【課題】真空（減圧）条件の下で熱転写成形を行う成形装置に要する設備経費を圧縮し、連続的な生産を可能とすることにより時間当たりの生産性の向上も実現できる熱転写成形装置を提供する。
【解決手段】被加工材を減圧して搬送する搬送成形ユニット１０と、搬送成形ユニット内の被加工材を補助加熱する補助加熱部３０と、搬送成形ユニットを挟持して補助加熱部よりも高圧力により被加工材を加熱成形する加圧熱成形部４０と、搬送成形ユニット内の被加工材を冷却する加圧冷却部５０と、搬送成形ユニットを挟持して加圧冷却部よりも低圧力により被加工材を補助冷却する補助冷却部６０と、搬送成形ユニットの脱気部を通じて内部を減圧し補助加熱部に向けて搬出する搬出部７０と、補助冷却部から搬送成形ユニットを受け入れてその分離を行う搬入部８０と、接続部１１０を備え搬送成形ユニットを各部の配置順に搬送し所定位置に載置する搬送装置１００を有する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて、インプリント部材の剛性によらず、いかなるインプリント部材を使用しても、モールドの凹凸パターンをその中央部分からレジストに接触させることを可能とする。
【解決手段】ナノインプリント装置１０において、インプリント部材１が所定の撓み状態を維持するように、インプリント部材１に外力を作用させてそのインプリント部材１に永久歪みを付与する歪み付与デバイス２０と、歪み付与デバイス２０によって永久歪みが付与されたインプリント部材１を使用して、モールド１の凹凸パターン２を基板６上に配置されたレジスト７に押し付けて、レジスト７に上記凹凸パターン２を転写するインプリントユニット４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】インプリント工程中の雰囲気を構成する気体が、モールド表面に形成された凹凸構造内の空隙に取り込まれることによる転写精度の低下を防止する。
【解決手段】
基板表面上に塗布した成形材料を成形温度に加熱し、この成形材料をモールドに対してプレスして、モールド表面に形成した凹凸構造を転写する工程を備えたインプリント方法において、成形材料をモールドに対してプレスする工程に先立って、モールド表面に形成された凹凸構造内部に、成形材料の成形温度より沸点及び発火点が高い液体を充填し、該凹凸構造内部の空気と置換する工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】広幅、薄膜、長尺の光学フィルムを高速巻き取りにより製造したときに、巻取り時に発生する、巻緩み、巻ズレ、馬の背故障及び保存時に発生する転写、クッッキ等の故障を低減した光学フィルムの製造方法の提供。
【解決手段】両端部にナーリングを付与しながら光学フィルムを巻取り軸に巻き取りロール体とする光学フィルムの製造方法において、前記光学フィルムの前記巻取り軸への巻き取りは、前記ロール体の巻長と軸回転数を測定し、前記測定した情報に基づき、前記巻取り軸に巻き取られ前記光学フィルムの間隙を、前記ナーリングの高さを変えながら制御することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ用の回折基板のような光学部品をナノインプリントで製造するのに好適な転写ヘッドを提供する。
【解決手段】 転写ヘッド１０は、光硬化性樹脂を硬化させるための光を照射する光源１２と、光透過性の基部１４と、基部１４の光出射面に取り付けられ、遮光部１６ｃにより区画された開口１６ｂを有するマスク板１６と、微細パターンＭＰを有し、前記開口１６ｂを透過した光を透過するモールド１８とを備える。マスク板１６の開口１６ｂが微細パターンＭＰよりも小さい。 （もっと読む）

【課題】基板の上の樹脂とモールドとを接触させる際に基板とモールドとの間に取り込まれる気体の量を抑える。
【解決手段】モールド１２０は、前記パターンが形成されたパターン面を含むパターン部１２２と、前記パターン面の周囲に形成された複数の排気口１２３を有する基部とを含む。装置は、前記パターン面に垂直な断面における前記パターン面の形状が前記基板側に凸形状となるように前記パターン面を変形させる変形部１４０と、複数の排気口のそれぞれに接続され、接続された排気口を介して前記基板と前記モールドとの間の気体を排気する排気動作を行う複数の排気機構１５０と、基板１１０の上の樹脂と前記モールドとを接触させる際に、樹脂とパターン面との間に気体が取り込まれないように、複数の排気機構のそれぞれによる排気動作を個別に制御する制御部１６０と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】転写材を短時間でテンプレートパターンの凹部に充填することができるインプリント方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント方法では、テンプレートに形成されたテンプレートパターンが転写される被転写基板に、転写材としてのレジストを滴下する。そして、前記テンプレートを前記被転写基板上のレジストに押し当てるとともに、この状態で前記レジストを硬化させる。その後、硬化したレジストから前記テンプレートを引き離すことによって、前記テンプレートパターンに対応する転写パターンを前記レジストへパターニングする。そして、前記硬化したレジストから前記テンプレートを引き離した後から次のショットのレジストに前記テンプレートを押し当てるまでの間の所定のタイミングで、前記テンプレートを前記テンプレートパターン面側から脱気する。 （もっと読む）

【課題】真空条件の下で熱転写成形を行う成形装置の時間当たりの生産性を向上し、被加工材の新たな搬送方法を実現するための熱転写成形ユニットを提供する。
【解決手段】上側スタンパ、被加工材及び下側スタンパを収容して減圧状態を維持しながら加熱成形部、冷却部の順に搬送して熱転写成形を行う熱転写成形ユニット１０であって、上側スタンパと密着する上側台板部１０３と上側台枠部１１０を備えた上側収容部材１０１と、下側スタンパと密着する下側台板部と下側台枠部１４０を備えた下側収容部材１０２と、上側収容部材と下側収容部材との合着により形成され、被加工材を収容する収容空間内を減圧する収容空間脱気部１５０と、収容空間内の気密を保持するガスケット部と、上側台板部と下側台板部との距離を可変させる可変調整部１３０とを有する。 （もっと読む）

【課題】硬化パターンの欠けを効果的に抑制することのできるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体および（Ｂ）重合開始剤を含有し、１気圧２５℃の液中における溶存気体量が１５０ｐｐｍ未満であるインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】離型において型の撓み量を制限するのに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】基板５上の未硬化樹脂５６を型３により成形して硬化させ、基板５上に硬化した樹脂５６のパターンを形成するインプリント装置１であって、型３を引きつけて保持する保持部２４と、該保持部２４により引きつけられる領域より内側の領域において離型と並行して型３に接触することにより型３を補強する補強部材５１とを有する。 （もっと読む）

【課題】型の撓み量を制限する、または、型の特定の撓み状態を得るのに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】基板５上の未硬化樹脂５６を型３により成形して硬化させ、基板５上に硬化した樹脂５６のパターンを形成するインプリント装置であって、型３を引きつけて保持する保持部２４と、保持部２４に保持された型３の背圧を離型と並行して減少させる減圧手段５２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】樹脂のパターン形成部に混入する気泡を減少させつつ、パターン形成部の欠陥の発生を抑えることが可能なインプリント装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板５上の未硬化樹脂５２とモールド３とを互いに押し付けて、基板５上に樹脂５２のパターンを形成するインプリント装置１に係る。ここで、モールド３は、基板５に対向する側の中央部に、樹脂５２と接触する凹凸パターン３ｃが形成される平板部３ａと、外周側に壁部３ｂとを有する箱形の形状を有する。このインプリント装置１は、壁部３ｂの垂直面３ｄを引き付けて保持する保持部２４を有するモールド保持装置４を備え、該モールド保持装置４は、平板部３ａの中央部と壁部３ｂとの間の形状を変形させるモールド変形機構５０を備える。 （もっと読む）

【課題】 空気と置換するためのガスの供給量を必要最小限に低減したインプリント装置を提供する。
【解決手段】 インプリント装置は、テンプレートを保持する保持部と、基板を保持するステージと、前記テンプレートを囲むように配置された複数のガス供給開口を介して前記テンプレートと前記基板との間の空間に空気と置換するためのガスを供給するガス供給部と、前記複数のガス供給開口を囲むように前記保持部の前記ステージ側の表面に形成された第１ガス回収開口を介して前記ガスを回収する第１ガス回収部と、前記基板を囲むように前記ステージに形成された第２ガス回収開口から前記ガスを回収する第２ガス回収部と、前記第１ガス回収開口により囲まれる第１領域と、前記第２ガス回収開口により囲まれる第２領域とが重なり合う第３領域が形成される場合に、前記複数のガス供給開口のうち前記第３領域内に位置するガス供給開口のみから前記ガスを供給するように前記ガス供給部を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】離型する際、型や被成型品が対応する設置体から離れるのを防止することのできる転写装置を提供する。
【解決手段】型Ｍを設置する型設置体１３と、被成型品Ｗを設置し、型設置体１３に対して相対的に移動自在な被成型品設置体２１とを有し、被成型品設置体２１が、真空吸着によって被成型品Ｗを保持するように構成され、型設置体１３と被成型品設置体２１とを互いに接近させて型Ｍを被成型品Ｗに押圧することによって微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写をした後、被成型品Ｗから型Ｍを離すときに型Ｍ、被成型品Ｗ、型設置体１３の型Ｍを設置している型設置部位１３ｍ、被成型品設置体２１の被成型品Ｗを設置している被成型品部位２１ｗが内部に入る部屋Ｒを形成し、真空吸着による保持力を増加させるために部屋Ｒ内の気圧を大気圧よりも高くするように構成する。 （もっと読む）

【課題】精度良く高い再現性をもってナノプリントを実行することができるナノプリント方法を提供する。
【解決手段】下ステージ１１の載置面１１ａに枠体Ｒと、マスタ版Ａとを載置する。次に下ステージ１１に対して上ステージ１５を降下させ、上ステージ１５の吸着面１５ａを枠体Ｒに当接させ、エアスイベル機構２０によって上ステージ１５を３次元空間で移動させて、下ステージ１１と上ステージ１５の平行出しを行なう。次にマスタ版Ａ上に液状のシリコンゴムＳを流し込み、上ステージ１５の吸着面１５ａに保持されたスタンパ保持基板Ｃと、下ステージ１５の載置面１１ａ上のマスタ版Ａとの間でシリコンゴムＳを狭持する。シリコンゴムＳが自然硬化してスタンパＤが形成され、上ステージ１５を上昇させることにより、スタンパＤが上ステージ１５のスタンパ保持基板Ｃにより保持される。スタンパＤにインクＧが塗布され、スタンパＤ上のインクＧが被印刷基板Ｈに転写される。 （もっと読む）

【課題】インプリントリソグラフィ・テンプレートのフィーチャを埋めるのに必要な時間を短縮する。
【解決手段】液体を基板上に分配する方法であって、とりわけ相隣る液滴間にガスポケットが生じる複数の互いに相隔たる液滴のパターンを基板上に配置する配置ステップで、パターンを複数のガスポケットの容積が最小となるように形成するステップ、を含む方法に関する。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルなシート基材をスタンプに均一に接触させることができるシートチャックと、このシートチャックを使用して高精度のパターンを形成するためのマイクロコンタクトプリント法を提供する。
【解決手段】シートチャック１を、上面がシート基材を載置するための載置面２Ａとなっている基部２と、この載置面２Ａに位置する吸引・放出部３と、この吸引・放出部３を囲むように載置面２Ａに位置する保持部５と、を有するものとし、吸引・放出部３は気体の吸引と気体の放出が可能な領域とする。 （もっと読む）

ナノ・インプリント・リソグラフィ加工中に流体をパージするためのナノ・インプリント・リソグラフィ用テンプレートが記載されている。テンプレートは、内側流路および外側流路を備えることができる。内側流路は、ナノ・インプリント・リソグラフィ加工中に、テンプレートと基板との間の領域をプロセス・ガス供給源と流体連通させるように構成されている。外側流路は、流体を排出、および／または、テンプレートのアクティブ・エリアと基板との間に流体を封じ込めるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】押印工程の迅速化を図ることができるインプリント装置及び物品の製造方法を提供する。
【解決手段】インプリント装置１が、レジスト供給装置２２を制御して、モールド２と基板４との間の間隙がレジスト３で満たされるように、レジスト３を基板上に供給する。そして、インプリント装置１が、モールド２と基板４との間の間隙がモールド２で満たされた状態で、モールド２を基板４に押し付けることによって、基板４上にパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、簡素な構成や工程で、前記被成型品での気泡の発生を防いだ転写をする。
【解決手段】シート状のモールドＭに形成されている微細な転写パターンを、被成型品Ｗに転写するための転写装置１において、転写をするときに、被成型品Ｗと、被成型品Ｗと協働してシート状のモールドＭを挟み込んで押圧する押圧体５とが内部に位置する真空成型室１７であって、被成型品が設置される真空成型室１７と、押圧体５が位置する真空成型室とに、シート状のモールドＭによって仕切られる真空成型室１７を形成する真空成型室形成手段と、前記真空成型室を仕切るシート状のモールドに貫通孔を形成する貫通孔形成手段９と、前記真空成型室を減圧する減圧手段１１とを有する。 （もっと読む）