【課題】従来のようなプライマ塗装を施す必要がなく、樹脂ガラス用高分子基板とハードコート層との付着性が十分に高く、しかも樹脂ガラス用高分子基板の紫外線による劣化が十分に防止できる高度な耐候性を発揮できるとともに優れた耐擦傷性を発揮することが可能な樹脂ガラス用積層体、並びに、その樹脂ガラス用積層体を効率よく且つ確実に製造することが可能な樹脂ガラス用積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】樹脂ガラス用高分子基板と、前記樹脂ガラス用高分子基板上にアルミニウム、ケイ素、チタン、アルミニウム化合物、ケイ素化合物及びチタン化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の微粒子を付着してなる無機層と、前記無機層を介して前記樹脂ガラス用高分子基板に積層されたアルコキシシラン含有ハードコート層とを備えることを特徴とする樹脂ガラス用積層体。 （もっと読む）

【課題】紫外線照射による硬化時のアセトンなどの染み出しがなく、感光体への汚染を防止することができる現像ローラの製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂基体（２、３）に紫外線硬化型樹脂３ａを塗布し、紫外線を照射することにより硬化を行わせてなる現像ローラ１の製造方法において、紫外線照射による硬化の後、８０℃〜１００℃、２〜４時間の条件で熱処理を行う。好ましくは、紫外線硬化型樹脂を塗布するときに、雰囲気を窒素雰囲気とする。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性に優れたポリオルガノシロキサン膜の性質を維持しつつ、例えば、カップリング剤に対する膜表面の反応性を効率よく高める表面改質方法、かかるポリオルガノシロキサン膜を備える膜付基板を効率よく製造する膜付基板の製造方法、かかる方法により製造された膜付基板を備える液滴吐出ヘッド、およびかかる液滴吐出ヘッドを備える液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】本発明の表面改質方法は、ポリオルガノシロキサン膜３０の上面付近に存在するポリオルガノシロキサンを、選択的にＳｉＯ_２に変化させる方法であり、基板２上にポリオルガノシロキサン膜３０を用意する第１の工程と、水蒸気ガス分圧が常温で０．２〜０．９ｋＰａの雰囲気中で、ポリオルガノシロキサン膜３０の上面側から紫外線を照射する第２の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】低光沢で優れた耐汚染性および耐クラック性を有する上塗り塗膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る光硬化性塗料組成物からなる塗膜の硬化方法は、基材上に（Ａ）光硬化性樹脂と（Ｂ）光重合開始剤と（Ｃ）反応性希釈剤とを含む光硬化性塗料組成物を塗布し、該組成物からなる塗膜を形成する塗布工程、未硬化の塗膜を、メタルハライドランプより発する長波長の紫外線に暴露してセミキュアーさせる第１照射工程、および半硬化の塗膜を、不活性ガス雰囲気下で高圧水銀ランプより発する紫外線に暴露してフルキュアーさせる第２照射工程をこの順に含む。上記（Ｃ）成分にはジメチロールトリシクロデカンジアクリレートを、光重合性樹脂（Ａ）１００重量部に対して３０〜２００重量部の割合で配合することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ガスの消費量を低減できる紫外線塗料硬化設備及び塗料硬化方法を提供すること。
【解決手段】紫外線塗料硬化設備１１は、ワークＷに紫外線を照射して紫外線硬化型塗料を硬化させる。紫外線塗料硬化設備１１は、搬送手段１４、光源１３、供給手段４０及び整流手段５１を備える。搬送手段１４は、ワーク出入口１２ｃを介してワークＷを処理槽１２内に搬入し、ワーク出入口１２ｄを介して処理槽１２外にワークＷを搬出する。光源１３は、処理槽１２内のワークＷに紫外線を照射する。供給手段４０は、ヘリウムガスを処理槽１２内に供給するガス供給口４１を有する。整流手段５１は、ガス供給口４１よりも下方に配置され、ヘリウムガスの通過時に流れを整えて微小風速のダウンフローを生じさせる。 （もっと読む）

【課題】優れたガスバリア性を有しつつ透明性を備え、耐衝撃性にも優れる、ガスバリア性積層フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に無機酸化物の蒸着膜が設けられ、その蒸着膜上にガスバリア性塗布膜が設けられてなるガスバリア性積層フィルムであって、基材の、蒸着膜が形成される面側には、前処理またはプライマーコート処理が施されてなり、前記ガスバリア性塗布膜は、前記無機酸化物膜上にガスバリア性塗工液を塗布した後、加熱することにより形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸素による硬化阻害およびそれによる塗膜の耐汚染性等の低下を抑制しうる紫外線硬化型塗料組成物の硬化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基材上に（Ａ）光硬化性樹脂と（Ｂ）光重合開始剤とを含む光硬化性塗料組成物を塗布し、不活性ガス雰囲気下で無電極ＵＶランプを照射することにより硬化させる。不活性ガス中の酸素濃度が０．５体積％を超え、２〜４体積％と高くてもよい。 （もっと読む）

【課題】十分な耐擦傷性と脆性を両立したハードコート層を有する透明フィルムおよび十分な反射防止性能を有しながら耐擦傷性がより向上した透明フィルムを提供すること。また、そのような透明フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明支持体上に少なくともハードコート層を有する透明フィルムであって、該ハードコート層が、電離放射線硬化性化合物および少なくとも一種の活性ハロゲン化合物を含む塗布組成物を透明支持体上に塗布および乾燥した後、電離放射線照射によって硬化させてなる層であることを特徴とする透明フィルム。 （もっと読む）

【課題】製造工程が複雑になることなく、ブロッキングやエフロレッセンスの発生を防止しながら、インクジェット塗装により印刷することができる建築板の製造方法を提供する。
【解決手段】水硬性材料を含む無機質基板１の表面にエフロ・ブロッキング防止塗料を塗布した後、オートクレーブ養生することにより無機質基板１の表面にエフロ・ブロッキング防止塗料の塗膜を形成する。この塗膜を受理層２としてその表面にインクジェット塗装する。エフロ・ブロッキング防止塗料の塗膜と受理層２とを別々に形成する必要が無くて層構成を簡略化することができる。 （もっと読む）

【課題】シート上に塗布された紫外線硬化樹脂層を効率良く硬化し、平面性に優れた紫外線硬化樹脂層付きシートを得る紫外線硬化樹脂層の硬化方法及び紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】紫外線硬化樹脂層が塗布されたシートＦをバックロール１３に巻き回し、該巻き回した部分にバックロール表面近傍に設置された窒素ガスパージボックス１より窒素ガスパージしながら紫外線を照射し硬化する紫外線硬化樹脂層の硬化方法において、該窒素ガスパージボックス１のサイドプレートの縁の形状がバックロール１３の中心に対して円弧状と非円弧状とで形成する。 （もっと読む）

【課題】膜厚ムラや塗布ムラの無い平坦な膜を形成することが可能な膜形成方法及び電気
光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基体上の有機ＥＬ素子内に親液性領域７０及び撥液性領域８０のパターンを
形成する工程の後、不活性気体の雰囲気において、親液性領域に紫外線を照射する工程を
有しているので、撥液性領域を形成する際、親液性領域の一部に撥液性のフッ素原子が結
合した場合であっても、紫外線によって当該フッ素原子を除去することができる。これに
より、親液性領域の親液性が低下することは無く、良好な状態の正孔注入層を形成するこ
とが可能となる。 （もっと読む）

【課題】塗布膜を高速度で硬化させ、塗布膜の品質を向上させるとともに、生産性を大幅に向上させ、また、不活性ガス供給量を低減することができる塗布膜の硬化装置及び方法を提供する。
【解決手段】帯状の可撓性支持体１６の裏面をローラ部材５１に巻き掛け角度αで巻き掛けながら走行させて、可撓性支持体の表面に形成された活性線硬化樹脂よりなる塗布膜に活性線照射手段５４により活性線を照射して塗布膜を硬化させる。可撓性支持体の幅方向の略全長部分と、ローラ部材の円周方向の所定角度β部分とを、角度βが角度αより小さくかつ角度βが角度αの内側になるように覆うケーシング部材５２を配し、ケーシング部材とローラ部材とにより密閉空間を形成し、密閉空間内に不活性ガスを供給して塗布膜を５〜１０００ｐｐｍの酸素濃度雰囲気に保つとともに、ケーシング部材の透明部分より活性線照射手段よりの活性線を照射する。 （もっと読む）

【課題】 良好な光学補償能を有する光学異方性フィルムを安定的に製造可能な方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、少なくとも一種の重合性基を有する等方相転移温度Ｔ℃の液晶性化合物を含む光学異方性層形成用組成物を塗布及び乾燥して光学異方性層を形成する工程と、前記光学異方性層に４０℃以上Ｔ℃以下で、且つ酸素濃度１０体積％以下で紫外線を少なくとも１度照射して、前記光学異方性層を硬化する硬化工程と、を含む光学異方性フィルムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】硬度や耐擦傷性に優れた極薄膜の硬化塗膜を、紫外線硬化により、連続して製造することができる紫外線照射式硬化装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は、支持体上に塗布した膜厚０．００５〜１μｍの紫外線硬化性塗膜を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保って紫外線により硬化させ、硬化塗膜を製造するための紫外線照射式硬化装置である。 （もっと読む）

【課題】 塗膜表面の外観品質が高く、塗装工程を短時間で作業効率良く行うことができ、しかも、塗料の無駄を生じない、活性エネルギー線硬化による複層塗膜形成方法とこれに用いうる塗料および塗装物品を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる複層塗膜形成方法は、プラスチック基材の表面に着色ベース塗料による塗膜とクリヤー塗料による塗膜とを積層形成する複層塗膜形成方法において、着色ベース塗料の膜化は乾燥で行い、クリヤー塗料の膜化は活性エネルギー線硬化で行うとともに、前記クリヤー塗料の塗装は、着色ベース塗膜の不揮発分量が７０重量％以上となった段階で、かつ、必要に応じて６５℃以下の温度での加温により、クリヤー塗料の塗着粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下となるようにして、行い、前記活性エネルギー線による硬化は酸素濃度が５％以下の雰囲気下で行う、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電気絶縁性基材の静電塗装方法でありながら、静電塗装前に電気絶縁性基材に対して予め導電性処理を施すことなく、静電塗装の際の火災原因となるといった問題を十分に解決することができるとともに、塗料の付着性を十分に向上させることができ、しかも塗装廃棄物の量を低減させて環境負荷の低減を図りながら電気絶縁性基材に対して効率よく確実に塗装を施すことが可能な電気絶縁性基材の静電塗装方法を提供すること。
【解決手段】表面固有抵抗値が１０^９Ω以上の電気絶縁性基材１の被塗装面の一部を接地する工程と、該被塗装面に対して導電性塗料２０を静電塗装する工程とを含むことを特徴とする電気絶縁性基材の静電塗装方法。 （もっと読む）

【課題】十分な反射防止性能を有しながら耐擦傷性をより向上した光学フィルムおよび反射防止フィルムを提供すること。そのような光学フィルムおよび反射防止フィルムを具備した偏光板及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】支持体上に塗布された層が、少なくとも１種のフッ素化光重合開始剤と電離放射線硬化性化合物とを含有する組成物の硬化物からなることを特徴とする光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】 樹脂膜の表面を乱れなく平坦にすることが可能な樹脂膜形成方法、及び光メモリの製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板２１上にフイルム１５ａを接着させた後、コア層用の塗布ヘッド４２ａをガラス基板２１の中央に移動させる。塗布ステージ４１を回転させた状態で、塗布ヘッド４２ａによって、フイルム１５ａ上にコア材を滴下して塗布膜１３ａを形成する。その後、ガラス基板２１を塗布ステージ４１上に固定したままの状態で、紫外線照射装置４３によって、塗布膜１３ａに紫外線を照射する。この時、紫外線照射装置４３に対して、塗布ステージ４１を左右に往復移動させながら紫外線を照射する。これにより、塗布膜１３ａに対して均一に紫外線が照射されて、塗布膜１３が硬化してコア層１３が形成される。 （もっと読む）

【課題】酸素濃度を自在に制御した条件下において塗布膜を硬化させ、塗布膜の品質、特に耐擦傷性、密着性、 等を向上させるとともに、生産性を大幅に向上させる。
【解決手段】走行する帯状の可撓性支持体１６の表面に形成された活性線硬化樹脂よりなる塗布膜に複数台の活性線照射ハウス５４により活性線を照射して塗布膜を硬化させる塗布膜の硬化方法である。１台以上の活性線照射ハウス５４により活性線が照射された可撓性支持体を次段の活性線照射ハウス５４に走行させるまでの間、塗布膜を脱酸素雰囲気に保つ。 （もっと読む）

【課題】 表面硬度及び耐候性に優れる硬化皮膜を有するプラスチック塗装成形物、特に、軟化点の低いプラスチック素材を用いた塗装成形物を提供する。
【解決手段】 プラスチック成形物上に硬化皮膜を有するプラスチック塗装成形物であって、該硬化皮膜が、紫外線重合性オリゴマー、紫外線重合性モノマー及び又は有機溶剤、及び、光重合開始剤を含有する紫外線硬化型塗料組成物を、該プラスチック成形物上に塗工する工程、酸素濃度８％未満、且つ、二酸化炭素濃度５０％以上のガス雰囲気下で紫外線を照射強度０．１〜５０ｍＷ／ｃｍ^２の範囲で照射する工程によって形成されることを特徴とするプラスチック塗装成形物。 （もっと読む）