【課題】液晶ディスプレイ用ガラス基板等の被研磨物について初期から加工数を重ねていっても研磨後の被研磨物の品質に影響を与える表面形状を変化させることなく、これにより一定の研磨品質を維持することができ、さらに、被研磨物の品質に影響のある保持面の表面平坦性が向上し、大型で極薄の被研磨物であっても研磨中にはこれを堅固に保持することができ、かつ、研磨後は安全かつ容易に剥がすこともできる片面研磨用保持材の製造方法を提供する。
【解決手段】発泡層と緻密な発泡による表面部分を有する樹脂シートを湿式成膜法により製造する工程と、表面に凸部を有する加熱可能なディンプルロールに樹脂シートを供給して樹脂シートの緻密な発泡による表面部分を圧接させることにより、樹脂シートを構成する材料の流動開始温度以上で熱成形加工する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温加熱されたロールとの当たりよる欠陥を発生させることなくシート生地表面にエンボス模様を効率的に形成させることができる長尺材の製造方法を提供する。
【解決手段】加熱されたエンボスロール１１とその受けロール１２と間に、長尺材Ｓを通過させてエンボスロールのベース面１１ｂから立設するように形成された凸部１１ａを長尺材Ｓ表面を押圧することによって、長尺材表面にエンボス模様を形成させる長尺材の製造方法であって、
長尺材がエンボスロール１１を通過する際にエンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにする。 （もっと読む）

【課題】ウレタン基材を含む積層成形品における端末処理方法において、端材を発生させることなく、工程数を短縮化することで加工コストを低減させる。
【解決手段】成形天井１０は、半硬質ウレタン２１の両面にガラス繊維マット２２を積層したウレタン基材２０の表面に表皮３０、裏面に裏面不織布３１を積層一体化して構成されており、サンルーフ用開口１１周縁部の巻き込み条片４０の端末処理方法としては、半硬質ウレタン２１の溶融温度（２００〜３００℃）に着目し、裏面不織布３１の融点とラップする最適温度域（ポリエステル繊維不織布の場合２６０〜３００℃）の熱風を巻き込み条片４０の裏面に吹き付け、半硬質ウレタン２１を軟化させるとともに、裏面不織布３１を溶融させ、その後、巻き込みユニット８０における巻き込み駒８１の動作により巻き込み条片４０の巻き込み処理を行なう。 （もっと読む）

【課題】 硬化皮膜と凹凸とを同時に有する化粧シートにおいて、凹凸がシャープに再現されていて、しかも基材と硬化皮膜と密着が優れており、凹凸の深さの増加により、基材と硬化皮膜との密着性の低下がない化粧シート、および製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 化粧シートを構成する熱可塑性樹脂シート２の表面に、プライマー層３、および硬化樹脂保護層４を積層し、硬化樹脂保護層４の表面から凹凸５を形成することにより、プライマー層３および硬化樹脂保護層４が、凹凸５に沿って積層された構造とすることができ、課題を解決することができた。 （もっと読む）

【課題】不可逆的な接着や欠陥が発生することなく、基板から容易かつ反復的に離型され、他の樹脂層にサブミクロンのパターンを形成するのに十分高いモジュラス、優れた化学安定性および寸法安定性を有する多層構造の有機モールドを実現できるようにする。
【解決手段】他の樹脂層に微細パターンを形成するための多層構造の有機モールドは、シート状の支持体層と、支持体の上に形成され、活性エネルギー硬化型の樹脂組成物からなり、微細パターンを有する有機モールド層とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 端面処理にばらつきがなく、安定した研磨性能の樹脂フィルムを加工する加工装置を提供する。
【解決手段】 固定ステージ２にバッキングフィルム５を固定し、押圧プレート３を加熱した状態で、固定ステージ２に固定されたバッキングフィルム５に押圧し、バッキングフィルム５の端面部分を熱破壊してシーリングを行う。押圧プレート３は、プレート移動部４に、所定の傾斜角度に保持されるとともに、バッキングフィルム５の厚み方向に平行な方向に移動させてバッキングフィルム５に押圧される。 （もっと読む）

【課題】電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法において有利に使用することができ、その際に使用される微細凹凸パターンを有する金型の剥離が容易であり、且つその硬化転写層を有するシートが優れた膜自立性を有する光硬化性転写シートを提供すること。
【解決手段】加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートであって、光硬化性組成物が、滑剤として、リン原子含有化合物を含み、且つ光硬化性転写層の一方の表面にポリマーフィルムとその上に形成された易接着層とを有する易接着フィルムが、易接着層と転写層の一方の表面が接触するように設けられていることを特徴とする光硬化性転写シート；この光硬化性転写シートを用いた凹凸パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】整列マークが形成された軟体テンプレートを提供する。
【解決手段】整列マークが形成されたテンプレートにおいて、可撓性基板と、可撓性基板上にパターンを含めて形成されたテンプレートモールドと、テンプレートモールドに形成され、テンプレートモールドより高い屈折率を有する整列マークと、を備える整列マークが形成されたテンプレートである。これにより、インプリント工程時にパターン用レジンとのコンタクト識別が容易であるので、テンプレートとインプリント用基板との間の整列を容易に合わせることができ、大面積のインプリント工程が可能である。 （もっと読む）

【課題】裏面に凹部が無く平坦な立体模様片を製造でき、溶断刃による切断が容易で、下層材料が一体的に成形され、裏面に接着又は粘着機能を有する立体模様片を製造でき、基材の特性が限定されること無く不要部分の除去が容易な基材へ直接立体模様片を成形できる方法を提供する。
【解決手段】テーブルの上に、下層材料１３、中間層材料、上層材料１１をこの順に載置する。下層材料１３（ホットメルトフィルム、粘着テープ等）の裏面には、離型紙が装着されている。
上方より凹型３２を下降させ、材料を押圧して、高周波を発信させる。高周波の発熱によって、これら材料は溶融する。凹型の溶断刃５１の内側に溶融材料が流れ込むと共に、溶断刃によって、材料は切断される。
冷却後、凹型から材料を取り外し、不要部分を除去することによって、平坦な立体的装飾片を製造することができる。 （もっと読む）

本明細書では、ポリマーおよび微細化表面を有する微細構造化層を有する微細構造化ツールが開示され、ニッケル層は前記微細構造化表面の反対側にある微細構造化層に隣接して配置され、前記基材層は微細構造化層の反対側にあるニッケル層に隣接して配置される。その微細構造化表面は約１０００μｍまでに至る最高深さを有する少なくとも１つの形状を有してよい。また、レーザーアブレーションを用いた微細構造化ツールの製造方法が、本明細書で開示される。微細構造化ツールは光学的用途に好適に使用される物品の製造に使用できる。
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【課題】ブロックの二次元切断をもって、三次元構造材を形成する方法を提供する。
【解決手段】通電状態のニクロム線(40)を二次元方向へ移動させることによってポリウレタンホームのブロック(70)を所定の断面形状を有する少なくとも長手方向軸にフレキシブルな長尺材(2)を切断し、この長尺材を長手方向軸に対し三次元方向に屈曲または湾曲させて保形し、表面に所定の厚みを有する樹脂層(3)を形成して三次元構造材を製造することを特徴とする。 （もっと読む）