本発明は、デブリ抑制のためのホイルトラップ装置に関し、特にＥＵＶシステムでのホイルトラップ装置に関する。前記ホイル（４）は、前記ホイルトラップ装置の入口側から出口側へ伸びる複数の空間的に離れたホイルを含み、前記ホイル（４）が、前記入口側及び前記出口側の間に放射の直線通路を可能とするように構成されている。前記ホイル（４）が、少なくとも入口側端部が、少なくとも６０％のｓｐ^３混成炭素原子の部分を含むカーボン材料又はカーボンナノチューブの層（８、１１）で、コーティングされる。又は前記ホイル（４）は、前記組成のカーボン材料のバルクカーボン材料からなる。提案されるホイルトラップは、高い熱伝導性、Ｓｎ及び他の液体金属に対する高い熱化学反応抵抗性及び高い機械的剛性を与える。
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【課題】ターゲット物質及びエネルギーの利用効率を大幅に高めることができ、かつデブリの発生とチャンバーの真空度悪化を抑制することができるＬＰＰ方式のＥＵＶ光源とその発生方法を提供する。
【解決手段】所定の真空環境に保持された真空チャンバー１２と、真空チャンバー内にターゲット物質の極超音速定常ガスジェット１を回収可能に形成するガスジェット装置１４と、極超音速定常ガスジェットにレーザー光３を集光して照射するレーザー装置１６と、を備え、レーザー光の集光点２においてターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光４を発光させる。 （もっと読む）

【課題】光電子やプラズマを発生させることなく光電界電離現象を利用し電子を放出させる電子発生技術を採用することにより、レーザー装置を小型化および低コスト化するとともに、電極の熱エネルギーによるダメージを軽減してデブリの発生を抑制することを可能にしたＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザー光２を出射するレーザー光源１と、パルスレーザー光２が照射されることにより電子を放出する陰極４と、陰極４から放出した電子６が加速されて衝突することによりＸ線９を放出する陽極５と、 陰極４および陽極５を収容する真空容器７と、を備えるＸ線発生装置において、レーザー光源１は、パルス幅が１０^−１２秒以下のパルスレーザー光２を出射し、陰極４から光電界電離により電子を放出させることを特徴とするＸ線発生装置である。 （もっと読む）

リソグラフィ投影装置は、ＥＵＶ放射システムを備えている。このＥＵＶ放射システムは、放射源チャンバと、ターゲット材料を所定のプラズマ形成位置に供給するように構成された供給源と、ターゲット材料が所定のプラズマ形成位置に配置された場合、ターゲット材料に延在するビームパスを確立するように構成された３つ以上のミラーによって形成された光学システムと、ターゲット材料との相互作用のためにビームパスに沿ってレーザビームを提供してチャンバの中でＥＵＶ放射放出プラズマを生成するように構成されたレーザシステムとを含む。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内にある光学素子に付着したデブリを除去するクリーニング方法を提示する。
【解決手段】ターゲット物質にレーザ光を照射することにより生成されるプラズマから極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバの内部に電場又は磁場を発生させる電磁場発生部と、チャンバの内部の光学素子に付着したデブリを帯電させて該光学素子から離脱させ、又は、該デブリを該光学素子から離脱させて帯電させるクリーニング部と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源装置において、光学素子及びその他の構成要素がデブリで汚染または損傷されることを抑制し、これらの長寿命化を実現する。
【解決手段】チャンバ内においてターゲット物質のプラズマを発生させることにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置１であって、ターゲット物質に第１レーザ光３４を照射することによりプリプラズマを発生させる第１レーザ部と、プリプラズマに第２レーザ光３５を照射することにより極端紫外光を発生するメインプラズマを発生させる第２レーザ部と、チャンバ内に磁場Ｂを発生させてプリプラズマ及びメインプラズマの内の少なくとも１つの状態を制御する磁場発生部と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】陽極接地型のＸ線管において筐体内の塵埃に起因する異常放電を抑制する。
【解決手段】本発明のＸ線管は、真空筐体１０６と、真空筐体に収容された陽極１０２と、真空筐体に陽極と互いに電極面を対向させて収容された陰極１０１と、陰極の電極面の反対側の面に接続されて真空筐体から引き出される導体を真空筐体の内部で覆ってなる絶縁体１１０とを備え、真空筐体及び陽極に接地電位が与えられ、陰極に負電位が与えられる陽極接地型として構成される。上記課題を解決するため、陰極及び絶縁体の外周面とこの外周面に対向する真空筐体の内壁面との間に、接地電位が与えられ穴が形成された導電性の電界緩和部材１０７が設けられる。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ光源のチャンバ装置において、ターゲット噴射ノズルから噴射される液滴ターゲットの噴射方向が所定の噴射方向から傾いた場合でも、ターゲット噴射ノズルの位置又は角度を調整してＥＵＶ光の安定供給を維持することができるターゲット軌道計測及び制御装置を提供する。
【解決手段】この装置は、ターゲット噴射ノズルの位置と角度との内の少なくとも一方を調整するノズル調整機構と、ターゲット軌道を計測することにより、ターゲット軌道に関する軌道情報を取得するターゲット軌道計測部と、軌道情報によって表されるターゲット軌道と所定のターゲット軌道との間の角度偏差に関する値を求めるターゲット軌道角度検出部と、角度偏差に関する値に基づいて、液滴ターゲットが所定のレーザ光照射位置を通過するようにノズル調整機構を制御するノズル調整コントローラとを含む。 （もっと読む）

【課題】コレクタアセンブリの効率を改善し効果的な放射源を提供する。また、放射生成のために使用される励起パワーを減少させることができ、励起源の寿命を延ばすこと。さらに、ＥＵＶ放射に対する集光の効率を改善すること。
【解決手段】リソグラフィにおける使用のためのレーザ生成プラズマ極端紫外線源における使用のためのコレクタアセンブリは、コレクタ本体内に集光ミラーおよび窓を有するコレクタ本体を有する。窓は、励起ビーム、一般的には、赤外線レーザビームを透過し、それによってビームはプラズマを励起するために窓を通り抜けることができる。また、窓はその表面上にＥＵＶミラーを有しており、当該ＥＵＶミラーも励起ビームを透過するが、プラズマによって生成されたＥＵＶを集光ミラーの集光箇所へと反射することができる。窓は、集光効率を改善し、集光箇所におけるイメージの非均一性を減少させる。放射源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法は、コレクタを使用することができる。 （もっと読む）

X線生成装置（２）において、焦点スポット（２１）の温度が決定されうる。さらに、負荷条件が決定される。これはX線生成装置（２）の計画される動作手順を考慮に入れてもよい。X線生成装置の焦点スポットは、次いで、少なくとも部分的に前記負荷条件に基づいて、自動的にサイズ変更できる。
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【課題】Ｘ線管の内部に電磁漏洩のない小型高圧電源を設置することによって電子ビームの照射位置に影響を与えることなく安定したＸ線発生位置を実現したＸ線発生装置を提供することにある。
【解決手段】入力される交流あるいは直流の電力を１０−２００ｋＨｚの高周波交流電力に変換する駆動回路と該変換された前記高周波交流電力を熱発生や電磁放射ノイズを抑制して昇圧する並列に設けられた複数の圧電昇圧トランスと該各々昇圧された交流電力を整流して３０−１００ｋＶの高電圧を得てＸ線管に負荷する複数の電圧昇圧用整流回路とを有する小型高圧電源を前記Ｘ線管の内部に設置することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ ＥＵＶ光源の作動プロセス中に生成される微粒子及びデブリをより良好に制御すること。
【解決手段】集光ミラーと、ターゲット材料経路に沿って複数の液滴を排出するように位置合わせされた液滴出口を有する液滴生成システムと、第１の捕集部とを含み、第１の捕集部は、ターゲット材料経路と実質的に位置合わせされた第１の開放端部と、第１の捕集部の第２の端部の方向に向かう少なくとも１つの内表面とを含み、第２の端部は第１の開放端とは反対側にある、極紫外光チャンバ内で極紫外光を生成するシステム及び方法。 （もっと読む）

【課題】出力が安定で小型の電源を提供する。
【解決手段】変圧器１と整流回路６とで構成されるユニット電源７を多段に積み上げて、整流回路６の出力側を直列接続して直流高電圧出力を得る多段直流高電圧電源装置において、各ユニット電源７の直流出力側の負端子８を、該当ユニット内の変圧器１の鉄心４と電気的に接続した。これによって、高度な絶縁を要する部分を一次巻き線２と、二次巻き線３および鉄心４との間に限定し、その部分を優れた絶縁性能を有する絶縁樹脂５で埋め込むことで絶縁寸法の縮小を達成し、従来比１／２〜１／６まで小型化することができた。 （もっと読む）

【課題】本発明の極端紫外光源装置は、溶融状態のターゲット物質に接触する面が、ターゲット物質によって侵食され、ターゲット物質と反応したり、削られたりするのを抑制する。
【解決手段】ターゲット発生部１２０は、ドロップレット状の溶融した錫をターゲット２０１として、チャンバ１０１内に噴射する。ノズル部１２１及びタンク部１２２の各面のうち、溶融状態の錫に接触する箇所には、錫に対する耐侵食性を有する保護膜が形成される。あるいは、溶融状態の錫に接触する部分は、耐侵食性及び耐熱性等を備える材料から形成される。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に配置された光学素子等の部品に付着したデブリを排除することができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給部と、ターゲット物質にドライバ用パルスレーザ光を照射してプラズマを生成するドライバレーザ装置と、クリーニング用パルスレーザ光を射出するクリーニングレーザ装置と、チャンバ内に設置された部品にクリーニング用パルスレーザ光を照射することにより、該部品の表面に付着したデブリを除去するように、クリーニングレーザ装置から射出されるクリーニング用パルスレーザ光の照射位置を制御する制御部とを含む。 （もっと読む）

【要約書】 エミッタ支持ブロックと、支持ブロック上に設けられ電子を放出する電子放出領域と、電子放出領域と電流源とを電気的に接続するように構成された電気コネクタと、支持ブロックを加熱するように構成された加熱手段とを備えたＸ線スキャナ用の電子源 （もっと読む）

【課題】電極間に放電が生じた時の高温プラズマ原料の密度をできるだけ高い状態にし、効果的にＥＵＶ光を発生させることが可能なＥＵＶ光源装置を提供すること。
【解決手段】レーザ源２３ａからレーザを、回転電極１１に付着した溶融スズ１１ａに照射し、スズを気化させる。一方、パルス電力発生器８から、回転電極１１，１２に高電圧パルスを印加して放電を発生させ、高温プラズマを形成しＥＵＶ光を放射させる。ここで、レーザ２３の集光点は回転電極１１に付着した原料１１ａの表面よりも奥側になるように設定されている。すなわち、原料の表面はレーザ２３の集光点Ｐより入射側にずれた位置になるように配置されている。このため、エネルギービームによって発生させたプラズマを、従来よりも自由膨張が少ないものにすることができ、放電領域におけるプラズマ原料のガスの密度を高い状態に維持することができる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの無駄な消費を抑えることができるターゲット供給装置を提供する。
【解決手段】ノズル３１から出力される液状の溶融ターゲット材である溶融錫３４を蓄えるタンク３０内のガス圧を圧力調整器４１が備えつけられたガスボンベ４０から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置１は、一端が前記タンク３０に接続され、他端が排気口Ｌａを形成するガス流路Ｌ２と、ガス流路Ｌ２上に設置したバルブ４３と、溶融錫３４をノズル３０から出力させない場合、バルブ４３を開にしてタンク３０内を減圧するコントローラ６０と、を備え、ＥＵＶ光を出力させない場合、ターゲット１３の供給を停止または供給速度を減速することで、溶融錫３４の消費を抑える。 （もっと読む）

自己クリーニングＸ線窓構成体は、中間の領域から周囲の圧力の領域を分離している第１のＸ線透過窓要素と、減圧の領域から中間の領域を分離している第２のＸ線透過窓要素とを有する。汚染物質は、減圧の領域に面している第２の要素の側面に沈着することが予測される。熱源は、汚染物質を蒸発するために第２の窓要素の一部分を加熱する。第２の要素は、汚染物質が存在する減圧の領域から第１の要素を防護する。圧力気密性の第１の窓要素は、周囲の圧力の領域と減圧の領域との間の大きな圧力差の大部分を支える。本発明の特徴は、汚染物質が中間の領域に侵入する比率を減少することに役立つ。減圧の領域に近い中間の領域の圧力を維持することによって、第２の窓要素の機械的応力は、有毒ガスへの照射と同様に制限され得る。
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【課題】ＥＵＶ光発生チャンバ内に設置されたレーザ光集光光学系の光学素子の劣化を確実に検出して、的確な劣化判定を行えるＥＵＶ光源装置を提供する。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光発生チャンバ２と、ターゲット物質供給部と、ＥＵＶ光集光ミラー８と、ドライバーレーザ１２，１３と、ウインドウ６（１）（２）と、コリメートされたレーザ光を反射して集光するＥＵＶ光発生チャンバ内に配置された放物面鏡４３（１）（２）と、ＥＵＶ光の発生が行われないときに、レーザ光集光光学系によって集光された後にターゲット物質に照射されることなく発散したレーザ光のエネルギーを検出するエネルギー検出器３５（１）（２）と、エネルギー検出器によって検出されたレーザ光のエネルギーに基づいてウインドウ及び放物面鏡の劣化を判定する処理部８０とを具備する。 （もっと読む）