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Fターム[4F202CD08]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 型の製造 (4,718) | 型の製造の主要手段 (2,034) | 転写による(←鋳造) (1,017) | 転写を繰返すもの (404) | 中間段階で作成された型 (269) | 表面処理された (219) | 離型処理された (101)

Fターム[4F202CD08]に分類される特許

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【課題】複数の凸部を有し光の反射を防止し得る反射防止フィルムの作製に用いられる型を簡便に製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】型の製法方法は、陽極酸化処理により、金属製基板30の表面30aに複数の孔36を形成する工程と、化学蒸着法または物理蒸着法により、少なくとも隣り合う二つの孔の間に位置する金属製基板の表面に、皮膜40を形成する工程と、を備える。反射防止フィルム10の凸部15を形成するための凹部25が、孔36および皮膜40によって画成される。 (もっと読む)


【課題】反射率を低減するのみならず、優れた防曇性が付与された眼内観察用レンズ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】レンズ本体部と、角膜上に保持されるレンズ下面と、前記レンズ上面及び前記レンズ本体部を介して眼内を観察するためのレンズ上面とを有する眼内観察用レンズにおいて、前記眼内観察用レンズが疎水性ポリマーを含む高分子物質からなり、前記レンズ上面は疎水性を有し、かつ180nm以下のピッチの微細突起を有する。 (もっと読む)


【課題】成形されたレンズの中心位置やレンズピッチを高精度に測定することができるレンズ用金型及びウェーハレベルレンズを提供する。
【解決手段】本技術の一形態に係るレンズ用金型は、第1の成形面と、複数の第2の成形面と、複数のエッジ部とを具備する。上記第1の成形面は、第1の軸方向に平行な平面で形成される。上記複数の第2の成形面は、上記第1の軸方向に直交する第2の軸方向に平行な主軸をそれぞれ有する球面又は非球面で形成される。上記複数の第2の成形面は、上記第1の成形面に上記第1の軸方向に沿って第1のピッチで配置される。上記複数のエッジ部は、上記第1の成形面に前記複数の第2の成形面の各々に対応して設けられ、上記第1の軸方向に沿って上記第1のピッチで形成される。 (もっと読む)


【課題】金型に形成された微細な形状が転写された成形物を金型から容易に取り出す方法を提供する。
【解決手段】振動子40に対して保持された金型10に同振動子によって高周波振動を付与することにより同金型によって作成された同金型内の成形物30を同金型の開放面側から取り出す離型方法において、前記振動子と前記金型との間に弾性を有する部材50を介在させた状態にて前記振動子に前記金型を保持させ、その状態にて前記振動子を振動させることによって前記金型に前記高周波振動を付与する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基本微細構造体同士を可能な限り近接させて、しかもこの基本微細構造体を高精度に位置決めした微細構造体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、表面に微細な凹凸パターンを形成した基本微細構造体3が基材2上で複数隣接して並ぶように配置した微細構造体1の製造方法において、前記凹凸パターンの反転凹凸パターン4bが形成された金型11上で前記凹凸パターンを有する硬化樹脂からなる前記基本微細構造体3を成形する基本成形工程と、この基本成形工程で得られた前記基本微細構造体3を前記基材2に移動する移動工程と、を有し、前記基本成形工程と前記移動工程とを2回以上繰り返すことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】表示画像の画質劣化を抑制可能なスクリーン、及びスクリーン成形型の製造方法を提供する。
【解決手段】スクリーンは、光が入射される入射面11Aを有し、前記入射面11Aには、入射された光を反射させる凹曲面を有するレンズ要素2が複数配列され、それぞれのレンズ要素2は、凹曲面の曲面部22に位置し、入射される光を所定方向に反射させる反射部23と、凹曲面の底部21に位置し、入射される光の反射を抑制する反射抑制部25と、を有する。 (もっと読む)


【課題】高い精度で安定したパターン形成が可能であり、取扱い性にも優れたモールドと、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールド1の一方の面をパターン形成用の凹凸構造領域2を有するパターン形成面1Aとし、他方の面をベース面1Bとし、少なくともパターン形成面1Aおよびベース面1Bにポリジメチルシロキサン層を備えたものとし、パターン形成面1Aに位置するポリジメチルシロキサン層3を、低分子量シロキサンを[−Si(CH32O−]k(kは3〜20の整数)で表される環状構造としたときに、低分子量シロキサンの含有量が2000ppm以上である高含有率ポリジメチルシロキサンからなるもの、ベース面1Bに位置するポリジメチルシロキサン層4を、上記の低分子量シロキサンの含有量が1000ppm以下である低含有率ポリジメチルシロキサンからなるものとした。 (もっと読む)


【課題】液状樹脂をモールド型に注入して、このモールド型を加熱することで発泡体原料を硬化、あるいは発泡硬化させることによる超軟質発泡体の製造方法に関し、通気性に優れ、且つ成形時に金型内での収縮が抑制されることで外観の優れた超軟質発泡体を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】キャビティー内面に発泡体との接着性が強い剥離型4a,4bの開口部5a,5bと、発泡体の離型性が強い面2、3を有し、且つ、この接着性が強い剥離型4a,4bと離型性が強い面2,3を分離することが可能な構造を持つモールド型1を使用する。 (もっと読む)


【課題】Ni to Ni電鋳において、再現性よく凹凸パターンの良好なNi複盤の形成を可能とし、かつ100nmを切るスケールにおいても適用可能とする。
【解決手段】微細な凹凸パターンを表面に有するNi原盤12において、凹凸パターンに沿って上記表面に、フッ素化合物を含有した離型層14を備える。フッ素化合物はパーフルオロポリエーテルが好ましい。 (もっと読む)


【課題】
工業的な規模で、表面にシームレスの凹凸模様を有するロールを安価に簡便に製造することを課題とする。
【解決手段】
円柱支持体に連続繊維を隙間なくスパイラル巻きにし、固定した後に、該スパイラル巻きした表面形状を内面に転写したシームレス凹凸模様を有する中空鋳型を作成し、該中空鋳型の内面形状を表面に転写することを特徴とするシームレス凹凸模様付きロールの製造方法。連続繊維は撚糸またはモノフィラメントのいずれでも良い。 (もっと読む)


【課題】離型性が良く,金型表面の一部分に対する荷重集中を回避して金型の摩耗を防止し得る金型の表面処理方法を提供する。
【解決手段】金型の表面に第1のブラスト処理を行って前記表面に生じた硬化層の除去及び/又は面粗度の調整を行った後,第2のブラスト処理を行って前記表面に微小な凹凸を形成する。その後,弾性体に砥粒を担持させた弾性研磨材,又は,厚みに対して1.5〜100倍最長部分を有する平面形状に形成された板状研磨材を,金型の表面に対して傾斜した噴射角度で噴射することにより,研磨材を前記金型表面上で滑動させることによって,金型表面に形成された凹凸の山頂部を平坦化する。 (もっと読む)


【課題】インプリント材料の充填速度を制御する。
【解決手段】実施形態のインプリント用のテンプレートは、一方の面に凹凸を有するパターンが形成された第1部材を備え、被加工基板上に塗布された光硬化性のインプリント材料に前記一方の面を接触させた状態で、前記第1部材の他方の面の上から照射された光により前記インプリント材料を硬化して前記パターンを前記インプリント材料に転写するインプリント用のテンプレートである。このテンプレートは、端部領域に第2部材が設けられている。前記第2部材の前記インプリント材料に対する接触角は、前記第1部材の前記インプリント材料に対する接触角より大きい。 (もっと読む)


【課題】耐久性が高く優れた離型性を具備したナノインプリント用のモールドと、このようなモールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド1を、基材2と、基材2の一方の面2aを被覆する樹脂層3と、この樹脂層3の面3aに位置する凹部4とを備えたものとし、樹脂層3を表面の水接触角80°以上、HV硬度400以上とし、このようなナノインプリント用モールド1は、塗布工程にて、基材2の一方の面2aに少なくともオルガノポリシロキサンと光触媒とを含有してなる塗布液を塗布して濡れ性変化樹脂材料層3′を形成し、乾燥工程にて、濡れ性変化樹脂材料層3′とマスターモールド11を圧着し、その状態で濡れ性変化樹脂材料層3′に乾燥処理を施して樹脂層3を形成し、剥離工程にて、樹脂層3とマスターモールド11とを離間することで形成する。 (もっと読む)


【課題】離型剤を用いない場合であっても離型性が良好なモールド、その製造方法、表面に付着した樹脂を除去するとともに離型性を回復させるモールドの処理方法、および表面に欠陥の少ない物品を生産性よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】フッ化アルミニウムを含む表層を有するモールド;アルミニウム基材10の表面に形成された酸化皮膜14を有するモールド18に、フッ素系ガスを含む処理ガスを用いたドライエッチング処理を施す工程を有するモールドの製造方法;酸化皮膜14の表面に樹脂が付着したモールド18に、フッ素系ガスを含む処理ガスを用いたドライエッチング処理を施して、樹脂を除去するモールドの処理方法;本発明のモールドを用い、該モールドの表面形状に対応した表面形状を有する物品を得る物品の製造方法。 (もっと読む)


【課題】インプリント耐性を十分に備えながらも、精度良くパターンを転写させる。
【解決手段】インプリントにより所定のパターンを被転写物に転写するための元型モールド30に離型層が設けられる離型層付きモールドにおいて、前記離型層に含まれる化合物の分子鎖における主鎖にはフルオロカーボンが含まれ、前記化合物の分子鎖は、元型モールドに対して吸着している吸着官能基を少なくとも2個以上有し、前記吸着官能基において、前記吸着官能基と元型モールドとの吸着の元となる結合エネルギーが、前記化合物の分子鎖における吸着官能基同士の結合エネルギーよりも大きい。 (もっと読む)


【課題】テンプレートを用いて基板上に所定のパターンが形成されるように、当該テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜する。
【解決手段】成膜ユニットは、テンプレートTの転写パターンCの凸部C上面のみに離型剤Sを成膜する離型剤供給部112を有している。離型剤供給部112は、支持部材120を有している。支持部材120には、凸部C上面に当接して、当該凸部C上面に離型剤Sを塗布する第1のローラ121と、第1のローラ121と同軸方向に延伸し、当該第1のローラ121と当接する第2のローラ122と、第2のローラ122の表面に液体状の離型剤Sを供給する離型剤ノズル123と、凸部C上面に塗布された離型剤Sに気体を供給し、当該離型剤Sを乾燥させる乾燥ノズル124と、が支持されている。 (もっと読む)


【課題】インプリントプロセスにより形成される凹凸パターンを利用し、その凹凸パターンを、アルミニウムやシリコン等の基材材料に電気化学プロセスにより細孔形成を行う際の細孔発生開始位置の制御を行うためのマスクとして使用することで規則的なホールアレー構造を効率良く確実に形成できるようにした手法を提供する。
【解決手段】基材上に設けられたマスクにインプリントプロセスにより凹凸パターンを形成し、形成された凹凸パターンの凹部に対応した基材位置に、電気化学的な手法により細孔形成を行うことを特徴とする、細孔配列が制御された多孔質構造材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】良好な離型性、成形の繰り返し耐久性などの向上を実現し、良好な成形品を生産できる離型膜、ならびにそれを用いた金型を提供する。特に、ナノメートルサイズの凹凸を持った金型(反射防止構造形成用の金型など)に対し、従来の離型膜に比べて、飛躍的に良好な離型性を実現し、かつ優れた繰り返し耐久性を実現することを目的とする。
【解決手段】貴金属窒化物、すなわち、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、金(Au)、ロジウム(Rh)、オスミウム(Os)、ルテニウム(Ru)、イリジウム(Ir)、レニウム(Re)、またはそれらの合金の窒化物を離型膜として用いる。なかでも、窒化白金(Pt−N)は、特に優れた効果を有する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置等の製造における簡易なパターン形成方法を提供する。
【解決課題】基板上に、第一のセグメントと第二のセグメントを有する高分子共重合体を塗布する工程と、前記高分子共重合体に凹部を有するテンプレートを接触させ、前記テンプレートの凹部に前記高分子共重合体を充填する工程と、充填された前記高分子共重合体を第一のセグメントを有する相と第二のセグメントを有する相に相分離させる工程と、前記テンプレートを前記高分子共重合体から離型する工程と、前記高分子共重合体の第一のセグメントを有する相又は第二のセグメントを有する相を除去する工程と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させる。
【解決手段】テンプレートの表面に離型剤を成膜するテンプレート処理では、先ず、洗浄液槽に貯留された洗浄液中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面を洗浄する(工程A2)。その後、離型剤槽内に貯留された離型剤中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面に離型剤を付着させる(工程A3)。その後、テンプレート上の離型剤を乾燥させる(工程A4)。その後、アルコール槽内に貯留されたアルコール中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面に離型剤を密着させ、さらに離型剤の未反応部分を除去する(工程A5)。その後、テンプレート上のアルコールを乾燥除去する(工程A6)。こうしてテンプレートの表面に離型剤が所定の膜厚で成膜される。 (もっと読む)


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