【課題】半導体装置をはんだ槽に満たされた溶融はんだに浸漬することで、前記半導体装置の電極にはんだを付着させるはんだ付け方法において、はんだ付けの効率、及び、はんだ付け後の半導体装置の歩留まりを向上できるようにする。
【解決手段】半導体装置１０を溶融はんだ１２Ａに浸漬する前、及び、半導体装置１０を溶融はんだ１２Ａから引き上げる前のみに、溶融はんだ１２Ａの液面１２ｃに配された超音波振動子４によって超音波を液面１２ｃに印加することにより、液面１２ｃを振動させて液面１２ｃ近傍の溶融はんだ１２Ａをはんだ槽２の外側に溢れ出させるはんだ付け方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】貯留槽の内部に貯留した溶融金属を流動させるポンプ手段を設けたとしても、上下方向の投影面積を抑制することが可能な溶融金属貯留装置を提供すること。
【解決手段】貯留槽である半田槽１０底部１０ａの貫通孔１５の内周面の一部であるプレート部材１４の貫通孔内周面、および、回転軸４０の外周面を、いずれも半田槽１０内の溶融半田９にぬれない材料で形成して、溶融半田９の表面張力により隙間部１６から溶融半田９が漏れることを防止する。 （もっと読む）

【課題】電子部品の実装分布に対応した窒素ガスを噴流はんだ槽上の所定の方向に噴出できるようにすると共に、電子部品が片寄って実装された側に多く窒素ガスを噴出できるようにする。
【解決手段】両端部にガス供給口を有し、かつ、所定の位置にガス噴出口７０４を有して、窒素ガスを噴流はんだ槽上の所定の方向に噴出するノズル管路７５と、ノズル管路７５の両端部から窒素ガスを個々に供給する１組のガス供給部７１，７２とを備え、個々のガス供給部７１，７２は、ノズル管路７５の一端部から供給する窒素ガスの供給圧力を、基板１に取り付けられる電子部品の実装分布情報に対応して調整するものである。 （もっと読む）

【課題】熱処理部や冷却処理部等の側へ垂れ下がるラビリンス部の構造を工夫して、電子部品の取り付け高さに対応して、ラビリンス部の垂れ下がり長さを自在に調整できるようにする。
【解決手段】基板を熱処理する熱処理部上を密閉する複数の蓋体３１を備え、この蓋体３１は、一方の面側に複数のスリット４１を有し、かつ、他方の面側に長孔部４２ａ〜４２ｄを有した筺体構造の本体部３０１と、一端がスリット４１に通されて熱処理部の側に垂れ下がるラビリンス部４３と、ラビリンス部４３の各々の他端が取り付けられると共に、本体部３０１内に組み込まれ、当該本体部３０１の基板搬送方向に対して摺動自在に係合される摺動基板４４と、長孔部４２ａ，４２ｂを介して摺動基板４４を当該本体部３０１に固定する固定部４５ａ，４５ｂとを含む仕切部材可動機構４０を有するものである。 （もっと読む）

【課題】外部からはんだ付け処理部へ塵埃等が入らないようにすると共に、はんだ付け処理部内から外部への窒素ガス等の雰囲気の漏洩を防止できるようにする。
【解決手段】電子部品を取り付けたプリント基板１を予備加熱し、予備加熱後のプリント基板１をチャンバー５０に搬送し、プリント基板１に電子部品をはんだ付けする噴流はんだ付け装置１００において、チャンバー５０と、このチャンバー５０内の噴流はんだ槽６０によって電子部品をはんだ付けした後のプリント基板１を搬出する基板搬送口９０２に設けられ、当該基板搬送口９０２に空気を送風して窒素ガスを含んだ雰囲気を遮断するエアーカーテン機構９９を備えるものである。この構成によって、空気が基板搬送口９０２の下側及び上側の間に対流（循環）するエアーカーテンを形成できるようになる。この結果、窒素ガス等の資源を効率良く使用できるようになる。 （もっと読む）

【課題】予熱や冷却等の処理容器に対する蓋体の支持及び密閉機構を工夫して、当該処理容器上において、蓋体を摺動自在に、かつ、気密性良く支持及び密閉できるようにする。
【解決手段】上部に開口部を有した矩形状の熱処理部２０上を複数の蓋体３２で密閉する蓋体支持密閉機構３０を備え、蓋体支持密閉機構３０は、所定の方向に沿って配設された一対の多溝レール状の係合溝部を有して熱処理部２０の開口部上を覆う複数の蓋体３２と、熱処理部２０の開口部で相互に対峙する辺に沿って配設された一対の多溝レール状の被係合溝部を有して蓋体３２を摺動自在に支持する摺動支持部材３５ａ，３５ｂとを含み構成され、蓋体３２の係合溝部が摺動支持部材３５ａ，３５ｂの被係合溝部に嵌合されるものである。 （もっと読む）

【課題】噴流ノズルの内側に溶融はんだを噴流してスポットはんだ付けを可能とする噴流ノズルを提供する。
【解決手段】噴流ノズル２は、内部に長さ方向に貫通してはんだ槽５内から供給される溶融はんだの流通路３３を形成した全体筒状であり、ノズル口３８が設けられたノズル体３５と、ノズル体３５の内側にノズル体３５よりも小径であってノズル口３８の高さよりも下位にはんだ流入口３９が設けられているとともに、溶融はんだをノズル体３５の側面に設けられたはんだ排出口４０に流通させる流通路３７を形成するはんだ排出部材３６とから構成される。噴流ノズル２は、はんだ槽５内で生成した噴射圧により、ノズル口３８から噴流した溶融はんだをはんだ流入口３９を介して流通路３７に流入することで、ノズル口３８の内側に溶融はんだを噴流して噴流はんだ９Ａを形成する。 （もっと読む）

新規な不活性環境用エンクロージャは、製造物品がエンクロージャに入る物品入口と、製造物品が出る物品出口とを含む。物品入口及び物品出口のうちの少なくとも一方は、空気がエンクロージャに入るのを防止するための上側流れ阻止体及び底側流れ阻止体の双方を含む。特定の実施形態において、上側流れ阻止体及び底側流れ阻止体は、それぞれ、複数の個々の隣接するフィンガーを有する可撓性の織物から構成されたカーテンを含む。他の特定の実施形態において、不活性環境用エンクロージャは、ウェーブはんだ付け機を収容する窒素フードである。不活性ガスノズルは、入口及び／又は出口に又はその近くに取り付けられている。不活性環境用エンクロージャは、製造物品がエンクロージャを通過するとき、周囲環境に対して陽圧を維持する。
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【課題】ノズルから噴流されるはんだの酸化を防止できるようにする。
【解決手段】カバー本体部４０は、ノズル部３を挿入する開口部４３と当該開口部４３より外側に位置する側壁４２とを有し、はんだ収容部２の一部を覆う。供給管４５は側壁４２側に窒素ガスを供給する複数の供給口４６を有し、開口部４３の周囲を囲うように当該開口部４３と側壁４２との間に設けられる。これにより、供給口４６から供給された窒素ガスは、側壁４２に向かって供給され、ノズル部３、側壁４２及びはんだ２０の液面との間で貯留される。その貯留された窒素ガスはそのガス密度が高くなる。ガス密度が高くなった窒素ガスが開口部４３から噴出されて、ノズル部３から噴流されるはんだ２０に当該窒素ガスが吹き付けられる。これにより、はんだの酸化を防止できる。その結果、所定の箇所以外にはんだが付着されるブリッジ不良やつらら不良を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】蓋体や抑止板にフラックスヒュームが付着し難く、蓋体も軽量で清掃作業等のメンテナンス作業が容易なはんだ付け装置を実現する。
【解決手段】被はんだ付けワークＷを搬送する搬送手段を覆うように配設されたチャンバ体３０を有し、チャンバ体３０内にワーク搬送方向に沿って複数の抑止板３６，４６を並設すると共に、はんだ付け部１を指向して不活性ガスを供給しながらはんだ付けを行う。チャンバ体３０上部に開口部３４を開設し、開口部３４に透明な蓋体３５を着脱可能に蓋着し、開口部３４に対応して、抑止板４６をユニット化してなるラビリンスユニット３６をチャンバ体３０自体において着脱可能に装架する。 （もっと読む）

本発明はウェーブロウ付けまたはスズメッキ装置にガスを供給するための供給デバイス(20)に関し、前記装置は、少なくとも1つのハンダ波を作ることができるものであり、ガス流入チャネル(22)と、前記ハンダ付けまたはスズメッキ装置のハンダ浴(9)中に浸漬されたN個の二次チャネル(24)の組と、前記ガスを前記少なくとも1つの波(8A,8B)の近くに注入する少なくとも1つのインジェクション手段(14,19)に供給するためのインジェクションチャネル(26)とを含み、各二次チャネル(24)は前記インジェクションチャネル(26)に接続された流入端を有し、前記二次チャネル(24)の数Nは1以上であり、前記二次チャネル(24)の内径dおよび前記流入チャネル(22)中のガス流量Q₀は、前記二次チャネル(24)中のガス流が乱流モードとなるように選択されることを特徴とする。
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【課題】溶融ハンダの酸化によるドロス形成並びに温度低下による粘度上昇を防止し得る局所ハンダ付け装置の提供。
【解決手段】塔下部１７がハンダ槽１１内の溶融ハンダに浸漬するように且つノズル２がハウジング５の上面に設けた通し穴１４を通って直立するように装備されたハンダ塔６と、開口部２１を頂部に形成するチャンバであって、ノズルの上端部が開口部より突出するように、通し穴より上方のノズルを全外周に亘って覆い隠す保温チャンバ７と、チャンバ内部の雰囲気を加温する加熱手段８と、不活性ガスを保温チャンバの側部より内部に流入し、そして保温チャンバ内に充満した不活性ガスをノズルの上端部と開口部の内周壁２５との隙間より排出するガス流通手段９と、ハンダ圧送手段とを備えてなる、局所ハンダ付け装置１。 （もっと読む）

【課題】従来の不活性雰囲気の自動はんだ付け装置は、不活性ガスが必要な噴流はんだ槽とプリヒーター部分で酸素濃度を低くすることと、プリント基板を急冷することを同時に行うことはできなかった。本発明は噴流はんだ槽とプリヒーターでの酸素濃度を低くできるとともに、冷却装置での急冷が同時に行えるという不活性雰囲気の自動はんだ付け装置を提供することにある。
【解決手段】本発明の自動はんだ付け装置は、自動はんだ付け装置の入口近傍に排気装置を設置するとともに冷却装置からは低温となった不活性ガスを吹き付けるようにした。 （もっと読む）

【課題】噴流式の半田付け装置において、装置の大型化、複雑化、メンテナンス性の低下なく、酸化物の発生を抑制すること。
【解決手段】一次噴流９、二次噴流１０の溶融半田３への落ち込み領域９ａ、１０ａに向けて窒素吹出ノズル１１、１２、１３から窒素ガスを吹き付け、また領域１７にも窒素吹出ノズル１４から窒素ガスを吹き付ける。落ち込みで発生する気泡内の内外が窒素リッチになるので酸化を効率よく抑制できる。気泡が漂い集まる領域１７の雰囲気も窒素リッチになるので気泡の外面での酸化を抑制できる。窒素吹出ノズル１１、１２、１３、１４を半田槽２に取り付けるだけで済み、大型化、複雑化せず、メンテナンス性を悪化させない。 （もっと読む）

導電性材料を微小特徴被加工物の開口部に堆積させるためのシステムおよび方法が開示される。微小特徴被加工物を処理するためのシステムの特定の一実施形態は、処理室および処理室中のはんだ溜まりを含む。はんだ溜まりには、一般に、微小特徴被加工物を受けるように位置する垂直配向を有するスロットが含まれる。いくつかの実施形態では、このシステムは少なくとも部分的にスロットを充填する導電性材料をさらに含み得る。 （もっと読む）

【課題】半田の中に可動部がなく極めて信頼性の高い噴流式半田付け装置を提供する。
【解決手段】半田貯留時に液面と接する空間の圧力を制御可能な貯留槽１８と、上端部が大気に開放された回収槽１９と、貯留槽１８内に立てられて上端部が開口し、下端部が貯留槽１８を貫いて回収槽１９と連通した半田戻り管２９と、回収槽１９内に立てられて上端部が開口し、下端部が前記半田戻り管２９の上端部よりも低い位置にあって且つ回収槽１９を貫いて貯留槽１８と連通した半田送り管２６とを備えることを特徴とし、必要に応じて貯留槽１８に流体圧機器等を接続する。 （もっと読む）