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Fターム[4D002AC07]の内容

廃ガス処理 (43,622) | 発生源 (3,432) | 化学工場 (260)

Fターム[4D002AC07]に分類される特許

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【課題】トルエン、キシレン及びベンゼンのような揮発性有機化合物を悪臭成分とする悪臭ガスに対しても優れた脱臭効果が簡便にかつ安定的に得られる方法及び装置を提供する。
【解決手段】微生物が対数的に増殖するように微生物液中の微生物の生菌数を制御しながら気液接触部2に対して微生物液を循環させて悪臭ガスと微生物液とを気液接触部2において気液接触させて、悪臭ガス中の悪臭成分を悪臭ガスから除去する。 (もっと読む)


【課題】脱臭効率を向上させることができるオゾン脱臭装置を提供する。
【解決手段】下部に設けられる混合室に臭気ガスを導入する吸引口と上部に該臭気ガスに含まれる成分を吸着処理したガスを排出する排気口を設ける洗浄塔と、前記混合室にオゾンを供給するオゾン発生手段と、前記洗浄塔内の混合室の上方に、順次配設される多孔体充填層、吸引手段および吸着層と、前記混合室において前記多孔体充填層の下方から洗浄水を散布する散水手段とを備えている。 (もっと読む)


本方法は、ガス流を処理するための減少装置の効率制御のために記述される、その中でガス流の一部は、ガス流からのペルフルオロ種の除去のためのプラズマ減少装置から分流され、及び真空ポンプのためのパージガスとして減少装置から上流のガス流に戻される。これにより減少装置のエネルギー要求及びパージガスを補うためにガス流に加えられる不活性ガスの量、の両方とも減らすことができる。 (もっと読む)


【課題】半導体製造工程またはLCD製造工程などから発生する排ガスに含まれた難分解性過フッ化化合物などを800℃の以下で除去することができるようにし、触媒の充填量に応じて大容量及び/または高濃度の過フッ化化合物を含有した排ガスを処理することができる、半導体製造工程から発生する排ガスの処理装置及び方法の提供。
【解決手段】本発明の排ガス処理装置は、排ガスが流入される排ガス流入口と、前記排ガス流入口に連設され、空気を供給する空気注入口と、前記排ガス流入口に連設され、排ガス流入口を介して流入された排ガスを吸着処理する吸着層が備えられた吸着反応部と、前記吸着反応部に連設され、前記吸着反応部から排出されて流入された排ガスを触媒処理する触媒層が備えられた触媒反応部と、前記触媒反応部に流入される排ガスの移動経路に連設され、水を供給する水注入口とを含む。 (もっと読む)


【課題】有機物を含有する天然かん水等の原水においても、有機物の除去を可能とし、ヨウ素採取の向上を図ることができるヨウ素採取方法及びその装置の提供をすることを目的とするものである。
【解決手段】天然かん水等の原水1からヨウ素を採取するヨウ素採取方法において、上記原水を原水酸化処理手段に導入するとともに、上記原水酸化処理手段にオゾン化ガスを添加して、上記原水のヨウ素酸化を行うことを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】連続使用が可能で、かつ効率的なガス処理方法及びその装置を提供する。
【解決手段】本発明のガス処理方法は、有機化合物を含む被処理ガスを反応器内に通じて、被処理ガスを反応器内に設けられた導電性吸着剤に接触させて、被処理ガスに含まれる有機化合物を導電性吸着剤に吸着させ、導電性吸着剤を第1電極として使用し、かつ第1電極と間隔をあけて接地電極となる第2電極を設け、第1電極に電圧を印加することにより第1及び第2電極間に放電を連続的又は間欠的に発生させて、導電性吸着剤に吸着させた有機化合物並びに反応器内で導電性吸着剤に吸着せずに存在している有機化合物を分解処理することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有害ガスの除去装置の効率を損なうことなく小型化すること。
【解決手段】本発明では、吸収塔の内部にガスの旋回流を形成させることで、吸収塔の高さを低く抑えながら気液接触が行われるガスの流路を長くすることが可能であり、このガスの旋回流に吸収液を吹き付けることによって効率良く有害ガスの除去を行うことができる。また、吸収塔の中央部に吸収塔と同軸をなす排気管を設けるようにすれば、旋回流の形成領域はリング状となるため、径の大きな旋回流が吸収塔の下方に至るまで維持されてガスの流路は長くなることから、より装置の小型化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】 揮発性有機化合物(以下VOCガスと称する。)を効率よく処理するシステムの役割を果たしつつ、内燃機関による発電および排熱回収を行なうことにより、エネルギー総合効率を高めたシステムを実現し、低ランニングコストでVOCガスを処理する方法を提供する。
【解決手段】 VOCガスを含む空気を回収し、内燃機関の燃焼用空気として用い処理を行うシステム。発電システムまたはコージェネレーションシステムと一体化したVOCガス処理システムである。また、VOCガス回収システムに濃縮装置を設ける。濃縮装置の脱着過程において内燃機関の排熱を入熱として利用するシステムである。これによりシステム全体の総合効率は高く低ランニングコストを実現できる。 (もっと読む)


【課題】大量のガスを安価な設備投資により回収と除去を同時に行うことができる大気放出ガスの回収と臭気成分の除去設備を提供する。
【解決手段】石油の積荷や揚荷時にタンカーやタンクから放出される置換ガス中に含まれる炭化水素や臭気成分を除去して大気放出するにおいて、タンカー等からの置換ガスを原油と気液接触させて炭化水素を除去する吸収塔16と、吸収塔16からの置換ガスを導入し、置換ガス中の炭化水素を吸着除去する炭化水素吸着塔17と、炭化水素吸着塔17からの置換ガスを導入し、置換ガス中の臭気成分を吸着除去する臭気吸着塔18とを備え、炭化水素及びその他の軽沸点成分ガスを吸収した原油を元の性状に戻し吸収油として循環使用可能としたものである。 (もっと読む)


【課題】排ガス中の塩化水素、硫黄酸化物などの酸性成分、集塵灰中の重金属類の除去、さらには排ガス中の重金属類やダイオキシン類の除去を同時に効率的に行う処理方法、さらに、炭酸水素ナトリウムの取り扱い上問題となっていた、炭酸水素ナトリウムの吸湿による流動性悪化を防止できる、排ガスの処理薬剤及び処理方法を提供する。
【解決手段】(ア)平均粒径が10〜100μmである炭酸水素ナトリウムと、(イ)平均粒径が1〜100μmのジチオカルバミン酸誘導体遷移金属塩を含有する薬剤であって、炭酸水素ナトリウム100質量部に対してジチオカルバミン酸誘導体遷移金属塩が0.1〜50質量部であり、吸湿度が80mg/g未満であることを特徴とする排ガス処理薬剤。この排ガス処理薬剤を使用した排ガス処理方法。 (もっと読む)


高温酸素流が、一酸化炭素を除去するために、一酸化炭素を含む触媒再生装置燃焼排ガス流中へ供給される。NOx前駆体はNに転換され、NOxが燃焼排ガス流中に存在する場合は、高温酸素流の添加がNOxの存在量を低下させる。
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【課題】操業中と停止中の炉が混在しても、ウエーハの気相エピタキシャル成長や炉のメンテナンスを安全かつ効率良く行うことができる気相エピタキシャル成長装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、ウエーハに気相エピタキシャル成長を施すための複数の反応炉と、廃棄ガスを処理するスクラバを備えた装置であって、複数の反応炉はそれぞれ、少なくとも、互いに独立した3つのガス排気ラインと接続され、第一のラインはスクラバに接続され廃棄ガスを処理するもので、第二のラインは反応炉内のエアーをパージするもので、第三のラインは反応炉内の圧力を開放するもので、第一および第二ガス排気ラインは排気および排気停止を切り替えるバルブを備え、反応炉ごとにいずれか一方のみを通してガスを排気するもので、第三ガス排気ラインは反応炉内の圧力が所定値以上に達したときに自動的に開となる圧抜き用弁を備えたものである気相エピタキシャル成長装置。 (もっと読む)


【課題】アルカリ賦活を安全に行うことができる排ガスの処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明のアルカリ賦活の排ガスの処理方法は、炭素材をアルカリ化合物で賦活したときに排出されるアルカリ化合物を含む排ガスの処理方法であって、加湿ガスを排ガスに混合して金属アルカリの水酸化物を生成し、水酸化物をトラップすることで分離除去する。本発明の排ガスの処理方法は、アルカリ賦活の排ガスからアルカリ化合物を簡単かつ安全に取り除くことができる効果を発揮し、本発明の処理方法を用いることでアルカリ賦活を安全に進行することができる。 (もっと読む)


【課題】
CF4 ,C26などのようにハロゲンとしてフッ素のみを含有するフッ素化合物を効率良く分解処理する。
【解決手段】
ハロゲンとしてフッ素のみを含有するフッ素化合物を含むガス流を、水蒸気の存在下でAlとNi,AlとZn,AlとTiからなる触媒のようにAlを含んでなる触媒と約200〜800℃で接触させて、前記ガス流中のフッ素をフッ化水素に転化する。
【効果】
ハロゲンとしてフッ素のみを含有するフッ素化合物を効率良く分解処理することができる。 (もっと読む)


【課題】被処理ガス6中に含まれる除去対象ガスを効率的に除去する。
【解決手段】水処理プロセスで生じた汚泥を脱水、乾燥した後炭化炉で炭化して得られた汚泥炭化物を吸着塔2に収納し、この吸着塔に除去対象ガスを含む被処理ガス6を通流させて、この被処理ガスが吸着塔内を通流する過程で被処理ガスに含まれる除去対象ガス成分を汚泥炭化物に吸着させて、除去対象ガス成分が除去された処理済ガス12を吸着塔から出力させる汚泥炭化物によるガス処理方法において、
吸着塔2に収納する汚泥炭化物にアルカリ性薬剤及び酸性薬剤の少なくともいずれか一方の薬剤を添着する。 (もっと読む)


気体のホルムアルデヒド含量を減らすための方法を提供し、それは、気体において含まれるホルムアルデヒドの少なくとも1部分がギ酸にまで酸化されるように、気体を、H2O2を備える塩基性の酸化性水溶液と接触させる工程を具える。このようにして、その処理前の気体と比べホルムアルデヒドにおける減少した含量を持つ気体、及びギ酸を備える溶液がそのように得られる。かかる処理は、特にホルムアルデヒドを含有する種々の種類の気体を処理するのに有用であることができる。
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【課題】吸着材からの排ガスの濃縮脱離において、非熱プラズマを印加する手段を備えることにより、追加的な装置を必要とせずに、常温常圧で処理することができ、ランニングコストの低廉化が可能である非熱プラズマによる排ガスの濃縮脱離装置を提供する。
【解決手段】本発明は、排ガスの出入り口を設けた容器と、前記容器内に充填された排ガスを吸着する吸着材と、1Hz〜1000HzのAC電源、パルス電源、矩形波電源又は三角波電流を持つ電源と、前記いずれかの電源からの放電により、前記吸着材に対して、常温常圧下において、電離気体を発生させる非熱プラズマ印加手段を備え、前記電離気体により、吸着材に吸着され濃縮された排ガスの脱離とともに吸着材の再生を行う。 (もっと読む)


ヒドロキシルアミンが、反応容器内において、水性媒体内で、不活性ガス(N2)の存在下、水素ガス(H2)を使用して一酸化炭素ガス(NO)を部分的に水素化することにより形成される。ヒドロキシルアミンの形成は、亜酸化窒素(N2O)を発生させる。このガスと水蒸気を反応器から排気ガス流内に流出させ、ガスの循環を可能とする。排気ガスからN2Oが除去され、可燃性が低減される。N2Oが除去されると、NO、H2及びN2が再循環され、そして反応器内で再使用され、追加的なヒドロキシルアミンが形成される。排気ガス流から除去されたN2Oは、高純度であり、そして、市販可能であり又は経済的に廃棄可能である。 (もっと読む)


【課題】揮発性有機化合物を安全に且つ高濃度で回収できるようにするとともに、被処理ガス系の圧力変動を防止しながら、連続的に有機化合物を分離して回収する。
【解決手段】吸着剤を担持した通気間隙を有する構造体が軸心周りに回転する吸着ロータ10に対し、揮発性有機化合物を含む気体を前記吸着ロータ10の軸心と平行に通気させる通気処理領域Z1を有し、前記揮発性有機化合物を前記吸着剤に吸着させる揮発性有機化合物の濃縮設備において、前記通気処理領域Z1の回転方向下流側に不活性ガスを通気させ、残留する前記気体を不活性ガスに置換する不活性ガス置換領域Z2と、前記不活性処理領域の下流側に加熱された不活性ガスを通気させ、前記構造体に残留する前記不活性ガス及び前記揮発性有機化合物を脱離させる脱離処理領域Z3と、を備える。 (もっと読む)


【課題】本発明では、バーナの構造を改善して半導体廃ガスの燃焼効率を向上させることができる半導体廃ガス処理用スクラバを提供するためのものである。
【解決手段】本発明は、半導体製造時に発生される廃ガスを高温の炎で燃焼した後、水で濾過及び捕集した後、大気中に排出する半導体廃ガス処理用スクラバが開示される。
一例として、半導体廃ガス、燃料及び酸素を供給する供給部と、供給部に連結されて、半導体廃ガスを炎で燃焼させるバーナと、バーナに結合されて半導体廃ガスの燃焼により生成されるパーティクルを落下させる燃焼チャンバーと、燃焼チャンバーの一方の側に設けられて、燃焼チャンバーから送られたパーティクルを水で吸着して落下させ、濾過されたガスを外部に排出する湿式タワーと、燃焼チャンバーと湿式タワーとに結合されて、燃焼チャンバー及び湿式タワーから落下するパーティクルを水で捕集する水槽タンクとからなる半導体廃ガス処理用スクラバが開示される。
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