間に位置しその間を絶縁するリング状の絶縁体１６が、プラズマ媒体（例えばＬｉ）を主成分とする常温で固体の絶縁化合物（例えばＬｉＨ）からなる。中心電極１２とガイド電極１４間の面状放電２により、絶縁化合物（絶縁体１６）の表面を気化してプラズマ媒体を同軸状電極間に供給し、次いで、１対の同軸状電極間に管状放電４を形成してプラズマ３を軸方向に封じ込める。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶシステム内で蓄積される汚染の量をモニタリングできる光センサ装置を提供する。
【解決手段】極端紫外線リソグラフィシステムにおける使用のための光センサ装置が開示される。装置は、センサ表面およびセンサ表面からデブリを除去する除去機構を備えた光るセンサを含む。したがって、ドーズおよび／または汚染測定は、リソグラフィシステムに対して都合よく行われ得る。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射のためのプラズマ光を長時間（μｓｅｃオーダーで）安定して発生させることができ、かつプラズマ光発生部近傍の残留プラズマを排気して光学系の損傷及びＸ線の吸収損失を抑制することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】対向配置された１対の同軸状電極１０と、放電環境保持装置２０と、各同軸状電極に極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備え、１対の同軸状電極間に管状放電を形成してプラズマ３を軸方向に封じ込めプラズマ光８を発光させる。さらに、プラズマ光発光後の残留プラズマ３ａの排出時に、プラズマ光の発光位置から離れた離隔位置に、中心電極１２より電位の低い仮想電極４１を形成する仮想電極形成装置４０を備え、残留プラズマを仮想電極４１による静電気力により加速させて高速排気する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射のためのプラズマ光を長時間（μｓｅｃオーダーで）安定して発生させることができ、アーク放電による中心電極先端部のエロージョンを低減してその寿命を大幅に延ばすことができ、かつプラズマ媒体の供給量を増加させてプラズマを高密度化できるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】対向配置された１対の同軸状電極１０と放電環境保持装置２０と電圧印加装置３０とを備える。各同軸状電極１０は、中心電極１２と、中心電極の対向する先端部を囲むガイド電極１４と、中心電極とガイド電極の間を絶縁する絶縁部材１６とからなる。中心電極１２は、先端部１１を含む導電性多孔質部分１２ａを有し、この導電性多孔質部分を通してその内部から先端部１１にプラズマ媒体６からなる液体金属を染み出すようになっている。 （もっと読む）

【課題】（１）ＥＵＶ放射のプラズマ光を長時間安定させ（２）放射立体角が大きく（３）プラズマ媒体を連続供給し（４）出力を高めかつ放電ジッターを低減する（５）プラズマ中の不純物を防止して変換効率を高めるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】中心電極の軸方向内端部が対向配置された１対の同軸状電極１０と、１対の同軸状電極内の温度及び圧力を保持する放電環境保持装置２０と、各同軸状電極に放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備える。絶縁部材１６は、中心電極１２の外面又はガイド電極１４の内面に密着し、軸線Ｚ−Ｚに対称に配置され、液体金属のプラズマ媒体を滲み出させる複数の溝を有している。溝を介して供給された液体金属のプラズマ媒体を放電開始ピンとする中心電極とガイド電極間の面状放電により、同軸状電極間に管状放電を形成してプラズマを軸方向に封じ込める。 （もっと読む）

【課題】高速な電子ビーム強度の制御を可能にする。
【解決手段】装置（１０）は、フィラメント（２２）と、フィラメント（２２）によって加熱されて電子ビーム（１４）を発生する電子放出器（２０）と、フィラメント（２２）及び電子放出器（２０）の各々に電力を供給するように構成されている電源（２６）とを含んでいる。装置はまた、フィラメント（２２）及び電子放出器（２０）の各々への電力の供給を制御する制御システム（３４）を含んでおり、制御システム（３４）は、所望の電子放出器動作温度を示す入力を受け取って、電子放出器（２０）及びフィラメント（２２）の動作温度を最低にするように、所望の放出器要素動作温度に基づいて、電子放出器（２０）とフィラメント（２２）との間に望ましい電圧を印加し、フィラメント（２２）に望ましい電圧を印加するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】光学素子の性能劣化を抑制することを可能にする。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザシステムと共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザシステムから出力されるレーザ光を入射させるための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記所定の領域に磁場を生成する磁場生成部と、前記磁場の磁力線方向に配置され、前記チャンバ内で前記ターゲット物質に前記レーザ光が照射されることで生成され、前記磁力線に沿って移動する帯電粒子を回収する帯電粒子回収部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】水素または同様の雰囲気を用いたＥＵＶ装置に適した代替の汚染物質トラップを提供する。
【解決手段】汚染物質トラップがＥＵＶ放射源装置内で用いられる。ＥＵＶ放射ビームが発生されて低圧ガス雰囲気を通り仮想放射源点に合焦される。ＥＵＶ放射は、ＥＵＶ放射が通過する低圧水素雰囲気中にプラズマを生成する。電極を含む汚染物質トラップは、放射ビームが仮想放射源点に近接する最中に放射ビーム内または周りに位置付けられる。ＤＣバイアス源が電極に接続されて、プラズマによって負帯電された汚染物質粒子をビーム経路外に偏向させるように向けられた電界を発生させる。追加のＲＦ電極および／またはイオナイザはプラズマを増強させて粒子の帯電を増加する。偏向電極は、短時間の間、ＲＦバイアスで動作させられて、それにより増強されたプラズマを確実に消失させる。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内光学要素の汚染を低減する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザシステムと共に用いられる極端紫外光生成装置であって、前記レーザシステムから出力されるレーザ光を入射させるための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内のレーザ光が照射される所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記チャンバ内に配置される少なくとも１つの光学要素と、前記所定の領域付近に磁場を生成するための磁場生成部と、前記磁場の磁力線方向に配置され、レーザ光がターゲット物質に照射された際に発生し磁力線に沿って流れるイオンを回収するためのイオン回収部と、前記チャンバ内にエッチングガスを導入するガス導入部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光発生装置における高効率でしかもコンパクト、低価格なデブリ回収装置を提供する。
【解決手段】極端紫外光発生装置において、バルク高温超伝導体とパルス磁場発生用のコイルを極低温に冷却できるようにした構造体による磁場発生装置とその磁場発生装置の磁力線の通る中心軸を中空とし、駆動用レーザ光とマイクロ波の導波管となるようにする。ＥＵＶ光を発生するプラズマ近傍が、マイクロ波の開放共鳴領域内になるように、マイクロ波の反射鏡をプラズマ発生点に対して磁場発生装置と反対側に適切に配置し、磁場とマイクロ波によるＥＣＲ共鳴により、中性デブリをほぼ完全にイオン化し、デブリのプラズマ閉じ込め、そして、磁場発生装置の中空部へのデブリの移動による高効率でしかもコンパクト、低価格なデブリ回収装置を実現する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光光源装置において、集光鏡アッセンブリの熱変形による集光性能の悪化を防止すること。
【解決手段】極端紫外光光源装置に用いられる集光鏡アッセンブリは、径の異なる回転楕円面または回転双曲面形状の複数の反射シェル２１から構成され、この反射シェル２１が入れ子状に配置され、その端部が保持構造体２２で保持されている。反射シェル２１には冷媒を流す冷却チャネルが、反射面の裏面側の面上であって反射シェルの軸方向に取り付けられている。この冷却チャネルが補強材の働きをし、反射シェル２１の熱変形を抑制することができる。なお、反射シェル２１の材質としてモリブデンを用いことによりさらに熱変形を抑制することができ、保持構造体２２に冷却チャンネルを設けることにより、さらに効果的に集光鏡アッセンブリを冷却し、その熱変形を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源におけるＥＵＶコレクタの反射表面からデブリを除去するための方法および装置を提供する。
【解決手段】電流源（ＤＣ電圧源）２２０は、コレクタミラー１５０、ミラー１５０のための金属製バッキング材（アルミニウムまたはニッケル）に接続されてよい。ミラー１５０は、チャンバ２６の内側を満たす周囲ガス（ヘリウムガス）の温度よりも高い温度に加熱されてよい。デブリ洗浄のもう一つの側面、ＲＦ周波数電圧２３０およびチャンバ２６内の２３２で模式的に示すアンテナからの、ＲＦの導入が組込まれてもよい。ＲＦは、ミラー１５０または金属製バッキング材に接続されてもよく、この場合、適切な導電性材料製で且つアース電位に接続された暗シールドが、コレクタミラー１５０の背面を覆って形成されてよく、これは絶縁体（空気ギャップ）および電圧（ミラー１５０にも接続されたＤＣ電源２２０からのＤＣ）によってミラーから分離される。 （もっと読む）

【課題】試料３の幅方向位置の測定精度を向上させ、試料測定範囲（厚さの範囲や材質など）の広範囲化を図った放射線測定装置を提供する。
【解決手段】被測定物（試料）を搬送させながら放射線を用いて前記試料の物理量の測定を行う放射線測定装置において、前記試料の搬送方向に略直角に配置されたラインセンサと、前記試料の上方に配置され前記試料を介して前記放射線を前記ラインセンサに照射する複数の放射線源からなり、前記複数の放射線源からの放射線は前記試料の搬送方向に略直角方向に扇状に出射されると共に前記ラインセンサの同一線上を照射するように構成した。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成でありながら、加速管で後ろ向きに加速された電子によるビーム出射手段の損傷等を防止できる電子加速器及びこれを備えたＸ線発生装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る電子加速器１１は、電子ビームＢを出射するビーム出射手段１３と、電子ビームＢの進行方向を前記電子ビームＢの進行方向に対し所定の方向に偏向する偏向磁場を形成する磁場形成手段１４と、偏向磁場により偏向された電子ビームＢが入射する位置に配置され、この入射した電子ビームＢを高周波により加速可能な加速管１５とを備え、偏向磁場は、加速管１５から戻ってきた電子の経路上に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

放射源は、低圧力水素環境が与えられているチャンバとして、リソグラフィ装置用の極端紫外線を生成する。微量の保護化合物（例えばＨ_２Ｏ、Ｈ_２Ｏ_２、Ｏ_２、ＮＨ_３、またはＮＯ_ｘ）がチャンバに供給されてチャンバ内の金属（例えばチタン）コンポーネント上の保護酸化物膜を維持することを助ける。 （もっと読む）

【課題】 重量の増加及び大型化を抑制でき、長期にわたって信頼性の高いＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線管装置１０は、Ｘ線管３０と、ハウジング２０と、冷却液７と、高電圧絶縁部材４０と、高電圧供給端子４４と、電気絶縁性部材６０と、を備えている。高電圧絶縁部材４０は、熱伝達面４３と、端面４１と、を含み、真空外囲器３１の一部を構成し陽極ターゲット３５ａが取り付けられている。電気絶縁性部材６０は、端面４１より大きい面積を有した平坦な端面６１と、端面４１に接着された他端面６２と、貫通孔６３と、を含んでいる。 （もっと読む）

本発明は電極システムに関し、特にEUV光及び/又は軟X線を発生させるためのガス放電デバイスの電極システムに関する。電極システムは、主要構成要素としてMo若しくはW、又はMo若しくはWの合金を含む電極材から形成された少なくとも二つの電極1、同2を有する。当該電極材は、500 nm以下の平均サイズをもつ微粒子をもつ微細粒構造を有する。提案された電極システムがあると、大きな熱-機械抵抗と、大きな熱-化学抵抗とをもつ電極が実現される。これゆえ、液体Snを使用し且つ高温で作動する周知のEUV光源において当該電極システムを使うことができる。
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【課題】電子ビームの照射野とターゲット体との位置関係が変化するのを抑制して、所望のＸ線量を安定して得ることが可能なＸ線発生装置を提供すること。
【解決手段】Ｘ線発生装置１は、電子ビームを出射する電子銃部３と、ターゲット部Ｔと、電子銃部３から出射された電子ビームの進路を変更可能なコイル部９と、反射電子を検出する反射電子検出器３１と、反射電子検出器３１の検出信号に基づいてコイル部９を制御するコントローラ３３と、を備えている。ターゲット部Ｔは、基板２１と、基板２１に埋設されたターゲット体２３と、を有している。電子ビームのターゲット部Ｔでの照射野の径は、ターゲット体２３の径よりも大きい。コントローラ３３は、コイル部９を制御して、電子ビームのターゲット部Ｔでの照射野内にターゲット体２３が常に含まれるように、照射野をターゲット部Ｔ上において二次元的に走査する。 （もっと読む）

ＥＵＶリソグラフィ装置（１００）は、放射を放出するプラズマ（２１０）を提供するために燃料を励起することによって極端紫外線が生成される放射源コレクタ装置（ＳＯ）を含む。放射源コレクタ装置（ＳＯ）は、チャンバ（３１０）の外部の案内路（３２０）と流体連結しているチャンバ（３１０）を含む。バッファガスを循環させるためのポンプ（ＢＰＳ）は、案内路（３２０）の一部であり、閉ループバッファガス流（２２２）を提供する。案内路（３０２）を通って流れるガスはガス分解器（ＴＤ１）を通り抜ける。ここで、燃料材料とバッファガス材料との化合物は分解され、それによって分解されたバッファガス材料を閉ループ流路（２２２）にフィードバックすることができる。 （もっと読む）