【課題】エアーバッグ用基布に対する接着性に優れる液状シリコーンゴムコーティング剤組成物、及び該組成物の硬化物からなるシリコーンゴムコーティング層を基材の少なくとも一方の表面に形成させてなるカーテンエアーバッグ、並びに該カーテンエアーバッグの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）１分子中に２個以上のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、（Ｂ）１分子中に２個以上のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｃ）付加反応触媒、（Ｅ）トリアリルイソシアヌレート、（Ｆ）１分子中にエポキシ基とケイ素原子結合アルコキシ基とを有する有機ケイ素化合物、（Ｇ）チタニウム化合物又はジルコニウム化合物、好ましくは（Ｄ）比表面積が５０ｍ²／ｇ以上の微粉末シリカを含有してなるカーテンエアーバッグ用の液状シリコーンゴムコーティング剤組成物。 （もっと読む）

【課題】
表面硬度が高くて耐擦傷性に優れ、しかも低屈折率のコーティング材料、その製造方法および前記コーティング材料を用いた光学物品を提供する。
【解決手段】
（Ａ）パーフルオロ基を有する化合物、（Ｂ）平均粒子径が４０〜１００ｎｍの内部に空隙を有するシリカ微粒子、および（Ｃ）平均粒子径が５〜３０ｎｍの多孔質シリカ微粒子を含んでなり、コーティング後に得られる被膜の屈折率が１．３６５以下であるコーティング材料。 （もっと読む）

【課題】スジ故障や塗布ムラ等の塗布故障がないインクジェット記録用紙の製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくとも微粒子とバインダを含有する塗布液を塗布、乾燥して多孔質膜を形成する工程、形成された多孔質膜上に、添加剤含有溶液を塗布する際に、該添加剤含有溶液を転写ロール上に予め塗布し、塗布膜を形成する工程、次いで、該転写ロール上に形成された該塗布膜を該多孔質膜上に転写し、表面層を形成する工程を有するインクジェット記録用紙の製造方法において、前記転写ロール上への塗布が前計量タイプの塗布方式であり、且つ、前記転写ロール上の液をかきとる手段を具備し、塗布開始まで前記かきとり手段で転写ロール上の液をかきとることを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた耐食性と耐候性とを併せ持つ塗装亜鉛−アルミニウム合金めっき鋼板を提供する。
【解決手段】２５〜７５重量％のアルミニウムと、０．０１〜５．０重量％のマグネシウムと、アルミニウムの含有量に対して０．５重量％以上のケイ素とを含有する亜鉛−アルミニウム合金めっき層が形成された亜鉛−アルミニウム合金めっき鋼板に、ガラス繊維を含有する塗膜を設ける。この塗膜の外層に、環状脂肪族多塩基酸と脂肪族多価アルコールとから成り、且つ芳香族成分を含まないポリエステル樹脂と、紫外線吸収剤及び光安定剤のうち少なくとも一方とを含むクリア塗膜を設ける。 （もっと読む）

【課題】 硬度が高く、基体を屈曲させても基体から剥離しない塗装膜を備えた物体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 屈曲部７、９を有するアルミ板１と、前記屈曲部７、９の表面に形成された無機系塗装膜３とを備えた物体５の製造方法であって、前記アルミ板１の表面に、（ａ）アルカリ金属シリケートと、（ｂ）ケイ酸カルシウム及び／又はリン酸亜鉛と、（ｃ）コレマイト及び／又はウレキサイトを主成分とした天然ガラスを鱗片状としたものとを含む無機系塗装膜３を設ける工程と、前記アルミ板１において前記無機系塗装膜３を形成した部分７、９を屈曲する工程と、を有する物体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】樹脂等からなる基材の表面に、耐水性に優れた親水性被膜を容易に形成することができる親水性被膜形成用塗布液とその製造方法及び親水性被膜並びに親水性被膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の親水性被膜形成用塗布液は、アルコキシシランの部分加水分解生成物と、ジルコニウムアルコキシドの部分加水分解生成物と、アルコールとを含有し、この親水性被膜形成用塗布液中の珪素（Ｓｉ）をＳｉＯ_２に、ジルコニウム（Ｚｒ）をＺｒＯ_２にそれぞれ換算した場合の、これらＳｉＯ_２及びＺｒＯ_２の合計量に対する前記ＳｉＯ_２の重量百分率は、３０重量％以上かつ７０重量％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】暗中において、犠牲アノード金属の犠牲溶出による防食効果の低下を抑制し、長期間にわたって犠牲防食効果を発揮できるような防食被膜を提供する。
【解決手段】犠牲アノード金属および半導電性酸化物微粒子を含む原料から形成されたことを特徴とする、暗中で使用される金属１用の防食被膜２を提供する。この防食被膜２は、塗布法、メッキ法によって形成できる。 （もっと読む）

【課題】高強度と高成形性を兼備する自動車の燃料タンク用表面処理鋼板の製造方法を提案する。
【解決手段】Ｃ：０．０１〜０．１０ｍａｓｓ％、Ｓｉ：０．５ｍａｓｓ％未満、Ｍｎ：０．５〜２．０ｍａｓｓ％、Ｐ：０．０５０ｍａｓｓ％以下、Ｓ：０．０１０ｍａｓｓ％以下、Ａｌ：０．１０ｍａｓｓ％以下を含有し、さらにＴｉ，Ｎｂのうちの１種または２種を合計で０．００５〜０．１０ｍａｓｓ％含有する鋼スラブを熱間圧延し、冷間圧延し、再結晶焼鈍し、亜鉛系めっき処理を施してから化成処理を行い、次いで、その化成処層の一方の表面に金属粉末を含有するアミン変性エポキシ系樹脂皮膜を形成し、他方の表面にシリカ、潤滑剤および導電性粒子を含有するアクリル系エマルション樹脂皮膜を形成することにより、引張強度が３４０ＭＰａ以上で、フェライト相を主とする組織からなる燃料タンク用表面処理鋼板を得る。 （もっと読む）

【課題】金属材料に優れた耐食性、耐アルカリ性及び耐湿性を付与するために用いる、クロムを含まない金属表面処理剤等の提供。
【解決手段】ジルコニウム化合物及びチタン化合物の少なくとも1種（Ａ）、ヒドロキシカルボン酸、有機ホスホン酸、多価アルコールリン酸エステル及びリン酸並びにそれらの塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種（Ｂ）、並びに金属がＶ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｃａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｙ、Ｃｅ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｌａ又はＳｎであるβ−ジケトン金属錯体の少なくとも１種（Ｃ）を配合してなる水系金属表面処理剤、表面処理方法及び表面処理金属材料。シランカップリング剤（Ｄ）及び／又はコロイダルシリカ（Ｅ）を配合してさらに性能を高め得る。 （もっと読む）

【課題】選択的に塗布膜を形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板１０上の一部に撥水性樹脂からなる第１の塗布膜６０を選択的に形成し、半導体基板１０の上に塗布剤を塗布して、第１の塗布膜６０が選択的に形成された領域を除いた半導体基板１０上に第２の塗布膜６２を選択的に形成することを含む。 （もっと読む）

基体が冷間加工される前に金属基体上に組成物を形成する方法。この方法は、基体を、酸安定性粒子および１種以上のフルオロ酸を含む水性組成物と接触させる工程を含む。コーティング組成物における酸安定性粒子の量は、乾燥重量に基づいて0.005〜8重量％である。
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きず耐性および／または引っ掻き耐性を有するコーティングを、基材上に生成するために必要な時間を短縮するための方法を開示する。本発明の方法は、（ａ）コーティング組成物を上記基材上に塗布する工程、次に（ｂ）上記組成物中の架橋可能な構成要素を部分的に架橋する工程、ならびにさらに（ｃ）上記コーティング組成物を後硬化させる工程、を含み、ここで工程（ｂ）と工程（ｃ）との間に、および工程（ｃ）の後に、きず耐性および／または引っ掻き耐性を有するコーティングが上記基材上に存在する。また、プラスチック基材のような基材で、上記のような方法で生成したコーティングで少なくとも部分的にコートされた基材を開示し、ならびに関連する製造物品を開示する。 （もっと読む）

【課題】（１）多孔質及び／又は内部に空隙を有する無機酸化物微粒子（Ａ）の存在下に、
（２）下記ビスシラン化合物（Ｂ）を含む有機ケイ素化合物を加水分解・縮合させることにより得られる、（１）成分と（２）成分の加水分解・縮合物が一体化した複合樹脂。
Ｘ_nＲ_3-nＳｉ−Ｙ−ＳｉＲ_3-nＸ_n （Ｂ）
（式中、Ｙはフッ素原子で置換されてもよい２価の有機基又は芳香環を含んでもよい２価の有機基であり、Ｒは１価の有機基であり、ＸはＯＨ基又は加水分解性基であり、ｎ＝１、２又は３である。）
【解決手段】本発明の複合樹脂は、多孔質及び／又は内部に空隙を有する無機酸化物微粒子を含有するため、樹脂中に空隙を有する。屈折率が最も低い空気を含むため、硬化物或いは硬化被膜とすると、屈折率を低くすることができる。 （もっと読む）

本発明は、フレキシブルな支持体またはバルクの支持体に塗布することができる防汚ワニスを製造するために特に有用なシリコーン組成物に関する。その目的はシリコーンエラストマーでコーティングされた織物用の、経済的な、付着性で、滑らない、光沢のある防汚シリコーンワニスを提供することである。この目的は、A- 乾燥POS樹脂(A)、好ましくは式MM^ViQのもの100重量部、B- POS(B)好ましくは式(M^H)_(2w+2)Q_wのものでｗ=1〜6であるもの35〜150重量部、C- 触媒(C)としてのPt 0.0005〜0.1重量部、D1- (コ)ポリアミドの粉末の群から選択された少なくとも1種の粒子状成分(D1)0〜50重量部、D2- シリカ粉末の群から選択された少なくとも1種の粒子状成分(D2)0〜50重量部、D3- 補強用シリカ粉末の群から選択された少なくとも1種の粒子状成分(D3)0〜50重量部、D4- 金属酸化物粉末、好ましくはチタン酸化物粉末、セリウム酸化物粉末もしくはアルミニウム酸化物Al₂O₃(水和アルミナ)粉末、または代わりにマイカ粉末の群から選択された少なくとも1種の粒子状成分(D4) 0〜50重量部、E- 少なくとも1種の特に調節剤として有用な架橋抑制剤(E)0.01〜1重量部、F- 少なくとも1種の溶媒(F)0〜800重量部、G- 少なくとも1種の接着促進剤(G)0〜5重量部、H- 特性を与えるための少なくとも1種の官能性添加剤(H) 0〜10重量部、好ましくは0〜5重量部を含む架橋可能なシリコーン組成物によって達成される。本発明はまた、ワニス塗布の方法、およびワニスを塗布された支持体を含む複合材料をも含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電磁波シールド効果が高く透明性、透視性及び耐久性に優れた電磁波シールド材、並びに該電磁波シールド材の簡便かつ安価な製造方法を提供する。
【解決手段】電磁波シールド材の製造方法であって、(1)酸化物セラミックス、非酸化物セラミックス及び金属からなる群から選ばれる少なくとも１種を主成分として含有する透明多孔質層を備えた透明性樹脂基材の該透明多孔質層面に、表面が酸化銀で被覆された銀粒子、バインダー及び溶媒を含む導電性ペーストを幾何学パターンにスクリーン印刷し、(2)該スクリーン印刷された透明性樹脂基材を加熱処理して該透明多孔質層面に幾何学パターンの導電部を形成し、(3)その上に、酸化物セラミックス前駆体及び透明性樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の材料と、溶媒とを含むオーバーコート液を塗布して乾燥することを特徴とする製造方法、並びに該製造方法で製造される電磁波シールド材に関する。 （もっと読む）

【課題】
簡単な製造プロセスにより、薄くて充分な防錆特性及び絶縁特性を有し、かつ、モータコアのスロットに巻線を施した際に巻き崩れが起こらず、作業性のよい小型精密モータを製造するのに適したモータコア及びその製造方法を提供する。


【解決手段】

被膜形成ポリマー、水性溶媒、添加剤を含む塗料組成物中の添加剤の一部をマイクロジェルに置き換えた電着塗装用塗料組成物を用いて、モータ用部品の表面に電着塗装塗膜を形成してなる一層絶縁塗膜構造または、さらにスプレー塗装によるトップコートを形成した二層絶縁塗膜構造を有するモータ用部品及びその製造方法。
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【課題】 低光沢で耐汚染性に優れた塗膜を備える塗装物を、容易に製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の塗装物の製造方法は、活性エネルギー線硬化性官能基を備える重合性化合物、重合開始剤、及び艶消し材を含む活性エネルギー線硬化性塗料を、基材１１０の表面に塗布する塗布工程と、基材１１０の表面に活性エネルギー線硬化性塗料を塗布した塗布面１２０ｂに、活性エネルギー線を照射する１または複数の照射工程を備えている。１または複数の照射工程のうち、第１番目の第１照射工程は、パルスＵＶ照射装置２０により、塗布面１２０ｂに、紫外線を含む活性エネルギー線を、繰り返しパルス照射する。 （もっと読む）

【課題】インク吸収性を高めた多孔質インク吸収層を有する高光沢なインクジェット記録用紙を安価に製造する製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に電離放射線により架橋する親水性高分子化合物と無機微粒子を含有する多孔質層を有するインクジェット記録用紙の製造方法において、無機微粒子に対する電離放射線により架橋する親水性高分子化合物の体積比が１５％以上３３％以下であり、かつ塗布直後および／または塗布膜の含水率が１９０％以上４５０％以下の間に電離放射線を照射することを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐ひび割れ性及び薄膜性に優れるとともにコストの低い発泡耐火塗膜構造体を提供する。
【解決手段】発泡性耐火塗膜構造体１は、建築用又は土木用の下地材の上面に形成され、発泡することで耐火性能を発揮し得る塗膜構造体であって、前記塗膜構造体は、発泡性耐火塗膜層１１と、当該発泡性耐火塗膜層１１中に内包された繊維構造物１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】熔融ガラス並みの硬度を有する有機無機複合膜が形成された物品を提供する。
【解決手段】シリコンアルコキシド、強酸、水、沸点が１００℃以下のアルコールおよび沸点が１００℃を超える有機溶媒を含むとともに、親水性有機ポリマーを強酸の少なくとも一部として、または別の成分としてさらに含み、シリコンアルコキシドの濃度が、ＳｉＯ₂濃度により表示して３質量％を超え、強酸の濃度が、プロトンの質量モル濃度により表示して０．００１〜０．２ｍｏｌ／ｋｇの範囲にあり、水のモル数が、シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子の総モル数の４倍以上である形成溶液を、雰囲気の相対湿度を４０％未満に保持しながら基材に塗布し、基材を４００℃以下の温度に保持しながら、塗布された形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去して、有機無機複合膜を形成する。 （もっと読む）