【課題】 光学機能層の層厚分布が一定で、反射防止性能に優れ、耐湿性及び耐候性に優れた反射防止フィルムを製造する。
【解決手段】 透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも１層の光学機能層を塗設する反射防止フィルムの製造方法において、前記光学機能層の少なくとも１層を、（１）熱及び／又は電離放射線硬化性化合物、無機微粒子及び有機溶媒を含有し、固形分濃度が３〜１５質量％で、２５℃における粘度が０．５〜３．５ｍＰａ・ｓの塗布組成物を、ウェット塗布量２．５〜５ｍｌ／ｍ²で塗布する工程、及び（２）乾燥温度１５℃以上３５℃未満で、乾燥速度を０．０５〜１．０ｇ／ｍ²・secとして乾燥する乾燥工程と、乾燥温度５０℃以上１３０℃以下で乾燥する乾燥工程とを含む乾燥工程を含んで製造することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一般に、スピネル結晶充填剤に有用な、ポリイミドベースマトリックス中に分散されているポリイミド複合体であって、０．０５と０．６０ミクロン^-1の間およびこれらの値を含む可視−赤外線吸光係数を有する複合体を提供すること。
【解決手段】そこから形成された複合体ポリイミドは、典型的な場合、ポリイミド基板に隣接した微細な導電性経路を有する回路を作製するのに使用される。これらの微細な導電性経路は、典型的な場合、無電解金属メッキステップを使用して、基板上に形成される。まず、ポリイミド複合体の表面を、典型的な場合にはレーザ光線を使用して光活性化し、次いで光活性化した部分をメッキして、細いラインまたは経路を被膜表面に形成する。 （もっと読む）

熱可塑性樹脂で被覆された金属、セラミックおよびガラスの物体は、金属、セラミックおよびガラスの物体を提供し、第１の熱可塑性樹脂を被覆されたまたは被覆されていない物体の基材の表面に含む被覆材料の水溶液、懸濁液および／または分散液を浸漬、噴霧またはフロー被覆により塗布し、第１の密着している膜を形成するために物体を浸漬、噴霧、フロー被覆から引き出し、浸漬、噴霧またはフロー被覆に起因した余分の材料を除去し、そして、第１の膜を形成するために第１の膜が実質的に乾燥されるまで硬化および／または乾燥する処理により製造される。第１の熱可塑性樹脂は熱可塑性エポキシ樹脂を含む。同じまたは異なる組成の付加的な被覆は、本発明の処理のステップの連続反復により第１の被覆の上に塗布され得る。
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【課題】水系中塗り塗料と水系上塗り塗料とをウェットオンウェットで塗装したのちこれらを同時に硬化させる場合に中塗り塗膜層と上塗り塗膜層との混層を防止して上塗り塗膜の平滑性を確保できる塗装方法を提供する。
【解決手段】被塗物に中塗り塗料を塗装する第１中塗り工程６と、被塗物を加熱して第１中塗り工程で形成された第１中塗り塗膜層に含まれた水分を蒸発させる第１プレヒート工程７と、第１プレヒート工程を経た被塗物に中塗り塗料を塗装する第２中塗り工程８と、被塗物を加熱して第１中塗り工程で形成された第１中塗り塗膜層及び第２中塗り工程で形成された第２中塗り塗膜層に含まれた水分を蒸発させる第２プレヒート工程９と、第２プレヒート工程を経た被塗物に上塗り塗料を塗装する上塗り工程１０，１１と、を有する。 （もっと読む）

【課題】波長の異なる３種類の光線、可視光線と紫外線と赤外線に応じて、それぞれ別異の色相に自ら３変化して高輝度に発光（発色）する塗料・インクと、その使用方法を提供する。
【解決手段】Ｒ_ｘＧｄ_１−ｘＶＯ_４なる化学式で示され、０．０１≦x≦０．５であり、当該Ｒが、Ｎｄ、Ｅｕ、Ｅｒ、Ｙから選ばれる少なくとも１種の希土類元素である単結晶体又は粉末で構成された変色体が、透明な溶剤系塗料又は水系塗料又は粉体系塗料に投入され、前記塗料において分散均一化されて成り、可視光線又は紫外線又は赤外線の照射に応じてそれぞれ変色可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】 機能性膜のパターンを形成する際、線幅や形状などについて精度よく形成可能なパターン形成方法、および機能性膜を提供すること。
【解決手段】 機能性膜の形成に先立って、設計パターンを副領域に分割し、且つ、当該複数の副領域を互いに隣接しない複数のグループに分類する。まず、第１のグループについて描画、乾燥を行って配線膜３８ａ，３８ｂ，３８ｄを形成した後、第２のグループについて描画を行い、液状体のパターン３３ｃ，３３ｅ，３３ｆ，３３ｇを形成する。その後乾燥工程を経て、一体化された機能性膜が完成する。 （もっと読む）

【課題】印刷性能が良好で尚かつ、均一な塗布面が得られるネガ型感光性平版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、側鎖に重合性二重結合を有し且つカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として有するポリマー及び重合開始剤を含有する感光層を設けたネガ型感光性平版印刷版の製造方法において、前記感光層の塗工液が有機溶剤として沸点が１１０℃未満の有機溶剤を全有機溶剤の５０質量％以上含有し、前記感光層塗工液の塗布工程が下記条件式１を満足し、かつ乾燥工程が下記条件式２を満足する。
Ｔ１−Ｔ２＞−１８（℃） 式１
Ｔ１−Ｔ３＜３０（℃） 式２
式中、Ｔ１は感光層の表面温度（℃）を表し、Ｔ２は塗布工程の露点（℃）を表し、Ｔ３は沸点が１１０℃未満の有機溶剤の平均的な沸点を表す。 （もっと読む）

【課題】 被塗装物の既設又は新設の別を問わず、当該被塗装物の補修作業を簡素に行うことができる被塗装物の補修部材、保護層および補修方法を提供すること。
【解決手段】 ガラス繊維集合体３，３に塗布されたプライマ４，４が硬化すると、ガラス繊維集合体３，３が強化材２の複数の網目を通して相互に接合され、強化材２をガラス繊維集合体３，３間に狭装させた補修材１が製造される。この補修材１は、その内側及び外側面に防水ポリマー系樹脂３１が塗布されて配管２０の外周面に当接される。塗布された防水ポリマー系樹脂３１はガラス繊維集合体３，３内へそれぞれ含浸され、強化材２の網目を通じて補修材１の厚さ方向全体に浸透させられる。その後、所定時間の自然乾燥がなされて、防水ポリマー系樹脂３１が硬化すると、配管２０の外周面に一体的な外周保護層３０が形成される。 （もっと読む）

【課題】 機能性膜のパターンを形成する際、線幅や形状などについて精度よく形成可能なパターン形成方法、および機能性膜を提供すること。
【解決手段】 機能性膜の形成に先立って、設計パターンを副領域に分割し、当該副領域の境界線を描くように第１の液状体を配置し、中間乾燥工程を経て、線状膜３８ｂ，３８ｃ，３８ｄを形成する。次いで、副領域を描くように第２の液状体を配置して、第２の液状体のパターン３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄを形成し、本乾燥工程を経て、一体化された機能性膜が完成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、金属粉体の組み合わせおよびこれらの金属粉体の混合比率により、独特の表面形状および色調や輝き等を出すことができる金属粉体塗装方法および金属粉体塗装部材に関するものである。
【解決手段】 本発明の金属粉体塗装方法は、下地材上に３ｍｍないし０．０１ｍｍからなる粒径の金属粉体の混合物を塗布することにより下地材を覆っている。前記塗布工程は、少なくとも１種類の前記金属粉体に合成樹脂部材が混合されている。前記合成樹脂部材は、前記３ｍｍないし０．０１ｍｍからなる粒径の金属粉体の周りに付着することで、金属粉体を互いに接着するとともに、下地材にも接着する。その後、乾燥工程は、前記合成樹脂部材を乾燥することで、前記金属粉体、合成樹脂部材を前記下地材上により強固に接着させる。 （もっと読む）

本発明は、一方では、コーティングがプラズマ重合プロセスによって提供される開放気泡構造を有する製品の表面にその構造全体にわたってコーティングを提供する方法に関する。上記発泡体は、特定の方法に関して、上記プラズマ重合プロセス用に調製されるべきである。重合は、定性的および均質に、開放気泡および半開放気泡構造中で行われる。他方では、本発明は、ポリマー構造全体にわたって、開放気泡ポリマーの表面の疎水性物質、疎油性物質、難燃性および／またはバリヤコーティングとしての前述の方法の使用方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 非接触方式にてソルダーレジストを印刷し、品質の安定化と共に生産効率を向上させるプリント基板製造方法及びソルダーレジスト印刷装置、半導体装置を提供する。
【解決手段】 ソルダーレジスト印刷工程（Ｓ４）において、ロード工程（Ｓ４１）は、上記配線パターン及び基準マークを設けたテープ基材を上記印刷機構へ順次繰り出す。位置決め工程（Ｓ４２）は、印刷機構におけるステージ上で基準マークの認識によりテープ基材に対する印刷ヘッドの位置決めをする。次いで印刷機構の印刷ヘッドからピエゾジェット方式でレジスト剤を吐出制御し、配線パターンの所定領域を含むテープ基材上にソルダーレジストパターンを印刷する（Ｓ４２）。ソルダーレジストパターンを印刷する工程は、テープ基材を使用する製品の情報、例えば設計時のテープ図面に応じて変換された印刷データを取得する。印刷ヘッドはこの印刷データに従って制御される。なお、吐出制御されるレジスト剤は、粘度を安定化させるための温度調整がなされる。 （もっと読む）

【課題】 潤滑被膜が表面に形成された塑性加工用素材の製造コストの低減を図ることにある。
【解決手段】 この製造方法は、塑性加工時の焼き付きを防止するための潤滑被膜が表面に形成された塑性加工用素材の製造方法である。この製造方法は、素材を前加工するための第１工程と、素材の表面を予備加熱するための第２工程と、素材の表面に潤滑剤を塗布するための第３工程と、素材を加熱することで、塗布された潤滑剤を乾燥させるとともに素材の表面に潤滑被膜を形成させるための第４工程とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、インク吸収性を損なうことなく、皮膜耐久性及び耐擦過性に優れたインクジェット記録媒体とその製造方法及びそれを用いた記録方法を提供することにある。
【解決手段】 支持体上に、少なくとも無機微粒子、親水性樹脂及び水不溶性樹脂を含有する多孔質性のインク吸収層を有するインクジェット記録媒体において、該親水性樹脂の少なくとも１種が、アセトアセチル基と反応する架橋剤により架橋されたアセトアセチル変性ポリビニルアルコールであることを特徴とするインクジェット記録媒体。 （もっと読む）

【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ′は炭素数１〜３のアルキル基、ｍは０、１または２を意味する）で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する１価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【課題】基板表面における膜形成において、生産性を低下させることなく、パーティクルの発生を防止できる成膜方法および成膜装置、かかる成膜方法により形成された膜を提供すること。
【解決手段】成膜装置１は、液状の膜形成材料が塗布されるウエハＷを回転支持するウエハ支持部２と、膜形成材料をウエハＷに塗布法により供給して膜を形成する膜形成材料供給部４と、ウエハＷの一方の面の縁部および他方の面の縁部に撥液材料を供給して撥液膜を形成する撥液膜形成部５とを備え、ウエハＷの一方の面に液状の膜形成材料を膜形成材料供給部４から供給するのに先立って、ウエハＷの一方の面の縁部および他方の面の縁部に、撥液材料を撥液膜形成部５から供給して撥液膜を形成することにより、ウエハＷの他方の面側に前記膜形成材料が浸入するのを防止するものである。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明は、金属表面での酸化皮膜発生に対して保護層を作製する剤において、該剤がバインダーとして少なくとも１種類のシランの加水分解生成物／縮合体又はシリコーン樹脂バインダー並びに更に少なくとも１種類の金属充填剤を含有することを特徴とする、上記剤に関する。 （もっと読む）

【課題】 焼成温度に拘らず、つまり焼成温度を低温に設定した場合にも、膜表面の平坦性及び膜の緻密性が良好で、所望の膜特性を十分に確保することが可能な機能膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の機能膜の製造方法は、融点が９００℃以上で、且つ粒径を３０ｎｍ〜１５０ｎｍとした場合の融点が２５５℃以上である金属および金属酸化物材料を溶質として含む第１インクを基板Ｐ上に配置する工程と、配置した第１インクの上に、金属有機塩を溶質として含む第２インクＸ２を配置する工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ′は炭素数１〜３のアルキル基、ｍは０、１または２を意味する）で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する１価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【課題】 薄膜塗布基板の製造過程において、乾燥工程では、平坦性の高い基板を得ることができるように、基板上の塗布膜を均一な速度で蒸発させているにもかかわらず、基板上に液体材料を塗布して薄膜を形成する工程から塗布された液体材料の薄膜を乾燥させる工程への搬送中に液体材料が自然乾燥してしまうことによって、乾燥後の基板の平坦性が低下してしまう。
【解決手段】 薄膜塗布基板の製造過程において、基板上に液体材料を塗布して薄膜を形成する工程から、塗布された液体材料の薄膜を乾燥させる工程に、基板を、薄膜の乾燥を抑制する雰囲気下に保持して搬送する方法およびそのための装置が提供される。 （もっと読む）