【課題】基板上に液状体を安定して塗布することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】基板の浮上高さを制御するためのエア噴出機構及び吸引機構と、エア噴出孔から噴出されるエアの噴出圧が一定になるように、当該噴出圧を制御するＡＰＣとが設けられているので、基板の浮上量を一定に制御することができる。これにより、気体供給設備の気体供給量が不安定な場合であっても、基板の浮上量が変化することはなく、安定してレジストを基板上に塗布することができる。 （もっと読む）

【課題】処理タクトの短縮化が可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る塗布装置は、基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、当該基板搬送部によって搬送させつつ前記基板に液状体を塗布するノズルを有する塗布部とを備えた塗布装置であって、前記塗布部に、前記ノズルに対して前記液状体をそれぞれ圧送する複数のポンプが設けられていることを特徴とする。本発明によれば、塗布部のノズルに対して液状体をそれぞれ圧送する複数のポンプが設けられていることとしたので、複数のポンプのうち１つのポンプによって液状体を充填している間であっても、時間を空けることなく、他のポンプによって液状体を供給することができる。 （もっと読む）

【課題】基板を撮影する際の基板の平坦度（特に撮像される部分の平坦度）を向上させて、正確に基板の上面を撮影する。
【解決手段】検査装置１において、基板９０を水平姿勢で搬送するコロ搬送機構である第１搬送部５と第２搬送部６とを設ける。また、第１搬送部５と第２搬送部６との間に支持部２を設けて搬送中の基板９０を浮上支持するとともに、支持部２によって浮上支持された状態の基板９０をＸ軸方向の１ラインを撮像するラインカメラ３１で撮像する。支持部２は基板９０から離間した状態で、浮上ステージから吐出するエアによって基板９０を浮上支持する。このようにして、Ｙ軸方向の位置Ｅ（撮像位置）においては、Ｘ軸方向の全幅に亘って検査装置１の部材が基板９０に当接しない構造とする。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布される液状体の厚さの分布を均一にすることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る塗布装置は、基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、当該基板搬送部によって搬送させつつ前記基板に液状体を塗布する塗布部と、を備える塗布装置であって、前記基板の浮上高さを測定する非接触センサが設けられていることを特徴とする。基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布装置において基板の浮上高さを測定する非接触センサが設けられていることとしたので、実際の基板の浮上量を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】予備吐出面を洗浄する洗浄液の使用量を抑えることが可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る塗布装置は、基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部により搬送中の前記基板に対して液状体を塗布する塗布部と、前記塗布部の予備吐出動作に際して前記塗布部から前記液状体を塗布される略平面の予備吐出面を備えた予備吐出部と、を有することを特徴とする。基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、基板搬送部により搬送中の基板に対して液状体を塗布する塗布部と、塗布部の予備吐出動作に際して塗布部から液状体を塗布される略平面の予備吐出面を備えた予備吐出部とを有することとしたので、洗浄液を大量に配置させること無く、予備吐出を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】装置コストの大幅なアップなしに、柔軟な素材からなる場合であっても、円筒形部材の内外面を同時に、精度、及び、効率良く塗布を行う円筒状部材の内外面同時塗装方法を提供する。
【解決手段】円筒状部材をその軸が鉛直になるよう保ちながら内外面を同時に塗装する円筒状部材の内外面同時塗装方法において、円筒状部材の内部となるように設けられた、円筒状部材の内面の全周に対し、放射状に第１の塗料を吐出するスリット状の第１のノズルと、第１のノズルに対向するように円筒状部材の外部となるように、円筒状部材の外面の全周に対し、円筒状部材の軸方向に第２の塗料を環状に吐出するスリット状の第２のノズルと、により、かつ、第１のノズルから吐出される第１の塗料が円筒状部材の内面に接触する高さと、第２のノズルから吐出される第２の塗料が円筒状部材の外面に接触する高さと、が同じになる位置で、内外面を同時に塗装する。 （もっと読む）

【課題】ワーク受け渡し用の接触式搬送ロボットアームを用いることなく、一連の製造工程における搬送経路上もしくは搬送経路に隣接して表面処理工程を行うことができるスリットコータを提供する。
【解決手段】ワークＷの搬送経路の一部を構成する浮上搬送部兼表面処理部としての浮上搬送フレーム１０２にワークＷが直接搬送されるため、ワークＷの受け渡し用の接触式搬送ロボットアームを用いることなく、一連の製造工程における搬送経路上もしくは搬送経路に隣接して表面処理工程を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】タクトタイムを大幅に短縮することができる基板の搬送塗布装置を提供する。
【解決手段】搬送機構１４のパッド１４ａで処理後の基板Ｗ１を保持し、搬送機構１３のパッド１３ａで未処理の基板Ｗ２を保持した状態から、搬送機構１３，１４が図中右側に移動し、処理後の基板Ｗ１は受渡し位置へ、未処理の基板Ｗ２は塗布処理部Ｓ２へ浮上搬送する。次いで、塗布処理部Ｓ２で未処理の基板Ｗ２表面に塗布液を塗布している間に、搬送機構１４はアライメント位置まで戻り、次の未処理の基板Ｗ３を保持する。次いで、搬送機構１３は塗布処理が済んだ基板Ｗ２を基板搬出部Ｓ３に搬送し、搬送機構１４は未処理の基板Ｗ３を塗布処理部Ｓ２の手間まで搬送する。この後、搬送機構１３，１４が図中右側に移動し、処理後の基板Ｗ２は受渡し位置へ、未処理の基板Ｗ３は塗布処理部Ｓ２へ浮上搬送する。 （もっと読む）

【課題】加工精度を維持しつつ、安定した状態で基板の搬送及び加工を行うことを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】基板加工装置１は、搬送領域５１及び加工領域５３及び搬送領域５５に、それぞれ、搬送領域エア浮上装置１１及び加工領域エア浮上装置１３及び搬送領域エア浮上装置１５が設けられる。加工領域エア浮上装置１３は、搬送領域エア浮上装置１１及び搬送領域エア浮上装置１５と比較して、要求精度が高く、基板３の浮上量が小さい。加工領域エア浮上装置１３と、搬送領域エア浮上装置１１及び搬送領域エア浮上装置１５との間には、基板３の浮上量に応じた段差が設けられる。搬送領域エア浮上装置１１及び搬送領域エア浮上装置１５の上面の高さが、加工領域エア浮上装置１３の上面の高さと比較して、基板３の浮上量差の分だけ低くなるように、各装置が組み付けられる。 （もっと読む）

【課題】流体の圧力を要件としないノズル機構及び，これを適用した連続する長尺物の搬送装置を提供する。
【解決手段】底面に流体の流入口を有し，前記流体の流入口から流入される流体の流速に対する緩衝機能を有し，長手方向を有する緩衝筐体と，前記緩衝筐体の長手方向に対応する長手方向を有する，上面側に排出パネルを備え，前記緩衝筐体から底面を通して流入し，前記排出パネルから排出される流体の排出量が，前記排出パネルの長手方向に沿う中心領域に対し，前記中心領域から外側方向の領域において多くなるように整流する整流板を備えた整流筐体を有する。 （もっと読む）

【課題】基板を支持するユニットを提供する。
【解決手段】基板支持ユニットは、工程時に基板に旋回流を供給して基板をチャックプレート上から浮揚及び回転させる工程を行う。したがって、本発明は、基板を非接触方式でチャックプレートから浮揚させて支持し、工程速度で回転させる。 （もっと読む）

【課題】基板の回転角度及び加工精度を確保することを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】吸着盤４ａは、配置可能領域５１の全部の領域を吸着盤の形態としたものである。吸着盤４ａの幅に関しては、回転軸中心から離れるに従い、Ｘ方向及びＹ方向共に幅が狭くなる。尚、吸着盤４ａは、最大回転角度５３ａまで回転させることができる。吸着盤４ａの回転角度を確保しつつ、エア浮上装置１１との間隔を小さくすることができる。これにより、吸着盤４ａとエア浮上装置１１との隙間における基板の撓みを防止し、基板に対する加工処理の精度を維持することができる。基板の回転角度及び加工精度を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】加工対象基板の伸縮を抑制して加工精度を向上させることを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】基板加工装置１は、Ｘ方向移動装置５、θ方向回転装置７、エア浮上装置１１等を備える。エア浮上装置１１は、エア流路５５を介してエア温度調整装置５３及びエア供給装置５１に接続される。エア供給装置５１は、エア温度調整装置５３にエアを供給する。エア温度調整装置５３は、エアの温度を一定温度に調整し、温度調整したエアをエア流路５５を介してエア浮上装置１１に送る。エア浮上装置１１は、基板３にエア５７を送って基板３をエア浮上させる。エア浮上装置１１は、エア温度調整装置５３により一定温度に調整されたエアを基板３に送るので、基板３の温度変化を抑制して基板３の伸縮を防止することができる。加工精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】加工精度を維持しつつ、装置重量及び費用的負担等を軽減することを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】基板加工装置１は、Ｘ方向移動装置５、θ方向回転装置７、エア浮上装置１１等を備える。Ｘ方向移動装置５は、ベース２４のＸ方向中央部に設置される。θ方向回転装置７は、Ｘ方向移動装置５の上部に設けられ、Ｘ方向に移動可能である。θ方向回転装置７の上部には、吸着盤４が設けられる。エア浮上装置１１は、基板３を空気圧で押し上げあるいは吸引することにより、非接触に支持する装置である。吸着盤４のＹ方向長は、基板３のＹ方向長より小さい。基板加工装置１は、基板３の略全面を吸着盤４及びエア浮上装置１１により支持するので、撓みやばたつきが生じず、Ｚ方向精度を維持する。また、吸着盤４の大きさを小さくすることができるので、装置重量や装置製作費用を軽減することができる。 （もっと読む）

【課題】 浮上搬送中に被処理基板の前端部や後端部がばたつかないようにして基板の浮上高さを正確安定に制御し、塗布膜の膜厚品質を向上させること。
【解決手段】 基板搬送部８４は、基板Ｇを気体圧力の力で空中に浮かせる浮上式ステージ８０の両側に平行に配置された一対のガイドレール１００Ｌ，１００Ｒと、これらのガイドレール上で搬送方向（Ｘ方向）に移動可能に取り付けられた一対のスライダ１０２Ｌ，１０２Ｒと、両ガイドレール１００Ｌ，１００Ｒ上で両スライダスライダ１０２Ｌ，１０２を同時または平行に直進移動させる搬送駆動部と、基板Ｇの四隅を着脱可能に保持するために両スライダ１０２Ｌ，１０２に搭載されている保持部１０６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】被加工物を支持する回転板の回転・停止が容易で、被加工物の両面処理できる装置を提供する。
【解決手段】円環状の回転板１と、該回転板１の下方に配置され、該回転板を磁気浮上させるための環状に配置された超伝導体６を有し、前記回転板１の下面には前記超伝導体６に対応して配置された浮上用永久磁石１ｃと、更に、前記回転板１に設けた浮上用永久磁石１ｃの外周側に回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板１ａ，１ｂと、該永久磁石に対応して回転磁界コイル４Ａを配置し、前記回転板１の永久磁石あるいは強磁性鋼板１ａ，１ｂと、前記回転磁界コイル４Ａとによって前記回転板１を非接触状態で回転駆動するように構成した磁気浮上回転処理装置。 （もっと読む）

【課題】浮上搬送方式において被処理基板上に形成される処理液の塗布膜に縞状の塗布むらが生じるのを効果的に低減ないし抑制すること。
【解決手段】塗布領域においては、Ｘ方向に延びる複数本の噴出ラインＣ₁，Ｃ₃，Ｃ₅，・・とＸ方向に延びる複数本の吸引ラインＣ₂，Ｃ₄，Ｃ₆，・・とがＹ方向に一定のピッチＷで交互に並べられ、各噴出ラインＣ_2n-1上に噴出口８８が一定間隔３Ｄを置いて配置されるとともに、各吸引ラインＣ_2n上に吸引口９０が一定間隔３Ｄを置いて配置され、相隣接する噴出ラインＣ_2n-1と吸引ラインＣ_2nとの間では噴出口８８と吸引口９０とがＸ方向に一定距離Ｄだけオフセットしている。そして、各噴出口８８，吸引口９０の上端部から長溝８８ａ，９０ａが搬送方向（Ｘ方向）に倣う向きと逆らう向きに二手にまっすぐ延びている。 （もっと読む）

【課題】 １箇所以上のスリットより流体を吐出して吐出流体の誘導と整流調整が容易にできる一体型に製作した構造のフローティングノズルの提供を目的とする。
【解決手段】 常温流体と、熱流体と、低温流体の何れかの状態の流体を吐出するフローティングノズルで、該フローティングノズル３０は方形体をして２箇所のスリット３３より流体を吐出する。矢印は流体の方向を示している。長手方向の両側は長手方向横壁面３１と、底は流体受口３９を設けた底壁面３８とを一体型に製作して、短長手方向の両側は短手方向壁面３４を設けて方形体を形成した。流体受口３９から流入する流体の誘導と、流体の整流を行う山型状の流体誘導壁面３６を設け、流体誘導壁面３６は流体を流通させる複数の流体流通孔３６ａを設けた。流体流通孔３６ａは必要とする流体吐出量によって孔径を定める。必要な流体を吐出量するスリット３３の間隔寸法は、長手方向に沿った長手方向横壁面３１と、長手方向上壁面３２とで定める構成である。 （もっと読む）

【課題】本発明はワークの大型化に対応すると共に、輸送時の可搬性を高めることを課題とする。
【解決手段】ステージ装置１０は、ワークを搬送する搬送機構２０と、搬送機構２０を支持する搬送架台３０と、搬送架台３０を下側から支持し、ワークに対する所定の処理を行なう処理部を搬送架台３０の上方に支持する支持架台４０とを有する。ステージ装置１０では、搬送架台３０と支持架台４０とを組み合わせることで架台が組立られ、搬送機構２０が搬送架台３０上に設けられる構成である。搬送機構２０は、搬送架台３０の両側に一対設けられており、平板状のワークの両側を把持する把持部２１を有するスライダ２２と、スライダ２２を搬送方向（Ｙ方向）にガイドするガイドレール２４と、スライダ２２をＹ方向に移動させるリニアモータ２６とを有する。 （もっと読む）

【課題】 経路バッファを設けると、その分記録シートの搬送開始から機外排出までの距離が長くなり、機械の大型化や、印刷時間の冗長を招くといった問題がある。
【解決手段】 インクやトナーなどによる画像形成の前後の少なくともどちらかで、形成される画像の品位向上のためにローラによって記録媒体に特殊な反応材を塗布するローラ塗布システムにおいて、ローラ塗布中に記録媒体が間欠搬送される場合においても安定したローラ塗布を実現すると同時に、塗布した反応材の乾燥を促進させる。 （もっと読む）