本発明は、少なくとも２つの電極を含む放電空間内の電気放電を介するプラズマの発生のための方法及び装置であって、前記電極の少なくとも一方は、蒸発スポットによる侵食影響領域が、少なくとも電流フローによって形成されるように、マトリックス材料又はキャリア材料から構成されている方法及び装置に関する。電気放電によるプラズマの前記発生のための方法又は装置を提供するために、放電動作中の犠牲基板（３８）の沸点が前記キャリア材料（３０）の融点よりも低い犠牲基板（３８）が、前記電流フローにおいて生じる電荷キャリアが前記犠牲基板（３８）から主に生成されるように、少なくとも前記蒸発スポットに設けられることが提案される。
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【課題】 簡便な調整で動作する簡易な装置により、室温では固体で存在する材料を長時間連続に供給する手段を備えたレーザープラズマから輻射光を発生させる方法、該方法を用いたレーザープラズマ輻射光発生装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 レーザープラズマから輻射線を発生させる方法は、微粒子を含む溶液をノズルから噴出させて液体ジェットあるいは液滴を発生させ、その液体ジェットあるいは液滴にパルスレーザーを照射して溶媒を加熱蒸発し、続けて０．１μｓ以上の遅延時間後に加熱された液体ジェットあるいは液滴を別のパルスレーザーを照射しプラズマ生成する。 （もっと読む）

【課題】プラズマからＥＵＶ光を供給する極紫外線（ＥＵＶ）光発生器を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ光源プラズマ生成チャンバ光学要素表面をプラズマ形成から生じるデブリから保護するためのシステム及び方法。本発明の実施形態の１つの態様では、光学要素とプラズマ形成部位の間に位置決めされた少なくとも１つの中空管を含むシールドを開示する。管は、光を比較的小さなグレージング入射角での反射を通じて管の内腔に通過させながらデブリを捕捉するように配向される。本発明の実施形態の別の態様では、シールド上に堆積したデブリ材料の１つ又はそれよりも多くの種を除去するのに十分な温度まで加熱されるシールドを開示する。本発明の実施形態の更に別の態様では、シールドが光源プラズマチャンバからシールドが洗浄される洗浄チャンバまで移動されるシステムを開示する。 （もっと読む）

磁歪材料又は電歪材料を含むターゲット液滴形成機構と、出力オリフィスで終端する液体プラズマ源材料通路と、液滴形成噴出流又は選択経路に沿って通路を出る個々の液滴に電荷を印加する帯電機構と、出力オリフィスとプラズマ開始部位の中間にあって液滴を選択経路から定期的に偏向させる液滴偏向器と、入力開口部と出力オリフィスとを有する液体ターゲット材料供給通路を含む液体ターゲット材料供給機構と、液体ターゲット材料内で外乱力を発生させる外乱起電力発生機構と、出力オリフィスを有する液体ターゲット供給液滴形成機構と、及び／又は出力オリフィスの周辺の湿潤障壁とを含むことができるＥＵＶプラズマ形成ターゲット供給システム及び方法が開示される。 （もっと読む）

液滴形成毛細管と流体連通し且つプラズマ源材料を液体形態に維持するのに十分な温度の選択範囲内に維持される液滴発生器プラズマ源材料リザーバ（２１２）を有する液滴発生器と、液滴発生器プラズマ源材料リザーバと流体連通し、液滴発生器がオンラインである間に、液滴発生器プラズマ源材料リザーバに移送するために液体形態でプラズマ源材料の少なくとも補充量を保持する供給リザーバ（２１４）を有するプラズマ源材料供給システムと、液滴発生器がオンラインである間に、液体プラズマ源材料を供給リザーバから液滴発生器プラズマ源材料リザーバに移送する移送機構（２１０）とを備えることができるＥＵＶ光源プラズマ源材料処理システムが開示される。供給リザーバは、固体形態である材料の一部から液体形態である材料を定期的に形成するのに使用される固体形態のプラズマ源材料を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 電極間の放電を利用して発光プラズマを形成するＥＵＶ光源及び軟Ｘ線光源を提供する。
【解決手段】 プラズマを出るデブリから金属ハロゲン化物を生成する金属ハロゲンガスを使用するデブリ軽減装置を含むことができるＤＰＰのＥＵＶ光源。ＥＵＶ光源は、焦点に視準した光路によって結合された内面及び外面を有する複数の曲線遮蔽部材を含むことができるデブリ遮蔽体を有することができ、この遮蔽部材は、その間の開放空間を用いて交互させることができ、１つの回転軸で円及び別の回転軸で楕円を形成する表面を有することができる。電極には、放電の軸線方向消滅段階中の中庸な電流と、放電の半径方向圧縮段階中に生じるピークとを生成するように形成された放電パルスを供給することができる。光源は、発生チャンバに接続した入口を有してチャンバから緩衝ガスよりも多くの原料ガスを優先的にポンピングするように作動可能なターボ分子ポンプを含むことができる。光源は、第１の領域で少なくとも選択導電率まで及び第２の領域で少なくとも選択熱伝導率までドープされたドープの異なるセラミック材料を含む調整導電電極を含むことができる。第１の領域は、電極構造体の外面又はその近くにあるとすることができ、セラミック材料は、ＳｉＣ又はアルミナとすることができ、ドーパントは、ＢＮか又はＳｉＯ又はＴｉＯ₂を含む金属酸化物とすることができる。光源は、電極アセンブリ取付台を交換位置から作動位置まで移動するように作動可能な可動電極アセンブリ取付台を含むことができ、可動取付台はベローズ上である。光源は、集光器に作動的に接続されてそれぞれのシェル部材の温度を調節してそれぞれのシェル部材からのかすり入射角の反射を最適化する温度関連幾何学形状を維持するように作動する温度制御機構、又はシェル部材を位置決めするための機械式保定装置を有することができる。シェルには、電圧でバイアスを掛けることができる。デブリ遮蔽体は、焦点外れレーザ放射を用いて作製することができる。アノードは、２つの冷却液通路を形成する中空内部又はこれらの通路を形成する多孔金属を用いて冷却することができる。デブリ遮蔽体は、取付リング又はハブに取り付けられるか、又は均一な分離及び補強をもたらしかつ一切の有意な量の光を妨げない連結タブで互いに取り付けられた、複数の大、中、小のフィンで形成することができる。
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第１の態様において、ＥＵＶ光を発生させる方法は、原材料を供給する行為／段階と、複数の原材料液滴を発生させる行為／段階と、複数の原材料液滴に第１の光パルスを同時に照射して照射原材料を生成する行為／段階と、その後で、照射原材料を第２の光パルスに露出して、例えば原材料のプラズマを発生させることによってＥＵＶ光を発生させる行為／段階とを含むことができる。別の態様においては、ＥＵＶ光源は、複数の原材料液滴をターゲットボリュームに供給する液滴発生器と、ターゲットボリューム内の複数の原材料液滴に第１のパルスを同時に照射して原材料を生成する第１の光パルス源と、原材料を第２の光パルスに露出してＥＵＶ光を発生させる第２の光パルス源とを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 ＬＰＰ型極端紫外光源装置において、振動子に印加される電圧の周波数によらず均一なドロップレットターゲットを形成する。
【解決手段】 極端紫外光の生成が行われるチャンバと、該チャンバ内にターゲット物質を噴射する噴射ノズル１０４と、２つの端子を備え、該２つの端子にケーブルを介して電圧を印加されることにより振動して、噴射ノズルに振動を与える振動子１０５と、該振動子の２つの端子間に印加するための電圧を生成する振動子用電源１１０と、振動子の２つの端子間の電圧をモニタすると共に、モニタされた電圧の振幅が所定の範囲内に入るように、電圧生成手段をフィードバック制御する制御部１２０と、噴射ノズルから噴射されたターゲット物質を照射するためのレーザ光を発生するレーザ光源とを含む。 （もっと読む）

【課題】 液滴を利用する場合に必要とされる、飛行経路の制御安定化、飛行速度の加速、あるいは溶媒の迅速な除去を可能とすることを目的としている。
【解決手段】 本発明は、液滴を利用する場合に必要とされる、飛行経路の制御安定化、飛行速度の加速、あるいは溶媒の迅速な除去を可能とするために、レーザーあるいは粒子ビームの照射その他の手段で、液滴の一部を、単発的に、多数回間欠的に、あるいは連続的に除去する。２枚の円筒鏡６で繰り返し反射させることで、入射した線状集光ビームを効率よく、液滴流に吸収させる。水液滴２を、液滴生成用ノズル１から発生させ、連続発振CO₂レーザー３を、液滴流に線状集光照射する。 （もっと読む）

【課題】ＣＴイメージング・システム等において、ガントリ負荷の増大、ピーク動作電力及び平均動作電力の増大、並びに全体的な軸受け性能の向上を可能にするために、回転式アノード軸受けの動作温度を低下させてアノード軸受けを潤滑する改善された方法を提供する。
【解決手段】回転式アノード軸受け外被が、真空室（１０８）を有するＸ線管フレーム（１０６）を含んでいる。アノード（１１０）が真空室（１０８）の内部に位置しており、軸受け（１１７）を介してシャフト（１１４）上で回転する。軸受け（１１７）は、Ｘ線管フレーム（１０６）の内面（１２６）に取り付けられている。軸受け（１１７）は熱エネルギをシャフト（１１４）からＸ線管フレーム（１０６）へ伝達する。 （もっと読む）

【課題】 Ｓｎ等の放射種に起因するデブリがＥＵＶ光源装置内部に付着して装置性能が劣化することを抑制するとともに、堆積したＳｎおよび／またはＳｎ化合物を効率よく除去すること。
【解決手段】 高密度高温プラズマが発生するチャンバ１０内に極端紫外光放射種であるＳｎおよび／またはＳｎ化合物を含む原料を供給し、チャンバ１０内で上記供給された原料を加熱・励起し高密度高温プラズマを発生させ、高密度高温プラズマから放射される極端紫外光を取り出す。また、水素ラジカル発生部３１，３２を設け、水素ラジカルをチャンバ１０内で発生させ、集光鏡５などの装置低温部にＳｎおよび／またはＳｎ化合物が堆積するのを抑制し、また、堆積したＳｎおよび／またはＳｎ化合物を除去する。 （もっと読む）

【課題】 波長の極く短い紫外線を発生すること。
【解決手段】 本発明は、同心状に配置されたアノード（４６）とカソード（４４）とを含み、リチウム蒸気を使用し、ＥＵＶ放射線を発生するための高密度プラズマ焦点放射線源に関する。本発明は、ＥＵＶ放射線の発生の効率を高め、アノード（４６）およびカソード（４４）を保護し、冷却し、その寿命を長くし、放電チャンバ（３６）内のゴミおよび圧力の乱れから収集光学系を保護し、シールドすると共に、リチウムを放電チャンバ（３６）へ供給するための方法および装置も含む。
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【課題】冷却式放射線放出デバイスを提供する。
【解決手段】冷却式放射線放出デバイスはその内部でＸ線を発生させる筐体を有している。この筐体内には、陰極と、この陰極と対面すると共にシャフト（７）上で回転するように配置させた陽極と、固定の陽極シャフト支持体（１１）と、が存在している。この支持体は、陽極のシャフトをその内部に保持している保持用チェンバ（１２）を含んでいる。この管球の冷却では、陽極シャフトを通過するガリウム−インジウム−すず液体合金の流れを利用する。この合金は熱及び電気に対する伝導体である。これによって、ベアリングの潤滑及び陽極の電力供給と同時に陽極の冷却が提供される。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの第１の電極（１４）及び少し離れた少なくとも１つの第２の電極（１６）を有し、これらの電極は、電源（１８）へ電気的に接続されており、電極（１４，１６）の間の第１のガス放電（２２）の点火時に電流（Ｉ）を伝送し、その結果として、プラズマ（２４）が作用ガスにおいて生成されて、電極（１４，１６）の外側のチェンバー（３２）に立体角（３０）により入射される放射線（２８）、特に極紫外線及び／又は軟Ｘ線放射線を放射する電気ガス放電装置（１２）を動作させる方法に関する。電極（１４，１６）での浸食を防止するために、チェンバー（３２）における２次プラズマ（３４）の形成が装置（４２）によって抑制されることが提案される。
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電気的に操作された放電によって、リソグラフィー装置または測定装置に使用される、波長範囲が約1nmから約30nmの放射線（12）を発生させる方法および機器を提供する。少なくとも一つの第1の電極（14）および該第1の電極からある距離にある少なくとも一つの第2の電極（16）が使用され、前記電極（14、16）間には、少なくとも一つの作動ガス（22）が提供される。作動ガス（22）中ではプラズマが発生し、該プラズマの発生放射線（12）は、更なる用途のため、第1の開口（30）を通って進行し、少なくとも一つの前記電極（14、16）の少なくとも一つの領域（26）で、破片粒子（28）が発生する。破片粒子（28）を保持するため、当該方法では、少なくとも前記領域（26）は、前記破片粒子（28）の移動経路（32）の少なくとも大部分が、前記第1の開口（30）によって定形された領域の外側に延伸するように、前記第1の開口（30）に対して配置される。
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【課題】シールド構造体の冷却効率を上げることで装置の冷却能力を向上し、連続運転を可能とするとともに、長寿命のＸ線発生装置を提供すること。
【解決手段】陽極ターゲット３３と電子銃２０との間に配置されたシールド構造体４０は、電子ビームが通過する開口部４２を有するとともに、陽極ターゲット３３にて発生した電子を捕獲する本体４１と、本体４１内部に形成され、開口部４２に隣接する内周部に設けられるとともに冷却液循環系５０から冷却液が導入される冷却液導入口４６を有する内側流路４４と、内側流路４４の開口部４２側からみて外周側に仕切壁４３を介して設けられるとともに、内側流路４４を通過した冷却液が導入され、冷却液が冷却液循環系５０へ排出される冷却液排出口４７を有する外側流路４５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 通常状態（常温、常圧（大気圧）状態）で固体のターゲット物質を、発光領域（レーザ光照射領域）に、適切な密度、サイズで連続的または断続的に供給できるようにすること。
【解決手段】内部にプラズマ発光室Ａを形成する真空容器２と、前記真空容器２内のレーザ光照射位置Ａ１にレーザ光Ｌを集光させるレーザ光照射装置３と、前記真空容器２内のレーザ光照射位置Ａ１に液体ターゲットＴを吐出する液体ターゲット吐出ノズル４と、前記レーザ光照射位置Ａ１を挟んで前記液体ターゲット吐出ノズル４に対向して配置され且つ前記レーザ光照射位置Ａ１を通過して到達した液体ターゲットＴを回収するターゲット回収器５と、ターゲット物質の化合物または化合物塩が溶けた溶液により構成された前記液体ターゲットＴとを備えたレーザ生成プラズマ方式による光源装置１。 （もっと読む）

エッチング化合物を形成することになる材料を含み、選択中心波長付近の帯域内でＥＵＶ光を生成するＥＵＶプラズマ源材料を用いたＥＵＶ光生成装置であって、ＥＵＶプラズマ発生チャンバと、該チャンバ内に収容され、少なくとも１つの層を含む反射表面を有するＥＵＶ光集束器であって、少なくとも１つの層は、エッチング化合物を形成せず、及び／又は帯域内で反射表面の反射性を有意に低減しない化合物層を形成する材料を含むＥＵＶ光集束器と、チャンバ内に収容され、エッチャント供給源材料を含むエッチャント供給源ガスであって、プラズマ源材料がエッチャント供給源材料と共にエッチング化合物を形成し、該エッチング化合物が反射表面からのエッチング化合物のエッチングを可能にする蒸気圧を有するエッチャント供給源ガスと、を含むＥＵＶ光生成装置を含むことができる方法及び装置。エッチャント供給源材料はハロゲン又はハロゲン化合物を含むことができる。エッチャント供給源材料は、ＥＵＶ光、ＤＵＶ光、及び／又はプラズマ源材料のエッチングを促進するのに十分なエネルギーを伴うあらゆる励起エネルギーフォトンの存在下で、エッチングが促進されることに基づいて選択することができる。本装置は、反射表面の動作近傍においてエッチング促進プラズマをもたらすエッチング促進プラズマ発生器を更に含み、エッチャント供給源材料は、エッチングがエッチング促進プラズマによって促進されることに基づいて選択することができる。また、反射表面に向けてイオンを加速するイオン加速器があってもよい。イオンは、エッチャント供給源材料を含むことができる。この装置及び方法は、プラズマ源材料がエッチングされることになる光学素子を伴うＥＵＶ生成サブシステムの一部を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 現実の発光点の形状又は大きさに対して良好なデブリ除去を実現し、安定してＸ線（例えば、ＥＵＶ光）を効率的に発生させることができるデブリ除去装置、及びそれを有するＸ線発生装置並びに露光装置を提供する。
【解決手段】 プラズマを発生し、当該プラズマからＸ線を発生させるＸ線光源の前記Ｘ線の発光点で発生したデブリが光学系に到達することを防止するデブリ除去装置であって、前記デブリを吸着する複数の吸着面を含む吸着部を有し、当該吸着部は同一点を頂点とする複数の円錐を、前記同一点を中心とする球で切り出した形状を有し、前記複数の円錐のうち任意の隣接する２つの円錐の前記頂点からの広がり角の差は前記２つの円錐の内側の円錐の広がり角よりも大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 露光光の照度と角度分布の均一性を改善し、安定してＸ線（例えば、ＥＵＶ光）を発生させることができるＸ線発生装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】 プラズマを生成し、当該プラズマから放射されるＸ線を取り出すＸ線発生装置であって、前記プラズマを生成する手段と、前記Ｘ線を異なる光路で導光する複数の反射光学系とを有することを特徴とするＸ線発生装置を提供する。 （もっと読む）