【課題】ぺルフルオロ化合物-含有ガス・ストリーム、例えば、半導体製造処理ツールから排出流動体ストリームを処理する方法を提供する。
【解決手段】一実施形態では、窒素又はアルゴンのような、イオン化ガスからプラズマを生成するためにプラズマ・トーチが用いられる。このプラズマは、水蒸気のストリーム及び排出流動体ストリームの両方を受け容れる、反応室の中に注入される。イオン化ストリームは、ぺルフルオロ化合物との反応のために加熱Ｈ⁺及びＯＨ^-イオンに水蒸気を分解する。ぺルフルオロ化合物-含有ガス・ストリームを処理する装置は、源ガスからプラズマを生成する手段と、反応室の中にプラズマを注入する手段と、反応室へガス・ストリームを運ぶ手段と、及びプラズマにＨ⁺及びＯＨ^-イオンの源を運ぶ手段とを備えている。 （もっと読む）

本発明は、不純物を含有したガスを処理する方法であって、前記ガスを、実質的に大気圧で、高周波誘導プラズマ（ＲＦ−ＩＣＰ）放電に晒す方法に関する。 （もっと読む）

この発明の排ガス処理方法では、半導体装置の製造設備内で励起状態にある排ガスを処理部のプラズマ処理部に減圧下で導入し、プラズマ処理部で発生しているプラズマによって励起状態を維持したまま、反応除去部の反応器に導入し、反応器に充填されている粒状酸化カルシウムからなる反応除去剤と反応させて排ガス中の有害ガス成分を除去する。プラズマ処理部に酸素を供給してプラズマの存在下、有害ガス成分を酸化分解したうえ、反応除去剤と反応させてもよい。 （もっと読む）

プロセスは、化石燃料を燃焼する炉から排出されるＣＯ₂、ＳＯ₂、Ｎｏｘ及びＣＯ等の温室効果ガスを集める工程；ガスの浄化及びスクラブが行われる金属イオン封鎖装置にガスを供給する工程；スクラブされたガスを、ガスの体積を減少させるために圧縮機へ移送する工程；ガスを荷電成分にイオン化するプラズマアークにガスを導入する工程；自由電子源を供給する工程；自由電子を高濃度自由電子ゾーンで捕獲する工程；プラズマアークから架電成分を高濃度自由電子ゾーンに導入し、イオンを、炭素、酸素ガス、窒素、炭化水素、及び他の元素成分の元素フラグメントに転換する工程；炭素及び他の元素の元素フラグメントを集める工程；酸素ガスを炉へ送って、さらなる化石燃料を燃焼させる工程、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】効率的で経済的に分解生成物を処理できる、直接レーザー彫刻法によるフレキソ印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】直接レーザー彫刻法によりフレキソ印刷版を製造する方法であって、彫刻の過程で形成された粒子状および気体状の分解生成物が吸引装置によって採集され、分解生成物を有する排ガス流が、少なくとも１個の固体フィルターと少なくとも１個の酸化浄化部との組み合わせにより浄化されることを特徴とする方法である。 （もっと読む）

【課題】吸脱着処理した比較的低濃度（１０００ｐｐｍ以下）の塩化メチレンを主溶剤とする排気ガスを多量に、かつ、安価にしかも手軽に有害物質を生成することなく分解する方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも一種類のハロゲンを有する化合物を含有する排気ガスを放電により分解処理することを特徴とする排気ガスの処理方法。 （もっと読む）

【課題】 低温の燃焼排ガス、特にガスタービン排ガスについて、無触媒下で脱硝処理を行い、脱硝処理後の装置や処理を簡略化することができるとともに、圧力損失を小さくすることでガスタービン運転効率を向上させることができる脱硝方法を提供する。
【解決手段】 窒素酸化物を含む燃焼排ガスの脱硝方法において、該排ガスにアンモニアもしくはメタンを注入した後、特定温度域にて無触媒下、排ガスの脱硝処理を行う排ガス脱硝方法、並びに、燃料ガスを燃焼させて排ガスを排出するガスタービンの後流に、アンモニアもしくはメタン供給用の注入手段が設けられ、該注入手段の直後に脱硝装置が備えられている排ガス脱硝システム。 （もっと読む）