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Fターム[4C092AB21]の内容

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Fターム[4C092AB21]に分類される特許

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【課題】安定してEUV光を生成する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、ターゲット物質にレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光源装置であって、前記ターゲット物質に照射する前記レーザ光を出力するレーザ装置と、前記レーザ光の波面を調節する波面調節器と、前記ターゲット物質で反射された前記レーザ光を結像させる結像光学系と、結像された像を撮像する像検出器と、前記像に基づいて前記波面調節器を制御する制御部と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】極端紫外光を放射するプラズマを生成するための理想的な面状放電を発生させることが可能なプラズマ光源を提供する。
【解決手段】プラズマ光源であって、互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極10と、各同軸状電極10に対して極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置30とを備え、各同軸状電極10は、単一の軸線Z−Z上に延びる棒状の中心電極12と、中心電極12の中心軸Zに対して軸対称な面上に設けられた複数の外部電極14と、中心電極12及び各外部電極14の間を絶縁する絶縁体16とを有し、中心電極12と各外部電極14との間隔Gは、相手の同軸状電極10に面する側からその反対側に向かうに連れて増加している。 (もっと読む)


【課題】透過型ターゲットで反射した電子を有効利用することでX線発生効率を向上させることができる透過型X線発生装置及びそれを用いたX線撮影装置を提供する。
【解決手段】周囲を電子通過路形成部材3で囲むことにより形成された電子通過路4を有し、電子通過路4を介して電子を透過型ターゲット1に照射してX線を発生させる透過型X線発生装置であって、電子通過路4内に電子の照射によりX線を生じる副X線発生面5を有し、副X線発生面5が、透過型ターゲット1の電子が照射される側の上方を覆うように張り出していることを特徴とする透過型X線発生装置。 (もっと読む)


【課題】短パルス化とマルチライン発振を同時に達成するEUV光源装置用ドライバーレーザを実現する。
【解決手段】このドライバーレーザは、(i)連続発振を行うレーザ共振器の内部においてレーザ光を短パルス化して、短パルス化されたレーザ光をレーザ共振器の外部に出力する短パルス化手段と、レーザ共振器におけるレーザ光の発振スペクトルのエネルギーピーク値を示す発振スペクトル成分の強度を抑制する波長依存透過率を有する光学素子と、短パルス化手段を50kHz〜100kHzの繰り返し周波数で活性化及び非活性化させる繰り返し手段とを有する短パルス・マルチライン発振COレーザ発振器と、(ii)該短パルス・マルチライン発振COレーザ発振器から出力される短パルス化されたレーザ光を入力し、該レーザ光を増幅して出力する少なくとも1つの増幅器とを具備する。 (もっと読む)


【課題】本発明のEUV光源装置は、EUV光以外の他の光を取り除き、EUV光のみを露光機に供給することができる。
【解決手段】EUV集光ミラー130の表面131には、Mo/Siの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝133が形成される。プラズマ201から放射された光202は、EUV集光ミラー130に入射し、反射または回折する。EUV反射光203(EUV回折光を含む)は、中間集光点IFに向けて進む。他の波長の光は、反射角度または回折角度が異なるため、IFから外れた位置に進む。IFには、開口部151を有するSPF用アパーチャ150が設けられている。従って、EUV光のみが開口部151を通過して露光機に供給され、他の光はアパーチャ150により遮光される。 (もっと読む)


【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めることができ、かつ熱負荷及び電極消耗を抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】所定の発光点1aでプラズマ光8を周期的に発光する複数のプラズマ光源10と、プラズマ光源の複数の発光点におけるプラズマ光を単一の集光点9に集光する集光装置40とを備える。 (もっと読む)


【課題】極端紫外光の生成において変換効率を向上させる。
【解決手段】極端紫外光生成方法は、チャンバ内にターゲット物質を供給するステップ(a)と、ターゲット物質にレーザビームを照射することにより、プラズマを生成して極端紫外光を生成するステップ(b)と、を備える。レーザビームの空間的な光強度分布は、ビーム軸の中心から所定距離の位置における光強度よりも低い光強度を有する低強度領域が前記ビーム軸の中心から前記所定距離の範囲内に存在する空間的な光強度分布を有してもよい。 (もっと読む)


【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めた場合でも熱負荷によるダメージを抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源システムを提供する。
【解決手段】内部が真空排気される真空チャンバー21内で、中心軸7を中心とする円周上に設置された複数の発光点1aでプラズマ光8を周期的に発光する複数のプラズマ光源10と、各発光点1aにおけるプラズマ光8を中心軸7上に位置する集光点9に向けて反射するミラー回転体40と、ミラー回転体40を中心軸7まわりに回転駆動する回転駆動装置48と、ミラー回転体40の内部を冷却する冷却装置50とを備える。 (もっと読む)


【課題】ドロップレットターゲットの位置安定性を改善する。
【解決手段】ターゲット供給装置は、少なくとも液体ターゲット物質を内部に貯蔵するターゲット貯蔵部に相当するリザーバ41と、前記液体ターゲット物質が通過するための貫通孔であるノズル43が形成され、その貫通孔(ノズル43)が前記ターゲット貯蔵部(リザーバ41)の内部と連通し、且つ、少なくとも前記貫通孔(ノズル43)の前記ターゲット貯蔵部と(リザーバ41)は反対側且つその貫通孔周囲の領域のターゲット放出部表面が、前記液体ターゲット物質に対する接触角が90度よりも大きい物質からなるターゲット放出部と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。
【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも1つのレーザビーム生成装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも1つのレーザビーム生成装置から出力される少なくとも1つのレーザビームを内部に導入するための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記少なくとも1つのレーザビームを前記所定の領域で集光させるレーザ集光光学系と、前記少なくとも1つのレーザビームの前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正する光学素子と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】小型で、レーザ光の増幅を効率良く行うことができ、増幅されたレーザ光の集光性に優るドライバレーザを提供する。
【解決手段】このドライバレーザは、発振によりレーザ光を生成するレーザ発振器と、レーザ発振器によって生成されるレーザ光を入力し、該レーザ光を増幅して出力する少なくとも1つのスラブ型レーザ増幅器とを具備し、少なくとも1つのスラブ型レーザ増幅器が、第1のウィンドウ及び第2のウィンドウを有し、炭酸ガス(CO)を含む気体で充たされたチャンバと、チャンバ内に配置され、高周波電圧が印加されることにより形成される放電領域において気体を励起してレーザ光を増幅する一対の電極と、チャンバ内に配置され、第1のウィンドウから入射するレーザ光を多重反射することにより放電領域内を伝播させて第2のウィンドウから出射させる複数のミラーを有する光学系とを含む。 (もっと読む)


【課題】高エネルギーの電子蓄積リングのような大がかりな装置を用いることなく、所定値以上のエネルギー領域において特性X線の無い連続X線を発生することのできるX線放射装置を提供する。
【解決手段】X線放射装置は、炭素系冷陰極電子源、チタンよりも原子番号の小さい導電性軽元素ターゲットからなり、冷陰極電子源から放出された電子を入射するターゲット、及び、該ターゲットで発生したX線以外のX線を遮蔽する遮蔽部材を具備し、電子の入射方向に対して前方に放出するX線を利用することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】気体放電プラズマからEUV光を発生させる方法と装置の提供。
【解決手段】電極2間に位置付けられ、少なくともバッファガス7が収容された放電空間6内の発光材料3が、気化用ビーム5の高エネルギーパルス放射により照射されることによって気化され、電極間に発生するパルス放電電流によってEUV光を発生させる放電プラズマに変換される。チャネル生成用ビーム4が、少なくとも2つの部分的ビームで供給され、ビーム焦点が電極2間でパルス同期した状態で重畳されるように成形、集光され、放電空間6に向けられ、導電放電チャネルは、少なくとも放電空間内に存在するバッファガス7の電離によって重畳領域に沿って生成され、チャネル生成用ビーム4の高エネルギーパルス放射は、それぞれの場合においてパルス放射電流によって放電チャネルが生成された後に、放電電流パルスがその最大値に到達するような方法でトリガされる。 (もっと読む)


【課題】 蛍光X線の発生効率を向上させることができるX線発生装置を提供する。
【解決手段】 X線発生装置1は、X線を出射するX線管3と、X線の照射によって蛍光X線を放出するターゲットTと、蛍光X線を一端5aから他端5bに伝播するキャピラリー管5を複数含むキャピラリー管集合体4と、を備えている。キャピラリー管集合体4は、キャピラリー管5の一端5aの集合によって形成された一端面4aを有している。ターゲットTは、キャピラリー管集合体4の一端面4aに膜状に配置されている。 (もっと読む)


【課題】ターゲット物質及びエネルギーの利用効率を大幅に高めることができ、かつデブリの発生とチャンバーの真空度悪化を抑制することができるLPP方式のEUV光源とその発生方法を提供する。
【解決手段】所定の真空環境に保持された真空チャンバー12と、真空チャンバー内にターゲット物質の極超音速定常ガスジェット1を回収可能に形成するガスジェット装置14と、極超音速定常ガスジェットにその流れと平行な磁場5を印加する磁場発生装置20と、極超音速定常ガスジェットにレーザー光3を集光して照射するレーザー装置16と、を備え、レーザー光の集光点2においてターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光4を発光させる。 (もっと読む)


【課題】電子ビームと自由電子レーザーとの逆コンプトン散乱の衝突点を増大させて高収量のX線を発生させ、準単色性を有するX線の発生することができるX線発生装置及び方法を実現する。
【解決手段】本発明の逆コンプトン散乱を用いたX線発生装置は、加速器と、加速器内で電子ビーム軌道を挟むと共に周期的な磁場を発生するアンジュレータと、光共振器を備え、電子バンチのバンチ間隔がアンジュレータの周期磁場の周期長の偶数倍であるように設定して、前記アンジュレータ内で、自由電子レーザー光と電子ビームとを衝突させてレーザー逆コンプトン散乱X線を発生させる。 (もっと読む)


【課題】有効波長領域(13.5nm近傍)のEUV光の発光源であるプラズマにプラズマ媒質を所望の時間、安定供給することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】中心電極12とガイド電極14の間に位置しその間を絶縁するリング状の絶縁体16が、プラズマ媒体(例えばLi)を主成分とする常温で固体の絶縁化合物(例えばLiH)からなる。中心電極12とガイド電極14間の面状放電2により、絶縁化合物(絶縁体16)の表面を気化してプラズマ媒体を同軸状電極間に供給し、次いで、1対の同軸状電極間に管状放電4を形成してプラズマ3を軸方向に封じ込める。 (もっと読む)


【課題】エネルギー変換効率を改善する。
【解決手段】ターゲット物質にプリパルスレーザ光L1を照射することによって拡散ターゲットPPを生成し、メインパルスレーザ光L2を該拡散ターゲットPPに照射することによってプラズマ化し、当該プラズマPRから放射された極端紫外光L3を出力する極端紫外光を生成する装置1は、プリパルスレーザ光L1の偏光状態を制御する第1偏光制御部10、または、メインパルスレーザ光L2の偏光状態を制御する第2偏光制御部610のいずれか一方の偏光制御部、または両方の偏光制御部を備える。 (もっと読む)


【課題】(1)EUV放射のプラズマ光を長時間安定させ(2)放射立体角が大きく(3)プラズマ媒体を連続供給し(4)出力を高めかつ放電ジッターを低減する(5)プラズマ中の不純物を防止して変換効率を高めるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】中心電極の軸方向内端部が対向配置された1対の同軸状電極10と、1対の同軸状電極内の温度及び圧力を保持する放電環境保持装置20と、各同軸状電極に放電電圧を印加する電圧印加装置30とを備える。絶縁部材16は、中心電極12の外面又はガイド電極14の内面に密着し、軸線Z−Zに対称に配置され、液体金属のプラズマ媒体を滲み出させる複数の溝を有している。溝を介して供給された液体金属のプラズマ媒体を放電開始ピンとする中心電極とガイド電極間の面状放電により、同軸状電極間に管状放電を形成してプラズマを軸方向に封じ込める。 (もっと読む)


【課題】EUV放射のためのプラズマ光を長時間(μsecオーダーで)安定して発生させることができ、アーク放電による中心電極先端部のエロージョンを低減してその寿命を大幅に延ばすことができ、かつプラズマ媒体の供給量を増加させてプラズマを高密度化できるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】対向配置された1対の同軸状電極10と放電環境保持装置20と電圧印加装置30とを備える。各同軸状電極10は、中心電極12と、中心電極の対向する先端部を囲むガイド電極14と、中心電極とガイド電極の間を絶縁する絶縁部材16とからなる。中心電極12は、先端部11を含む導電性多孔質部分12aを有し、この導電性多孔質部分を通してその内部から先端部11にプラズマ媒体6からなる液体金属を染み出すようになっている。 (もっと読む)


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