【課題】ピンチプラズマのパルス生成器を提供する。
【解決手段】パルス放電型極紫外線（ＥＵＶ）光源のための磁気的にシールドされた効率的なプラズマ生成構造であって、定常磁場に平行な軸に取り付けられる２つの対向する凸電極１０、２０を含む。電極間に配置されるリミッタ開口は、磁場線と共に、電極間をつなぐ中空プラズマシリンダ９０を画定する。高パルスの電圧および電流は、プラズマシリンダ９０およびその内部磁場を圧縮し、同時に各側面から電極チップ間の空間に向けて活動ガスを進めるような磁気絶縁層を形成する。プラズマは次いで径方向に３次元圧縮するように崩壊し、デバイスの軸上に、極紫外線の放出を伴う高密度プラズマを形成する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線シャッタを備えるハウジングを提供する。
【解決手段】ハウジング内の開口と、遮蔽位置と解放位置との間で移動可能なシャッタとを含み、Ｘ線ハウジングのためのシャッタ構成は、例えば、固体タンタル、ニオブ、若しくは、ジルコニウム、又は、少なくとも８０パーセントを含む合金のシャッタ１０を含む。実施態様において、シャッタは、通孔２２を有し、Ｘ線ハウジングの内面上で閉塞位置と開放位置との間を摺動し、開放位置において、通孔２２はハウジング内の開口８と整列する。 （もっと読む）

【課題】特殊な電子放出素子を用いることなく、長寿命の電界放出型Ｘ線発生装置を得る。
【解決手段】電界放出型Ｘ線管１０は、電子放出素子となる冷陰極１２を備えている。冷陰極１２に対しては、直流電源２１から、高圧ケーブル２２を介して、数十ｋＶの負電圧が印加される。直流電源２１近傍に設けた第１の電流制御抵抗３１の他に、冷陰極１２近傍には、第２の電流制御抵抗４１が設けられている。
高圧ケーブル２２に寄生しているインダクタンスＬやキャパシタンスＣに起因する過電流が発生して冷陰極１２に流れようとしても、第２の電流制御抵抗４１によって当該過電流がそのまま冷陰極１２に流れることを防止でき、冷陰極１２の長寿命化が図れる。 （もっと読む）

【課題】放射線源から照明器へ放射線が進む領域内でのガスの個別の提供が、その領域内のデブリ粒子の抑制に関連してはるかに少ない放射線源装置を提供すること。
【解決手段】本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。照明システムは、放射線の発生によって解放されるデブリ粒子を抑制するためのデブリ抑制システムと、放射線を収集するための光学システムとを含む。デブリ抑制システムは、放射線源から光学システムへ放射線が進む経路内で、デブリ粒子を直接蒸発させるように、デブリ粒子を直接荷電するように、またはデブリ粒子からプラズマを直接発生させるように、あるいはそれらの任意の組合せを行うように配置される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生ＥＵＶ光源発生器の環境において又は特に液体噴出ターゲット液滴発生器のターゲット液滴発生における圧電材料の利用に関連することができる問題に対処する。
【解決手段】磁歪材料又は電歪材料を含むターゲット液滴形成機構と出力オリフィスで終端する液体プラズマ源材料通路と液滴形成噴出流又は選択経路に沿って通路を出る個々の液滴に電荷を印加する帯電機構と出力オリフィスとプラズマ開始部位の中間にあって液滴を選択経路から定期的に偏向させる液滴偏向器と入力開口部と出力オリフィスとを有する液体ターゲット材料供給通路を含む液体ターゲット材料供給機構と液体ターゲット材料内で外乱力を発生させる外乱起電力発生機構と出力オリフィスを有する液体ターゲット供給液滴形成機構と及び／又は出力オリフィスの周辺の湿潤障壁とを含むことができるＥＵＶプラズマ形成ターゲット供給システム及び方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射のためのプラズマ光を長時間（μｓｅｃオーダーで）安定して発生させることができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】対向配置された１対の同軸状電極１１を有しその中間位置１１ａにプラズマ３を軸方向に閉じ込める複数の同軸電極対１０と、各同軸電極対１０にプラズマ媒体を供給しかつプラズマ発生に適した温度及び圧力に各同軸電極対内を保持する放電環境保持装置２０と、各同軸電極対の各同軸状電極に極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備える。複数の同軸電極対１０は、中間位置１１ａで互いに交差して配置されており、電圧印加装置３０は、各同軸電極対１０の同軸状電極１１に位相がずれた放電電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】 光軸を画定する放射ビームを生成するための放射システムが提供される。
【解決手段】 放射システムは、ＥＵＶ放射を生成するためのプラズマ生成放電源を含む。放電源は、電圧差を提供する１対の電極と、電極間にプラズマ内の放電を提供するために１対の電極間にプラズマを発生させるためのシステムとを含む。また、放射システムは、電極からのデブリを捕捉するためのデブリ捕捉シールドを含む。デブリ捕捉シールドは光軸に対して所定の球面角で提供された見通し線から電極を遮蔽し、見通し線内の電極間の中央領域に開口を提供するように構成され配置されている。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質又はプラズマによって反射されてドライバレーザに戻る反射光（戻り光）によるドライバレーザの故障を防止する極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源は、チャンバ内にターゲットを供給するターゲット供給部と、レーザ光を出射するドライバレーザと、レーザ光をターゲットに集光することによってプラズマを発生させるレーザ集光光学系と、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するＥＵＶ集光光学系と、集光されたレーザ光がターゲット又はプラズマによって反射されてドライバレーザに入射する戻り光の量を低減する空間フィルタと、空間フィルタを通過する戻り光を検出する戻り光検出器と、レーザ集光光学系に含まれている光学素子の位置を調節する位置調節機構と、戻り光検出器によって検出される戻り光の量に基づいて位置調節機構を制御する制御部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】光学系に使用されるミラーの熱変形は、抑えることが望ましい。
【解決手段】光反射面を有する反射膜１１と、反射膜を支持するミラー基部１２とを備えた平面ミラー１でのミラー基部に、当該ミラー基部の外表面の少なくとも１箇所に開口するとともに、当該ミラー基部での反射膜の背面側の少なくとも１箇所に開口する第１流路Ｐ１と、少なくとも一部が反射膜の背面側に位置し、第１流路側から当該ミラー基部の側端側にかけて放射状に延在する複数の第２流路Ｐ２と、複数の第２流路の各々に接続されるバッファタンク部ＰＢと、バッファタンク部に一端が接続され、他端が前記ミラー基部の外表面に開口する第３流路Ｐ３とを含む流路ＦＰを設ける。 （もっと読む）

【課題】プラズマからＥＵＶ光を供給する極紫外線（ＥＵＶ）光発生器を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ光源プラズマ生成チャンバ光学要素表面をプラズマ形成から生じるデブリから保護するためのシステム及び方法。本発明の実施形態の１つの態様では、光学要素とプラズマ形成部位の間に位置決めされた少なくとも１つの中空管を含むシールドを開示する。管は、光を比較的小さなグレージング入射角での反射を通じて管の内腔に通過させながらデブリを捕捉するように配向される。本発明の実施形態の別の態様では、シールド上に堆積したデブリ材料の１つ又はそれよりも多くの種を除去するのに十分な温度まで加熱されるシールドを開示する。本発明の実施形態の更に別の態様では、シールドが光源プラズマチャンバからシールドが洗浄される洗浄チャンバまで移動されるシステムを開示する。 （もっと読む）

【課題】伝達される物体フィールドを照明するための放射の質を改善するコレクタを提供する。
【解決手段】ＥＵＶ放射源からの放射を集光して伝達するためのＥＵＶコレクタ（１５）が、中心軸（２４）に対して回転対称に構成された、ＥＵＶ放射源の放射を反射するための少なくとも１つのコレクタミラー（２３）と、この少なくとも１つのコレクタミラー（２３）を冷却するための冷却装置（２６）とを備え、冷却装置（２６）が、コレクタミラー（２３）に対する進路を有する少なくとも１つの冷却要素（２７）を有し、この進路を中心軸（２４）に垂直な平面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向（２９）との間の最大２０°の角度ｂがいずれの場合にも含まれるようにする。 （もっと読む）

【課題】コレクタの損傷を低減できる極端紫外線放射装置の実現。
【解決手段】放射源は、放射を放出する放射エミッタ、放射を収集するコレクタ６と、放射源によって放出される汚染物を捕集する汚染物トラップ５とを含む。汚染物トラップは、実質的に放射状に延びる複数のフォイルと、コレクタによって収集される放射の外側円錐軌道外に位置する第１の磁気リングと、コレクタによって収集される放射の軌道内に位置する第２の磁気リングとを含む。これらの磁気リングは、フォイルに平行な成分を含む磁界を提供する。 （もっと読む）

【課題】ウィンドウのレーザ光による熱負荷による特性の悪化を改善させる。
【解決手段】ウィンドウユニットは、レーザ光を透過するウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持し、内部に前記ウィンドウの外側または内側の周辺に液体を流す流路が設けられたホルダとが設けられたウィンドウホルダと、を備えていてもよい。流路には、たとえば冷却装置から供給された冷却媒体が流れてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置において、ＥＵＶコレクタミラーのスパッタ量を正確に反映させることにより、ミラー交換の時期を適切に判断できるようにする。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、真空チャンバ内に配置され、プラズマから発生したイオンを検出して、そのイオン量を表す検出信号を出力するイオン検出器と、該イオン検出器から出力された検出信号に基づいて、イオン量を積算して積算値を算出する計算部と、該計算部によって算出された積算値が所定の基準値に至った場合に、集光ミラーの交換時期又は修理時期を表す判定信号を出力する判定部とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置において、ＥＵＶコレクタミラーのスパッタ量を正確に反映させることにより、ミラー交換の時期を適切に判断できるようにする。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、真空チャンバ内に配置され、表面に膜が形成されているセンサを有し、プラズマから発生したイオンを含む粒子が該センサ表面に形成された膜をスパッタすることにより生じる膜厚の変化をモニタして、膜厚の変化を表す検出信号を出力するスパッタ量検出器と、該スパッタ量検出器から出力された検出信号に基づいて、膜厚の変化量を算出する計算部と、該計算部によって算出された膜厚の変化量が所定の基準値に至った場合に、集光ミラーの交換時期又は修理時期を表す判定信号を出力する判定部とを含む。 （もっと読む）

【課題】 水系冷却液による内部腐食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れた熱移動システム、熱移動システムの立上げ方法及び熱移動システムの保全方法を提供する。
【解決手段】 熱移動システムは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満である水系冷却液Ｌを収容する循環流路３０と、保護膜Ｆと、を備えている。保護膜Ｆは、水系冷却液Ｌに接触する循環流路３０の少なくとも一部の表面とベンゾトリアゾール又はその誘導体との反応被膜で形成されている。 （もっと読む）

【課題】比較的安価でかつ長寿命のＸ線管電子源の提供。
【解決手段】Ｘ線管は抑制器（１４、１６）内に収容される放出器ワイヤ（１８）を備える。抽出グリッドが、放出器ワイヤに対して垂直に延在する複数の平行なワイヤ（２０）を備え、集束グリッドが、グリッドワイヤ（２０）に対して平行であり、かつグリッドワイヤ（２０）から等間隔で離間して配置される複数のワイヤ（２２）を備える。グリッドワイヤはスイッチによって正の抽出電位または負の阻止電位に接続され、いつでも一対の隣接するグリッドワイヤ（２２）が共に接続され、抽出対を形成し、それが電子ビームを生成するように、それらのスイッチが制御される。ビームの位置は、種々のグリッドワイヤ対を抽出電位に切り替えることにより移動される。 （もっと読む）

【課題】比較的安価でかつ長寿命のＸ線管電子源の提供。
【解決手段】Ｘ線管は抑制器（１４、１６）内に収容される放出器ワイヤ（１８）を備える。抽出グリッドが、放出器ワイヤに対して垂直に延在する複数の平行なワイヤ（２０）を備え、集束グリッドが、グリッドワイヤ（２０）に対して平行であり、かつグリッドワイヤ（２０）から等間隔で離間して配置される複数のワイヤ（２２）を備える。グリッドワイヤはスイッチによって正の抽出電位または負の阻止電位に接続され、いつでも一対の隣接するグリッドワイヤ（２２）が共に接続され、抽出対を形成し、それが電子ビームを生成するように、それらのスイッチが制御される。ビームの位置は、種々のグリッドワイヤ対を抽出電位に切り替えることにより移動される。 （もっと読む）

【課題】エテンデュが小さく、高出力を取り出すことができ、デブリによる損傷の少ない光源装置を提供する。
【解決手段】この光源装置は、ターゲットとなる物質を供給するターゲット供給部と、ターゲットにパルスレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ部と、プラズマから放出される極端紫外光を集光する集光光学系とを備え、レーザ部は、パルスレーザビームを所定の繰り返し周波数で発生する発振段と、パルスレーザビームを低次の横モードにするアダプティブ光学素子と、媒質として二酸化炭素ガスを含み、パルスレーザビームを増幅する少なくとも１つの増幅段とを備え、発振段と少なくとも１つの増幅段とは、ＭＯＰＡ方式で直列に接続され、アダプティブ光学素子は、パルスレーザビームの光路上に配置されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施形態は、アパーチャの付近におけるビーム位置合わせのリアルタイム測定を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラズマの形態であるＥＵＶ放射源は、ＥＵＶリソグラフィ装置内の放射源コレクタモジュールの出口アパーチャを通過するように仮想放射源点に合焦される。プラズマ位置は、モニタリング信号を用いて３つの方向、Ｘ、Ｙ、Ｚにおいて制御される。光音響効果を利用することによって、モニタリングは、出口アパーチャを囲むコーンの材料に結合された音響センサを用いて非侵入形式で達成される。放射ビームの様々な角度位置を、相対的な到着時間または位相に基づいて様々なセンサからの信号同士を区別することによって、および／または、信号の振幅／強度を比較することによって推定することができる。シーケンサ機能を用いてビーム位置に意図的なオフセットのシーケンスを導入することができる。 （もっと読む）