本発明は、複合セラミック体およびその製造方法に関する。複合セラミック体は、炭素を含有する繊維強化された芯部領域と、ＳｉＣを含む表面領域とを有している。複合セラミック体の良好な長期挙動を得るために、芯部領域の内部を起点として表面領域の内部に至るまでＳｉＣの割合が連続的または実質的に連続的に変化するように、複合セラミック体がＳｉＣを含んでいることが提案される。 （もっと読む）

【課題】非酸化物焼結セラミックから作製された構成要素を互いに接合させて、継ぎ目なしのモノリスを形成させる接合方法を提供する。
【解決手段】 セラミック構成要素を接合するための方法であって、接合される前記構成要素が焼結された非酸化物セラミックからなり、前記構成要素を遮蔽ガス雰囲気存在下の拡散溶接プロセスにおいて互いに接触させ、少なくとも１６００℃、好ましくは１８００℃を超える、特に好ましくは２０００℃を超える温度をかけ、適当であれば荷重をかけて、ほとんど変形が無い状態で接合させてモノリスを形成させ、前記接合される構成要素の、力が加えられた方向における塑性変形が、５％未満、好ましくは１％未満となるようにする接合方法。 （もっと読む）

【課題】物理的手法によって熱伝導率を制御する炭化ケイ素粉末の製造法、および高熱伝導率炭化ケイ素の提供。
【解決手段】 アチソン法により製造された炭化ケイ素をバッチ式にて粉砕し、得られた粉砕品を分級して、熱伝導率の異なる炭化ケイ素粉末を製造することを特徴とする、炭化ケイ素粉末の製造法。より小さい平均粒子径に粉砕し、より大きな平均粒子の粉末を分級により分取することで、熱伝導率の高い炭化ケイ素を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高温特性に優れた、少なくとも窒化ケイ素、炭化珪素及び窒化ホウ素を構成相とする新規窒化ケイ素複合セラミックス材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】窒化ケイ素及び炭素と、炭化ホウ素あるいはホウ素を用いて、窒化ケイ素粒子の表面に、５ｎｍを超えない窒化ホウ素の薄膜を形成したことを特徴とする窒化ケイ素基複合セラミックス及びその製造方法。
【効果】窒化ケイ素の高温での分解を抑制することを可能とする、高温特性に優れた新規窒化ケイ素複合セラミックス材料を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、セラミックマトリックス複合材構成部品、例えばタービン構成部品を形成する方法を提供する。
【解決手段】 本方法は、（ａ）化学気相堆積によって繊維トウ（１０）に繊維被覆を施す段階と、（ｂ）高温及び低温バインダ、炭化ケイ素粉末、カーボンブラック並びに水で構成された水性スラリーを通して繊維トウ（１０）を引張り、それによってプリプレグテープを形成する段階と、（ｃ）プリプレグテープをドラム（１８）上に巻取る段階とを含み、さらに（ｄ）プリプレグテープを切断し、積重ねかつ積層して複合材予備成形物（２０）を形成する段階と、（ｅ）予備成形物を溶融ケイ素で溶融浸潤する段階とを含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】ボルトの締結等に十分な厚さが得られ、なお、軽量で比剛性が高い構造部材を容易に提供する。
【解決手段】 隔壁により仕切られた多数の柱状空隙部を有するSiC質ハニカム構造部材からなるコア部と、前記ハニカム構造部材の両方の、前記柱状空隙部の長手方向に垂直な面に取り付けられるSiC質板部材からなる平板部と、を有する軽量高剛性構造部材であって、前記コア部のハニカム構造部材に形成された空隙の所望の箇所にSiC質緻密部を設けたことを特徴とする軽量高剛性構造部材。 （もっと読む）

【課題】 軽量化が図れ、強度が高い液晶製造装置用セラミック部材を提供すること。また、その電気抵抗が十分に高いこと。
【解決手段】 液晶製造装置に配置される液晶製造装置用セラミック部材において、２０％〜４０％の気孔率の炭化珪素であり、気孔の平均径が０．１μｍ〜１μｍである液晶製造装置用セラミック部材。 （もっと読む）

多数の貫通孔が壁部を隔てて長手方向に並設され、これらの貫通孔のいずれか一方の端部を封止してなるセラミックブロックにて構成されたハニカム構造体である。このハニカム構造体は、それを構成するセラミックブロックが、熱伝導率に優れた、セラミック粒子と結晶質シリコンとからなる複合材にて形成され、熱拡散性に優れるだけでなく、比較的低温の温度分布が生じたり、長期間の冷熱サイクルが繰り返された場合であっても、熱応力の蓄積が極めて少なく、クラックが発生することがないので、耐熱衝撃性に優れている。
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【課題】電気伝導性、耐高温酸化性に優れると共に、成膜性に優れ、例えば空気極用の集電体として、空気極上にも容易に成膜することができる電気伝導性材料と、このような材料を空気極用集電体として備えた固体酸化物形燃料電池を提供する。
【解決手段】導電性を有する炭化物、ほう化物及び窒化物（例えばＣｒ_３Ｃ_２、ＣｒＢ、Ｃｒ_２Ｎ、ＴａＣ、ＴａＮ、ＺｒＢ_２、ＺｒＮ）から選ばれた少なくとも１種の化合物から成る第１の粉末材料５ａと、導電性酸化物（例えばＢｉ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、ＭｎＯ_２）から選ばれた少なくとも１種の酸化物から成る第２の粉末材料５ｂを含む混合物を焼結して電気伝導性材料とし、この電気伝導性材料を集電体層５として固体酸化物形燃料電池１の空気極４の上に成膜する。 （もっと読む）

【課題】 電極に用いやすく、強度が高い多孔質構造体とその製造方法を提供する。
【解決手段】 ３次元的な網目構造を形成する骨格部４と、骨格部４の表面に設けられ、網目構造の空隙の全部または一部を塞ぐ封止材５と、を備え、骨格部４または封止材５は、実質的にセラミックス、炭素またはこれらのうち少なくとも一方と金属とからなる複合材料により構成される。これにより、封止材５により空隙を塞がれた部分に導電体を接合する際の接触面積を大きくして、接合を容易にし、容易に多孔質構造体１を電極に用いることができる。また、封止材５により空隙を塞がれた部分は骨格が太くなるか、完全に空隙が閉ざされるため、多孔質構造体１の強度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】複合セラミックスの工業規模での安定かつ効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】炭化ケイ素、仮焼後にその全部又は一部が炭素に転換し得る有機物、及び焼結助剤を湿式混合して得られた混合物を乾燥する工程（１）、及び工程（１）で得られた乾燥物を粉砕し、得られた粉砕物を仮焼する工程（２）を有する複合セラミックスの製造方法であって、工程（１）で得られた乾燥物の粉砕を、それにより得られる粉体粒子の粒径分布において、重量分布50%の粒子径が425〜1200μｍ、重量分布10％の粒子径が50〜250μｍ、かつ重量分布90％の粒子径が1000〜3000μｍとなるように行う、複合セラミックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】近年、切削工程における高能率化、省人化の要求の高まりとともに、高速切削にシフトしている。そこで、従来よりも長寿命の窒化珪素焼結体切削工具および被覆窒化珪素焼結体切削工具の提供を目的とする。
【解決手段】Ｙ₂Ｏ₃：１．２〜１．８重量％と、Ａｌ₂Ｏ₃：０．３〜０．８重量％と、Ｓｉ₃Ｎ₄：残りとからなり、鋳鉄との摩擦係数は０．６以下であり、熱伝導率は４０Ｗ／ｍＫ以上である窒化珪素焼結体切削工具およびその表面に被膜を被覆した被覆窒化珪素焼結体切削工具は、鋳鉄の高速切削において、従来の窒化珪素焼結体切削工具よりも長寿命を実現する。 （もっと読む）

高密度化ＳｉＣ製品の製造方法が提供される。開発された方法によって、近網形状多孔質シリコンカーバイド製品が製造され、高密度化される。多孔質近網形状シリコンカーバイド製品内の細孔の実質的な数を炭素前駆体、シリコンカーバイド前駆体またはその混合物で充填する。炭素前駆体は液体またはガスであることができる。充填ＳｉＣプレホームは加熱され、炭素またはシリコンカーバイド前駆体を、近網形状多孔質シリコンカーバイド製品の細孔内で多孔質炭素またはＳｉＣプレホームに変換する。浸漬／熱分解のサイクルを炭素および／またはシリコンカーバイドの所望の量を達成するまで繰り返す。炭素またはシリコンカーバイド／炭素前駆体の混合物が用いられる場合は、熱分解近網形状シリコンカーバイド製品は不活性雰囲気中で、シリコンと接触される。シリコンは熱分解近網形状シリコンカーバイド製品を通って拡散し、多孔質ＳｉＣプレホームの細孔内に含まれている炭素と反応して、近網形状シリコンカーバイド製品の細孔内にシリコンカーバイドの新しい相を形成する。製造されたシリコンカーバイドは近網形状高密度シリコンカーバイドである。 （もっと読む）

【課題】 セルの大きさおよびその分布状態の均一性を高めたセラミック成形体を得ることができるセラミック成形体の製造方法、および、セラミック成形体を提供する。
【解決手段】 複数のセルと複数の連通孔とを有する三次元網目構造を備えたセラミック成形体を製造する方法であって、セラミック粉体と、有機系粒子の表面を複数のＳｉＣ粒子で被覆してなる複数の被覆粒子とを混合し、被覆粒子−セラミック粉体混合物を作製する第１工程と、所定の型を使用して、被覆粒子−セラミック粉体混合物を加圧成形し、被覆粒子が所定に配列し、配列した被覆粒子間にセラミック粉体が充填してなる被覆粒子−セラミック粉末配列体を作製する第２工程と、被覆粒子−セラミック粉末配列体を加熱し、有機系粒子をガス化させることによって、セルおよび連通孔を形成する第３工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 亀裂のない反射膜の形成が容易であり、なおかつ超精密な表面粗さと平面度を有しているＳｉＣ−Ｓｉ複合材料からなる基板の表面に反射膜を形成してなる光学反射ミラーを得る技術を提供する。
【解決手段】 Ｓｉマトリックス中にＳｉＣ強化材が複合されたＳｉＣ−Ｓｉ複合材料からなる基板の表面に直接に反射膜を形成してなる光学反射ミラーであって、前記ＳｉＣ−Ｓｉ複合材料中のＳｉＣの含有率が６０〜９０体積％であり、かつ、前記基板の表面粗さＲａが１０ｎｍ以下であることを特徴とする光学反射ミラー。さらに、前記ＳｉＣ−Ｓｉ複合材料組織中のＳｉマトリックス相幅の平均値が１μm以下であり、かつ、ＳｉＣ強化材の平均粒径が３μm以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】熱的に安定で直接焼結に好適な多重元素ナノ粉末とその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｓｉ／Ｃ／Ｎ／Ｅ_a／Ｆ_b／Ｇ_c／Ｏ多元素ナノ粉末（Ｅ、Ｆ、およびＧはＳｉ以外の互いに異なった金属原子を示し、ａ、ｂ、およびｃの少なくとも一つは非ゼロである）の製造方法を提供する。この粉末は、少なくとも一つの金属前駆体、該少なくとも一つの金属前駆体の唯一の溶媒として用いられるヘキサメチルジシラザンＳｉ₂Ｃ₆ＮＨ₁₉、およびシランＳｉＨ₄を有してなるエアロゾルのレーザー熱分解により得る。該粉末中の各粒子は、Ｓｉ、Ｃ、Ｎ、Ｅ_a、Ｆ_b、Ｇ_c、およびＯの全ての元素を含有し、その等量化学量論的化合物で表した化学組成において遊離炭素の含有量が２％未満、ＳｉＯ₂の含有量が１０％未満である。該ナノ粉末の、Ｓｉ₃Ｎ₄／ＳｉＣ複合セラミックを製造するための使用。 （もっと読む）

高い機械強度と高い硬度、および高い剛性を有する、溶浸工程によって製造された炭化ホウ素複合体は、精密装置および防弾装甲などの広範囲の産業に用途がある。一実施形態において、複合材料は、炭化ホウ素充填材または補強相、およびケイ素成分と反応性炭素質成分を有する多孔質の塊を有する溶浸材との反応性溶浸によって製造された炭化ケイ素マトリックスを特徴とする。代替の実施形態において、溶浸を反応性炭素質成分の不在の下で行って、例えば「ケイ素化した炭化ホウ素」を製造することができる。炭化ホウ素の潜在的に有害な溶浸中のケイ素との反応は、ケイ素溶浸材が炭化ホウ素に接触する前に、ホウ素源もしくは炭素源、または好ましくはホウ素と炭素の両方をケイ素中に合金化または溶解することによって抑制される。本発明の特に装甲に関する好ましい実施形態において、良好な弾道衝撃性能は、溶浸すべき多孔質の塊または予備成形品に炭化ホウ素などの１種または複数の硬質充填材を高度に装填することによって、および複合体を構成する形態学的形状、特にセラミック相のサイズを制限することによって、高めることができる。本反応結合炭化ホウ素（ＲＢＢＣ）複合体は、弾道衝撃性能において現在の炭化ホウ素装甲セラミックに少なくとも比肩するが、より低コストおよびより高容積の製造方法、例えば、溶浸技術を特徴とする。 （もっと読む）

先駆物質を熱分解することによって、カルボニトリドまたはオキシカルボニトリドセラミックを製造するための方法を開示する。少なくとも１種の金属粉末および／または半金属粉末またはこれらの合金、付加的な充填剤および少なくとも１種の熱硬化性プラスチック樹脂の混合物を先駆物質として使用する。 （もっと読む）