【課題】基板幅方向に長いスリット状の吐出口を有するノズルを備えた塗布装置において、ノズル内に侵入した異物や気泡等を効果的に排出させること。
【解決手段】塗布装置１の一部には、メンテナンスステージ２５が備えられている。このメンテナンスステージ２５には、ノズル１０のスリット状吐出口に当接して当該吐出口を封止することができる長尺状して柔軟性を有する素材により形成された封止部材２５ｃが配置されている。前記ノズル１０をメンテナンスステージ２５に移動させて、前記ノズル１０の吐出口を前記封止部材２５ｃに当接させた状態にすると共に、前記ノズルに備えられた薬液導入部および薬液導出部をそれぞれ利用して、ノズル内に薬液を流す動作が実行される。 （もっと読む）

【課題】浮上する基板を確実に保持することができ、しかも、保持した基板を、簡単な構成により全体として平坦とする。
【解決手段】基板Ｗを搬送する搬送装置４０は、基板Ｗを浮上させる浮上ステージ１と、浮上させた基板Ｗの側部下面９を吸着する吸着機構３と、吸着機構３を移動させることにより当該吸着機構３が吸着した基板Ｗを所定高さｈに浮上させた状態で搬送する搬送駆動手段とを備えている。吸着機構３は、基板Ｗの側部下面９を接触させることで当該基板Ｗの側部を前記所定高さｈに位置決めする接触面１１を有しているストッパ１０と、基板Ｗの側部下面９を吸着可能であり、吸着前は接触面１１よりも上に所定寸法Ｓについて突出し吸着すると当該所定寸法Ｓについて下に収縮する吸着パッド２０とを有している。 （もっと読む）

【課題】 装置の製造コストを安価に維持しながら、塗布液の塗布と異物の検出とを正確に実行することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板１００に塗布液を塗布する塗布ノズル２１と、基板１００の表面に存在する異物を検出する異物検出機構と、浮上ステージ１４と、異物検出ステージ１２と、塗布ステージ１１と、浮上ステージ１５と、異物検出ステージ１２に形成された排気口から排気を行う第１排気手段と、塗布ステージ１１に形成された排気口から排気を行う第２排気手段を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送高さを高精度に制御し得る技術を提供する。
【解決手段】塗布ステージ４は、空気を噴出する噴出孔４０ａと、空気を吸引する吸引孔４０ｂとが設けられている。噴出孔４０ａのそれぞれには、空気を供給する供給ラインＬ１が接続されており、吸引孔４０ｂのそれぞれには、空気を吸引する吸引ラインＬ２が接続されている。供給ラインＬ１の供給流量は、流量計１４ａが検出する流量値に基づいて、ニードル弁１３の開度が調整されることによって制御される。また、吸引ラインＬ２の吸引流量は、流量計１４ｂが検出する流量値に基づいて、ニードル弁１９ａの開度が調整されることによって制御される。なお、この供給流量および吸引流量の制御は、基板Ｗが塗布ステージ４上に搬送されてくるよりも前に実行される。 （もっと読む）

【課題】浮上方式のスピンレス塗布法においてスリットノズルに基板の上面を擦らせて傷を付けるおそれのある有害な裏面異物を精度よく確実に検出すること。
【解決手段】このレジスト塗布装置は、裏面異物検出装置５０を備えることより、有害な（つまり、スリットノズル１４に基板Ｇの上面を擦らせて傷を付けるおそれのある）裏面異物Ｑをスリットノズル１４よりも基板搬送方向（Ｘ方向）の上流側で確実に検出することが可能である。そして、裏面異物検出装置５０がそのような有害裏面異物Ｑを検出したときに発生する警報信号ＷＳに応答して、主制御部５２がノズル昇降機構３６を通じてスリットノズル１４を即時に上昇移動させることにより、スリットノズル１４は基板Ｇの盛り上がり部分Ｇ_Qをかわす（摺接または衝突を避ける）ことができ、スリットノズル１４の損傷が防止される。 （もっと読む）

【課題】ワークを短時間で搬送可能なワーク搬送装置を提供する。
【解決手段】第１ステージと、前記第１ステージに近接して配置された第２ステージと、を有し、各前記第１及び第２ステージには、ワークが載置される載置面と、前記載置面に設けられた通気孔と、前記通気孔にエアーを供給するエアー供給部と、が設けられ、前記ワークを保持するととともに、前記第１及び第２ステージ間において保持した前記ワークを搬送させるワーク搬送部と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に転写跡が発生することを抑制するとともに低コスト化が図られた、塗布装置を提供する。
【解決手段】基板Ｓを浮上させて搬送する基板搬送部２と、基板搬送部２によって搬送させつつ基板Ｓに液状体を塗布する塗布部３とを備える塗布装置１である。基板搬送部２には、基板Ｓを搬入する基板搬入領域２０と、基板Ｓを搬出する基板搬出領域２２とが設けられており、基板搬入領域２０及び基板搬出領域２２のうち少なくとも基板搬出領域２２は、基板Ｓの搬送方向に延在するとともに基板Ｓに対向する複数の基板対向部５２と、基板Ｓを浮上させるための気体を噴出する複数の気体噴出口２８ａとを有し、気体噴射口２８ａは、基板対向部５２の各々において基板Ｓの搬送方向に沿って配置されるとともに少なくとも一つが基板Ｓの搬送方向の直交方向にずれている。 （もっと読む）

【課題】基板への連続塗布を行う場合においてもタクトタイムを短縮することのできる塗布方法、及び塗布装置を提供する。
【解決手段】基板Ｓを浮上させて順次搬送しつつ、順次搬送される複数の基板Ｓに液状体を連続的に塗布する方法である。基板Ｓの搬送方向後方側の所定領域を用いて、液状体を吐出するノズルの液状体の吐出状態を管理する、ノズル管理工程を備える。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に形成されるムラの発生を抑えるとともに、乾燥工程に要するタクトタイムを短縮できる予備乾燥装置、予備乾燥方法を提供する。
【解決手段】基板上に塗布された塗布膜を乾燥させる本乾燥装置により塗布膜を乾燥させる前に、前記塗布膜を予備的に乾燥させる予備乾燥装置であって、予備乾燥装置は、浮上搬送方式により基板を搬送しつつ、当該基板を加熱した浮上用気体で高温雰囲気に曝して基板上の塗布膜を予備的に乾燥させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に乾燥ムラが形成されるのを抑えることができる減圧乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板１上に塗布された塗布膜を減圧環境下で乾燥させる乾燥装置であって、基板が収容される基板収容部を有するチャンバ部１０と、基板収容部に配置され、基板を載置する基板載置面２０ａを有するプレート部２０と、基板をプレート部に載置する位置と、プレート部から所定間隔離れた位置に位置させる基板浮上装置３０と、を備えており、基板浮上装置は、基板を浮上させる気体を噴出する噴出部３１を有しており、この噴出部がプレート部に埋設され、プレート部の基板載置面と、気体が噴出する噴出部の噴出面とが同一高さ位置に設定されていることにより、プレート部の基板載置面が略一様な平坦面に形成される構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板Ｓを載置するステージ本体３ａ上で基板をステージ本体３ａの垂直方向の軸線回りに回転可能とした回転機能付きステージであって、ステージ本体に前記軸線回りに回転自在に設けた、基板の裏面中央部に吸着自在な吸着手段１０と、吸着手段を回転駆動する回転駆動手段と、基板の裏面に向けて気体を噴出する気体噴出手段１２とを備えるものにおいて、基板が四角形の大型のものであってもこれをスムーズに回転できるようにする。
【解決手段】ステージ本体３ａの各辺に、基板Ｓの各辺よりも外方に張出す張出し部３ｅを形成する。張出し部３ｅは、基板Ｓの回転時における基板Ｓの各角部のステージ本体３ａからの最大はみ出し量が基板Ｓの対角線長さの３％以下になるように形成される。また、ステージ本体の各辺に沿わせて、気体噴出部を所定の高密度で配置し、基板のはみ出し部分の基端をステージ本体の各辺から浮上させるようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】ノズルの先端が乾燥することを防ぎつつ、基板の端部から塗布処理を開始することができる浮上搬送式の基板塗布処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに塗布処理を行うための塗布ステージは塗布前ステージ４０と塗布後ステージ４１とに分かれており、空気の噴出及び排気を行って、基板Ｗを浮上させるための空気流を形成する小孔が、それぞれのステージに形成されている。基板Ｗは先端が塗布前ステージ４０と塗布後ステージ４１との境界線上に位置して停止しており、塗布後ステージ４１上方に配置されたスリットノズル５５が下降し、基板端部の塗布開始位置に向けて移動する。このとき、塗布後ステージ４１からの空気の噴出および吸引は一時的に停止される。 （もっと読む）

【課題】非接触支持装置を利用しつつも、安定した有効なノズルプリンティング法により塗布をおこなう装置を提供すること。
【解決手段】基板に流動性材料を塗布するための塗布装置であって、ノズル、液受部、浮上支持ユニット、ノズル移動機構、基板移動機構、制御部を備え、その浮上支持ユニットおよび液受部の配置が、ノズルが被塗布基板に対して液柱を形成している場合に浮上支持ユニットが前記ノズルの直下となるように、または上述のノズルが被塗布基板の範囲外で液柱を形成している場合に液受部のいずれかがノズルの直下となるように行われる、塗布装置。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に処理液を供給して塗布処理を施す基板搬送処理装置において、基板搬送精度を確保し、処理不良の発生を抑制することのできる基板搬送処理装置を提供する。
【解決手段】気体の噴射又は噴射と吸引により基板Ｇを異なる高さに浮上させる浮上ステージ２２と、前記浮上ステージ２２の上方に配置され、基板幅方向にスリット状に形成されたノズル口から処理液を前記被処理基板上に供給する処理液供給ノズル２３と、前記浮上ステージ２２の左右側方に平行に配置されるガイドレール２５に沿って移動可能に設けられた基板キャリア５０と、前記基板キャリア５０に設けられ、前被処理基板Ｇの側縁部を下方から着脱自在に吸引保持する基板保持部材２４と、少なくとも基板搬送方向において前記処理液供給ノズル２３のノズル口と同位置に配置され、前記基板保持部材２４の直下位置において前記基板キャリア５０を支持する支持部材５１とを備える。 （もっと読む）

【課題】ワークの平面精度の維持および荷搬重量の低減により、搬送時の加減速の応答性向上が可能なワーク移動テーブル等を提供する。
【解決手段】このワーク移動テーブルは、テーブルベース２２の上面に分布させて上向きに設けた複数のベルヌーイチャックと、複数のベルヌーイチャックに作動エアーを供給する作動エアー供給手段と、複数のベルヌーイチャックによる浮上間隙を存して上方に配設され、ワークＷがセットされるワークセットプレート２４と、エアー浮上させたワークセットプレート２４を、Ｘ軸方向にスライド自在に移動させるＸ軸移動機構２５と、を備え、ワークセットプレート２４には、複数のベルヌーイチャックの負圧をワークＷに作用させる複数の負圧連通孔が形成されている。 （もっと読む）

【課題】移動に支障を生ずることなく荷搬重量を軽減することができるフラッシング受容装置およびこれを備えた液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】このフラッシング受容装置は、複数の負圧連通孔を有し、機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受ける受液シート６３を下側から水平に支持するシート支持プレートを備えたフラッシング受容部と、移動軸ベースの上面に分布させて上向きに設けられた複数のベルヌーイチャックと、作動気体供給手段から複数のベルヌーイチャックに供給された作動気体により気体浮上させたシート支持プレートを水平面内で移動させる移動手段と、を備えた移動部と、から成るフラッシング受容装置であって、シート支持プレートは、複数のベルヌーイチャックの上方に浮上間隙を存して配設されている。 （もっと読む）

【課題】膜質の高い塗布膜を形成することが可能なノズル、塗布装置及びノズルのメンテナンス方法を提供すること。
【解決手段】長尺状に形成されたノズル本体と、前記ノズル本体に設けられ、前記塗布液を吐出する吐出口と、前記ノズル本体の内部に当該ノズル本体の長手方向に沿って形成され、前記吐出口に接続され、前記塗布液を流通させる流路と、前記ノズル本体に設けられ、前記流路に接続され、前記塗布液を供給可能な第１供給口と、前記ノズル本体のうち前記第１供給口よりも前記流路の端部側に設けられ、前記流路に接続され、前記流路を洗浄する洗浄液を供給可能な第２供給口とを備える。 （もっと読む）

【課題】ワークに対する浮上気体の気体調和的な影響を排除することができるワーク移動テーブルおよびこれを備えた液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】このワーク移動テーブルは、テーブルベース２２に組み込まれ、テーブルベース２２上にワークＷを気体浮上させる気体浮上手段と、気体浮上手段に浮上のための作動気体を供給する作動気体供給手段と、気体浮上させたワークＷを水平面内で移動させる移動手段と、気体浮上手段と作動気体供給手段との間の気体供給流路に介設され、温度調整手段により作動気体の温度を調整する気体調和手段と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】機能液滴吐出ヘッドの吐出検査精度を維持しつつ、搬送荷重を低減することができる吐出検査装置およびこれを備えた液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】この吐出検査装置は、検査吐出を受ける検査シート７２を下側から水平に支持するシート支持プレートを備えた吐出受け部と、移動軸ベースの上面に分布させて上向きに設けられた複数のベルヌーイチャックと、作動気体供給手段から複数のベルヌーイチャックに供給された作動気体により気体浮上させたシート支持プレートを水平面内で移動させる移動手段と、を備えた移動部と、から成る吐出検査装置であって、シート支持プレートは、複数のベルヌーイチャックの上方に浮上間隙を存して配設され、且つ複数のベルヌーイチャックの負圧を検査シート７２に作用させる複数の負圧連通孔を有している。 （もっと読む）

【課題】ワークの平面精度を維持および荷搬重量を低減により、装置を小型化すると共に、搬送時の加減速の応答性向上が可能なワーク移動テーブル等を提供する。
【解決手段】このワーク移動テーブルは、テーブルベース２２の上面に分布させて上向きに設けられ、板状のワークＷを気体浮上させる複数のベルヌーイチャックと、複数のベルヌーイチャックに作動気体を供給する作動気体供給手段と、複数のベルヌーイチャックにより気体浮上させたワークＷを、テーブルベース２２のＸ軸方向に沿う両側に配設した一対のガイドレールにスライド自在に搭載した一対のスライダにより移動させるＸ軸移動機構２５を有している。 （もっと読む）