【課題】歩留まりの低下を防ぐこと。
【解決手段】基板を立てた状態で回転可能に保持する回転部ＳＣ１，ＳＣ２と、前記回転部ＳＣ１，ＳＣ２に保持される前記基板の外周を囲むように配置され、前記基板の第一面及び第二面をそれぞれ露出する開口部ＯＰ１，ＯＰ２を有するカップ部ＣＰと、前記開口部ＯＰ１，ＯＰ２を介して前記基板の前記第一面及び前記第二面に液状体を吐出するノズル５２を有する塗布部ＮＺと、前記基板の前記第一面側及び前記第二面側に設けられ、前記開口部ＯＰ１，ＯＰ２を開閉する蓋部ＬＤ１，ＬＤ２とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板に対して反射防止膜を形成する工程、レジスト膜を形成する工程、露光後の基板に対して現像を行う工程を実施する塗布、現像装置において、装置の奥行き寸法を抑えること。
【解決手段】基板にレジスト膜を形成するためのＣＯＴ層Ｂ４と、レジスト膜の下側に反射防止膜を形成するためのＢＣＴ層Ｂ５と、レジスト膜の上に反射防止膜を形成するためのＴＣＴ層Ｂ３と、現像処理を行うためのＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２とを互に積層する。これら積層体の前後に各層に対応する受け渡しステージを積層した受け渡しステージ群を設け、受け渡しステージを介して各層の間で基板の受け渡しができる。またレジスト液を基板に塗布するユニットなどの薬液ユニットについては、横並びの３連カップを共通の処理容器内に配置し、これらカップ内でレジスト塗布などの液処理を行う。 （もっと読む）

【課題】基板を回転させながら、液処理を行う液処理装置において、ミストやパーティクルの流出を抑え、且つ排気ポートから排気するための排気流量を抑えることができる技術を提供すること。

【解決手段】基板の回転により基板上の液を振り切るときには、外カップの下縁部をベース部の上方の第１の高さ位置に位置させ、装置が待機状態にあるときには前記外カップの下縁部の下方側から外部の気体を排気空間に流入させるために当該下縁部を第１の高さ位置よりも高い第２の高さ位置に位置させる昇降部と、前記処理液を案内するために、前記外カップの下縁部から内側に下向きに傾斜しながら伸び出す傾斜面部とを備えるように液処理装置を構成する。スピンチャックが回転しているときに前記排気空間の気体が外カップの下縁部に回り込んでベース体との間から外カップの外にミストやパーティクルが流出することが抑えられる。 （もっと読む）

【課題】保護膜を形成するために塗布される液状樹脂の飛散等に起因する装置本体の不具合を防止すること。
【解決手段】半導体ウェーハＷの被加工面に液状樹脂からなる保護膜を形成する保護膜形成機構６と、保護膜形成機構６に半導体ウェーハＷを搬入搬出するプッシュプル機構８とを備えるレーザー加工装置１において、保護膜形成機構６は、被加工面を露出した状態で半導体ウェーハＷを保持するワーク保持部６２２と、半導体ウェーハＷを保持したワーク保持部６２２を鉛直方向に回転軸として回転させるテーブル支持部６２１と、ワーク保持部６２２及び保持された半導体ウェーハＷを囲んで密閉する筐体とを有し、この筐体に、半導体ウェーハＷの搬入搬出の際にプッシュプル機構８の通過を許容する開位置に配置される一方、保護膜を形成する際に液状樹脂の筐体外への飛散を防止する閉位置に配置されるシャッター部６５を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部の塗布状態を良好にすることが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】基板を立てた状態で回転させつつ前記基板の表面及び裏面にそれぞれ液状体を吐出するノズルを有する塗布機構と、前記基板の外周部における前記液状体の塗布状態を調整する調整機構とを備え、前記調整機構は、前記基板を回転させながら前記基板の外周部を溶解液に漬け込んで溶解させるディップ部と、前記溶解液に漬け込んだ後の前記基板の外周部近傍を吸引する吸引部とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＭＥＭＳ基板の裏面を汚し、又は傷つけることなく、貫通孔から発生する気流の乱れを防止して、塗布ムラの発生を防止する薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る薄膜形成装置は、基板を保持する保持面と、前記保持面の端部近傍に貫通して形成された複数の貫通孔と、を有する基板保持部材と、前記複数の貫通孔から前記保持面上に昇降して前記保持面上に搬送された前記基板の裏面端部を保持する昇降部材と、薄膜形成用の材料を前記基板の表面に塗布する際に前記基板保持部材を回転させて前記保持面に保持された前記基板を回転させる回転駆動部と、前記保持面上に対する前記基板の搬送動作に応じて前記複数の貫通孔の一端部を開き、前記基板保持部材の回転動作に応じて前記複数の貫通孔の一端部を閉じる貫通孔開閉部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
ドラム状物体ごとの液状物質の塗布時間を短くして、多くのドラム状物体に液状物質を塗布する必要がある場合でも、液状物質を塗布する装置を多くせずに生産効率が悪くならないようにすることができるドラム状物体への液状物質塗布装置を提供することにある。
【解決手段】
複数本のドラム状物体を、ドラム状物体の中心軸が略水平であり、それぞれのドラム状物体の中心軸が略１点で交差するように固定するドラム状物体セット手段と、ドラム状物体の中心軸が略交差する位置付近を通り、ドラム状物体のそれぞれの中心軸方向と略直角な軸を回転軸にして、ドラム状物体セット手段を回転させる第１の回転手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レンズの反転操作が確実で位置ずれするおそれがなく、回転台に対して確実に装着することができる光学レンズのコーティング装置を提供する。
【解決手段】レンズの外周を保持するリング状のレンズ保持用治具１６と、このレンズ保持用治具１６が装着される回転台を備えた塗布容器１２と、回転台を駆動する回転台用駆動装置と、レンズ２の被塗布面にコーティング溶液を適下するコーティング溶液滴下装置２０と、レンズ保持用治具１６を反転させる治具用反転装置１７とを備えている。治具用反転装置１７のハンド１１０は、レンズ保持用治具１６の環状体の外周を径方向両側から把持する一対の把持部１１０Ａ、１１０Ｂを有している。 （もっと読む）

【課題】環状のフレームに粘着テープを介して一体化されたワークの表面にスピンコートで液状樹脂を被覆する際、フレームの吸着パッドが吸着する部分への飛散樹脂の付着を防いで、フレームを介してのワークの搬送を円滑にする。
【解決手段】スピンナテーブル３０における搬送機構１０の吸着パッド１３に対応する複数箇所に振り子体５０を配設する。振り子体５０は、錘部５３と、吸着パッド１３がフレーム２に吸着する部分（吸着パッド作用部２ａ）を被覆可能な爪部５２と、錘部５３と爪部５２とを連結する連結部５４と、軸部５５とを備える。振り子体５０は、スピンナテーブル３０の静止時には開放位置にあり、スピンコート時にスピンナテーブル３０が回転すると、遠心力により軸部５５を支点として被覆位置まで揺動し、爪部５２がフレーム２の上面を覆ってフレーム２の上面の吸着パッド作用部２ａへの飛散樹脂の付着を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】スピンコータにおける基板の回転運動に伴うレジストの飛沫の基板上への再付着を防止しながら、レジスト塗布工程における製造効率を向上させる手段を提供する。
【解決手段】スピンコータが、基板を水平に固定して回転させるターンテーブルと、ターンテーブル上の基板の上方にターンテーブルと平行に配置され、ターンテーブルと同軸に基板の外径より大きい開口部が形成された円盤状の天板と、天板の半径方向外側の縁部に接続し下方に向かって拡大する円錐状の傾斜板とを有するコータカップと、コータカップの、天板と傾斜板との曲折部に垂直方向の下方に向かって延在する、開口部と同心円状に配置された円筒状の遮蔽板と、を備える。 （もっと読む）

【課題】流体吐出装置のスループットを低下させることなく、受け部材が受けた流体を適切に除去する。
【解決手段】流体を媒体に吐出するためのノズルと、該媒体を保持するための保持領域と非保持領域とを周面に備え、該周面を前記ノズルに対向させながら回転する回転体であって、前記非保持領域が前記ノズルに対向した際にフラッシングのために該ノズルから吐出される流体、を受けるための受け部材と、該受け部材が受けた流体を該受け部材から除去するための除去部材と、を備えた回転体と、を有する流体吐出装置。 （もっと読む）

【課題】レジストを塗布し、露光後に現像処理を行った基板のレジスト表面に残渣が付着したまま残る残渣欠陥の発生を抑えること。
【解決手段】基板の表面にレジストを塗布してする塗布モジュールと、レジスト塗布後、露光処理された基板の表面に現像液を供給し、前記レジストを現像処理してレジストにパターンを形成する現像モジュールと、レジストを変質させずにレジストの表面の親水性を高めて、前記現像処理後に当該レジストに付着した残渣を除去するための薬液を前記基板に供給する薬液ノズルと、を備えるように塗布、現像装置を構成する。前記薬液としては例えばアルコールや酸を含んだアルコールが用いられる。 （もっと読む）

【課題】装置の省スペースを実現しつつ、基板の端面の汚染に起因した問題（欠陥の発生、トラックや露光装置へのクロスコンタミネーション等）を回避できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板の端面を洗浄する端面洗浄処理ユニットＥＣを備える洗浄処理部９３を、インデクサブロック９に配置する。インデクサブロック９に設けられたインデクサロボットＩＲは、カセットＣから取り出した未処理基板Ｗを、処理部である反射防止膜用処理ブロック１０に搬送する前に洗浄処理部９３に搬送する。洗浄処理部９３においては、基板Ｗの端面および裏面を洗浄する。すなわち、端面および裏面が汚れた基板Ｗが処理部に搬入されることがないので、基板の端面や裏面の汚染に起因した問題を回避できる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に適用される塗布、現像装置において、適正に保護膜が塗布されていない基板について正常な基板の処理効率に悪影響を与えることなく回収することができ、且つ保護膜の除去作業の簡便化を図ることができる技術を提供する。
【解決手段】液浸露光に対する保護膜の塗布が適正に行われない異常基板については、露光部に搬入させずに待機モジュールにて待機させ、一つ順番が前の基板が露光部から搬出され、指定モジュール例えば現像前の加熱モジュールに搬入された後、前記異常基板を前記指定モジュールに搬入するようにして、いわゆるスケジュール搬送には影響を及ぼさないようにすると共に、異常基板についても保護膜除去ユニットにおける処理を実行するように制御する。 （もっと読む）

システム内で、スピンドル上に支持された各部品（ｃ）を水平方向に移送するスピンドルコンベアシステム（２５）を含むスピンドルスプレーコーティングシステム。スプレー時に、各部品を支持する個々のスピンドルを回転させるスピンドル回転ステーション（１８）も設けられる。調整可能なスプレーシステムによるスプレー中に、スピンドル上に支持された各部品を閉じ込めて、スプレーされるコーティング材料に対する環境および作業員の曝露を最低限に抑えるスプレー閉じ込め密閉スプレーブース（２０）。調整可能な二次スプレーシステムによる二次スプレー中に、スピンドル上に支持された各部品を閉じ込める第２のスプレー閉じ込め密閉スプレーブースを設けてもよい。スプレー工程（ｓ）に続いて、目視検査システム（２２）を使用して、コーティングされた各部品が検査される。垂直引き上げ機構と、欠陥部品を把持し、釣り合い重りを使用してこの部品を引き上げ１８０度回転移動させるグリッパ機構とを有し、引き上げ及び回転移動の後に、グリッパ機構からの放出によって部品が処分される欠陥部品自動廃棄用組立体（２４）も設けられる。
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【課題】最小単位の装置のブロック構成化を図ることにより装置の配置構成に自由度を向上させ、装置構成上の問題を伴うことなく装置全体の小型化が向上し装置全体のフットプリントを小さくすること。
【解決手段】被処理基板Ｇに対して所定の処理を施す処理部を一方向に複数配置して構成された処理部配置部２１〜２３と、この処理部配置部内に設けられ前記被処理基板を搬送する第１の搬送機構と、この処理部配置部外かつ前記一方のほぼ延長線上に固定してまたは前記一方向のほぼ延長線上に対して直交する方向に固定してまたは／及び前記一方向の延長線上と平行する線上を移動自在に設けられ前記第１の搬送機構に対して直接或いは間接的に前記被処理基板を受け渡し自在に構成された第２の搬送機構１１〜１５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜形成用の単位ブロックに退避モジュールを設けることにより、インターフェイスアームの設置数を軽減して、製造コストの削減と装置のフットプリントの縮小化を図ること。
【解決手段】例えばＣＯＴ層Ｂ３に、塗布モジュールＣＯＴ１〜ＣＯＴ３の数よりも１枚多い枚数のウエハを退避することができる退避モジュールＢＦ３１〜３４を設ける。ＣＯＴ層Ｂ３では、温調モジュールＣＰＬ３、ＣＯＴ１〜ＣＯＴ３、加熱冷却モジュールＬＨＰ３、ＢＦ３１〜３４の搬送経路でウエハを搬送し、露光装置の処理速度がＣＯＴ層Ｂ３の処理速度よりも小さいときに、前記ＣＰＬ３の下流側のモジュールに置かれたウエハの総数が、前記ＣＰＬ３の次のモジュールから退避モジュールの前のモジュールまでの前記搬送経路の総モジュール数よりも１枚多い数になるように、メインアームによりウエハを搬送する。 （もっと読む）

【課題】テープを介してフレームに支持されたウェーハの表面に保護膜を被覆する場合において、スピンナーテーブルを回転させその遠心力により爪部によってフレームを固定しても、爪部がフレームに接着されないようにすることにより、ウェーハをスピンナーテーブルから取り外せるようにする。
【解決手段】スピンナーテーブル４０の外周部に、スピンナーテーブル４００の回転時の遠心力によって錘部５００が外周側に振られることによりアーム部５０１を介して錘部５００と連結された爪部５０２がフレームＦを押さえる構成のフレーム押さえ手段４１を配設した樹脂被覆装置において、アーム部５０１と爪部５０２とを弾性体からなる連結部５０３によって連結する。スピンナーテーブル４００の回転停止時、連結部５０３が爪部５０２を移動させ、接着状態が解除されるため、スピンナーテーブル４０からフレームＦと共にウェーハを取り外すことができる。 （もっと読む）

【課題】基板の処理装置に用いられる複数の気圧式駆動部に気体を供給する気体供給設備の品質を安定させる。
【解決手段】気体供給ユニット１７０は、略直方体形状の連結ブロック１８２を有し、連結ブロック１８２の一の側面１８２ａには、複数の電磁バルブ１９０からなる電磁バルブブロック１８０と、複数のスピードコントローラ２００からなるスピードコントローラブロック１８１が連結されている。連結ブロック１８２内には、対応する電磁バルブ１９０とスピードコントローラ２００を連通させる第１の流路と、スピードコントローラ２００から他の側面１８２ｂに連通する第２の流路が形成されている。他の側面１８２ｂの第２の流路２１１の出力側には、接続ポート２２２が設けられる。各気圧式駆動部に通じる複数の給気管１６０は、マルチコネクタ２３０を介して接続ポート２２２に接続される。 （もっと読む）

【課題】処理に供される基板及び塗布液の種類や特性に関係なく正確に塗布液の吐出検知を行えるようにした塗布液の吐出検知方法及びその検知用プログラムを提供すること。
【解決手段】レーザーセンサ４０を用いて、レジスト液Ｒが吐出されるウエハＷ表面のレーザー反射光量を測定してノイズマージンの閾値を設定し、次いで、レジストノズル２０からウエハ表面にレジスト液が吐出される前のウエハ表面のレーザー反射光量を検出すると共に、レジスト液が吐出中のウエハ表面の最低レーザー反射光量を検出する。そして、レジスト液の吐出前と吐出中のレーザー反射光量の差と、ノイズマージンの閾値とを比較してレジスト液の吐出状態を検知する。 （もっと読む）