【課題】 ＰＦＣガス等を分解する能力が高い除害装置を提供すること。
【解決手段】 プラズマ式ガス除害装置１０は、プラズマ処理装置２０と、プラズマ処理装置２０に反応ガスを導入するガス導入口１１と、反応ガスをプラズマ処理して生成した除害ガスをプラズマ処理装置２０からスクラバ４０へ排出するガス排出口１３とを備える。プラズマ処理装置２０では、誘電体チューブ２３の内部空間Ｓに表面波励起プラズマを生成させ、常圧下でプラズマ除害処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 非平衡プラズマによるガス処理を効率的かつ低コストで行うことができ、しかも、消費電力が少なく、装置の小型化が可能なガス処理装置を提供する。
【解決手段】 本発明のガス処理装置１は、被処理ガスｇを非平衡プラズマ内にてプラズマ分解処理するプラズマ反応部２と、このプラズマ反応部２から排出される未分解のガス及び非平衡プラズマにより生成される副生成物を含むガスｇ’を光触媒により分解処理する光触媒反応部３とにより構成され、プラズマ反応部２は、棒状の接地電極１１及び誘電体１２と、円筒状の表面電極１３と、光触媒体１５とにより構成され、光触媒反応部３は、透明ガラスからなる筒状の容器３１と、この内部に充填された光触媒体３２と、容器３１の外側に設けられた光源３３とにより構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体プロセスチャンバから排出されるパーフルオロ化合物ガスを処理するための大気圧プラズマ除害装置を長期にわたって安定に駆動させること。
【解決手段】第１の半導体プロセスと第２の半導体プロセスが行われるプロセスチャンバ（１１）からの排ガス排出ライン系統を、第１の半導体プロセスからの排ガスを通過させるライン（Ｌ２）と第２の半導体プロセスからの排ガスを通過させるライン（Ｌ３）とに分け、第２の半導体プロセスからの排ガスライン（Ｌ３）に大気圧プラズマ除害装置（１５）を設け、その上流に、主として第２の半導体プロセスからの排ガス中に残留する第１の半導体プロセスからの排ガスを処理する乾式処理装置（１６）を設ける。 （もっと読む）

【課題】
本発明によれば、分解により弗化水素のような高腐食性を有する酸性ガスを生成する化合物量を測定し、酸性ガスを除去するための酸性ガス除去剤を酸性ガス処理装置に効率良く供給し、ランニングコストの低減を実現するシステムと方法を提供することができる。
【解決手段】
触媒式ＰＦＣ分解装置上流部にガス分析計を設置し、ＰＦＣ分解装置に流入するPFCs量を測定することにより、ＰＦＣ分解装置出口の高腐食性を有する弗化水素ガスを含む排ガス中の酸性ガス量を算出し、その算出結果から、効率良く酸性ガス除去剤を供給する排ガス処理システム。
余分な酸性ガス除去剤の使用，弗化水素除去により生成する廃棄物量を抑えることができ、ランニングコストの低減が可能である。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波プラズマを信頼性高く起動できるようにすること。
【解決手段】半導体製造プロセスツールからの排ガス流を処理するための装置が開示されている。この装置は不活性のイオン化可能なガスからグロー放電を発生させるためのプラズマトーチを含み、ガス流はプラズマを点弧するためのガス放電へ送られる。プラズマを持続させるよう、排ガス流に電磁波ソースによって電磁波が印加される。この装置は特に排ガス流内の過フッ素化化合物およびハイドロフルオロカーボン化合物を処理するのに特に適す。
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【課題】 ＰＦＣｓ等を含む大流量の排ガスを確実に且つ効率的に除害できると共に、プラズマジェットの出力を低減することが可能なプラズマ除害機を提供する。
【解決手段】 反応筒１８が二重管で構成されると共に、外管２２のプラズマジェットトーチ１２から最も離間した端部に排ガス導入口２６が設けられ、内管２４のプラズマジェットトーチ１２に最も近接した端部に排ガス送給口２８が設けられているので、反応筒１８が対向流式の熱交換器として機能し、プラズマジェットＰに送給する排ガスＦを十分に予熱できると共に、熱分解後の高温の処理済排ガスＦを冷却することができる。このため、プラズマジェットの出力を低減できると共に、大流量の排ガスを確実に且つ効率的に熱分解して除害することができ、更に熱分解後の処理済排ガスＦの冷却負担を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】エネルギー状態の高いプラズマを低電力で発生させることが可能なプラズマ発生電極を提供する。
【解決手段】電圧を印加することによりプラズマを発生することのできる少なくとも一組の陽極としての単位電極２及び陰極としての単位電極３を備えたプラズマ発生電極であって、陽極としての単位電極２及び陰極としての単位電極３が互いに対向配置されており、少なくとも陽極としての単位電極２が、板状のセラミック誘電体５と、セラミック誘電体５の内部に配設された導電膜６とを有するとともに、陰極としての単位電極３が、プラズマ発生過程に生じた陽イオン（一次粒子）が衝突した際に、受け取る陽イオンの数に対して５倍以上の数の二次電子を放出することが可能なプラズマ発生電極１。 （もっと読む）

【課題】アーク放電を発生させずに、大気圧下で効率良くプラズマを生成することができ、ガスの殺菌や改質等を行うことができるプラズマ生成装置を提供すること。
【解決手段】リング状または円筒状電極６と、針状電極７と、直流高電圧源８とを有し、リング状または円筒状電極６と針状電極７との間に直流高電圧源８による所定の電圧を印加することによって、リング状または円筒状電極６と針状電極７との間に放電を発生させ、該放電位置に作動ガスを通過させてプラズマを生成する。 （もっと読む）

【課題】環境中における窒素酸化物・硫黄酸化物を効率よく、かつ、低コストで除去し、副生成物の発生を抑制することの可能な、窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置を提供することを目的とする。
【解決手段】排ガス中に含まれる窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置において、排ガスに大気圧低温非平衡プラズマを生成する乾式の工程を備え、低温非平衡プラズマの生成によって、ガス中のＮＯが酸化されてＮＯ_２が最大値となる値を基準値として印加電圧を設定し、ガス中に含まれるＮＯを効率的にＮＯ_２に酸化させた後、排ガスを還元剤溶液と反応させる湿式の工程を備え、排ガス中の窒素酸化物・硫黄酸化物を除去する窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置である。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスの間隔を従来と比べて長くすることができるプラズマ分解装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマ分解装置は、被処理ガスの流路中に該流路と交わる方向に延伸し、上流から順に複数設けられたプラズマ発生用の電極板４４，４８と、処理ガスと反応する添加ガスを、互いに異なる電極板４４，４８の相互間に供給する複数の添加ガス供給手段５０と、複数の添加ガス供給手段５０それぞれ毎に設けられた複数のバルブ５２と、複数のバルブ５２それぞれを制御する制御部６０とを具備する （もっと読む）

【課題】 排ガス中の有害ガスの分解処理に、非熱プラズマを低電圧で発生させて省エネルギー化できる効率的な排ガス処理装置及びその処理方法を提供する。
【解決手段】 排ガスの出入り口を設けた非熱プラズマ反応器と、その反応器の内部に配置された線状導電性物質と、その反応器内に非熱プラズマを発生させる手段とを備えた排ガス処理装置である。その線状導電性物質としては、アスペクト比が５以上である金属線、カーボンナノチューブ、半導体細線、及びそれらのウィスカーまたはナノワイアから選ばれる１種以上を用いることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】有害物質や臭気物質を含む排ガスを効率よく処理できる空間全体にわたって均一で安定した放電プラズマを発生させることが可能で、かつ、製作が容易な放電ガス処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】有害物質や悪臭物質を含む排ガスをパルスコロナ放電によって処理する放電ガス処理装置であって、排ガスを通す放電室を設け、該放電室内に放電電極と接地電極を備え、この両電極間にパルス電圧を印加してパルスコロナ放電を形成せしめるパルス電源を放電室外に備える放電ガス処理装置において、排ガスの流れ方向に対して軸を鉛直方向とした金属丸棒の接地電極を正六角形ハニカム体の骨格柱を形成するように、正六角形状に複数立柱させ、形成される正六角形の中心位置にワイヤ型放電電極を排ガスの流れ方向に対して鉛直方向に配置させた。 （もっと読む）

【課題】環境中における窒素酸化物・硫黄酸化物を効率よく、かつ、低コストで除去し、副生成物の発生を抑制することの可能な、窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置を提供することを目的とする。
【解決手段】排ガス中に含まれる窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置において、排ガスに大気圧低温非平衡プラズマを生成する乾式の工程を備え、低温非平衡プラズマの生成によって、ガス中のＮＯが酸化されてＮＯ_２が最大値となる値を基準値として印加電圧を設定し、ガス中に含まれるＮＯを効率的にＮＯ_２に酸化させた後、排ガスを還元剤溶液と反応させる湿式の工程を備え、排ガス中の窒素酸化物・硫黄酸化物を除去する窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置である。 （もっと読む）

【課題】環境中における窒素酸化物・硫黄酸化物を効率よく、かつ、低コストで除去し、副生成物の発生を抑制することの可能な、窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置を提供することを目的とする。
【解決手段】排ガス中に含まれる窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置において、排ガスに大気圧低温非平衡プラズマを生成する乾式の工程を備え、低温非平衡プラズマの生成によって、ガス中のＮＯが酸化されてＮＯ_２が最大値となる値を基準値として印加電圧を設定し、ガス中に含まれるＮＯを効率的にＮＯ_２に酸化させた後、排ガスを還元剤溶液と反応させる湿式の工程を備え、排ガス中の窒素酸化物・硫黄酸化物を除去する窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置である。 （もっと読む）

【課題】 厨房空間から発生するオイルミスト等の発生量に対してスクラバー部の散水量が過剰となることを回避できる換気システムを提供する。
【解決手段】 厨房空間（1）の調理機器（2a,2b）には、それぞれ温度センサ（5a,5b）が設けられる。調理機器（2a,2b）が稼働状態となると、温度センサ（5a,5b）の検出値に基づいてスクラバー部（40）の散水量が増加される。一方、調理機器（2a,2b）が停止状態となると、温度センサ（5a,5b）の検出値の基づいてスクラバー部（40）の散水量が低減される。 （もっと読む）

【課題】 空気浄化装置（10）において、疎水性の臭気成分（S1）を含む被処理空気を十分に処理できるようにするとともに、装置（10）の大型化やコストアップを抑えるようにする。
【解決手段】 疎水性の臭気成分（S1）を含む被処理空気を処理する空気浄化装置（10）において、臭気成分（S1）を親水性に状態変化させるストリーマ放電部（20）と、このストリーマ放電部（20）に対して被処理空気の流れ方向下流側に配置され、ストリーマ放電部（20）で親水性に状態変化した臭気成分（S2）を水溶させて捕捉する臭気捕捉部（スクラバー部（40））とを備えた構成にする。 （もっと読む）

【課題】 ＰＦＣs等を含む排ガスを確実に除害できると共に、長期間安定して連続運転することができ、且つエネルギ消費量を低減することが可能なプラズマ除害機の制御方法とその装置を提供する。
【解決手段】 反応筒18内の温度を検出すると共にこの温度検出値に応じてプラズマジェットトーチ12に送給する作動ガスGの量または該トーチ12に供給する電力量の少なくとも一方を増減させて反応筒18内の温度が所定の値となるようにプラズマジェットPの出力を制御する。これにより、反応筒18内の温度が難分解性のパーフルオロカーボンを容易に熱分解できる所定の温度となるように設定すれば、あらゆる種類のＰＦＣs等を反応筒18内にて確実に除害することができると共に、プラズマジェットトーチ12や反応筒18が超高温の熱に定常的に曝されて損傷するのを極力遅延させることができる。 （もっと読む）

例えば、内燃機関及び外部燃焼装置における燃焼効率に関係する方法が開示される。開示されている方法による燃焼工程は、燃料を燃焼帯３２０に供給し、燃焼用酸素を燃焼帯３２０に供給し、燃焼帯３２０内の燃料を燃焼させ、燃焼帯３２０から排気ガスの帰還流（ＥＧＲ）を通し、処理帯内で独立に発生された電界及び磁界に同時に曝すことにより燃料、燃焼用酸素及び排気ガスのうちの少なくとも１つを処理することを含む。上記の方法に関係する装置も開示される。
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【課題】 高電圧の作用により排ガスを浄化する排ガス浄化装置において、ＰＭの堆積に起因する電極間の漏電を抑制する。
【解決手段】 複数の内部電極５を互いに電気的に結合する導電性フレーム８を支持する絶縁部材９が、排気経路を画成するケース２ａ，２ｂに支持されているので、ＰＭが付着しやすい排気流路の中央を避けるように絶縁部材９を配置でき、絶縁部材９へのＰＭの堆積に起因する電極間の漏電を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 除害装置の排ガス分解能が低い場合でも、十分な除害効果を得ることができる排ガスの除害方法及びその除害システム、電子デバイスの製造システムを提供する。
【解決手段】 ドライエッチング装置３０から排出される排ガスを除害装置１を用いて除害処理する方法であって、ドライエッチング装置３０から排出された排ガスを除害装置１に導入して除害処理する。次に、除害装置１で除害処理した後の排ガスを当該除害装置１から排出し、排出した排ガスを除害装置１に再び導入して除害処理する。これにより、除害装置１の排ガス分解能が低い場合でも、除害システム１０全体で排ガスの分解率を高めることができる。 （もっと読む）