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Fターム[4G001BB02]の内容

セラミック製品 (17,109) | 製品組成 (3,705) | 酸化物 (1,141) | B2O3 (19)

Fターム[4G001BB02]に分類される特許

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【課題】常温下と高温下の双方の雰囲気下においても、高強度を有する炭化珪素焼結体を製造する方法を提供する。
【解決手段】アチソン炉を用いて、粒子内にシリカとカーボンの各々が全体的に分布しており、かつ、B及びPの各々の含有率が1ppm以下である、シリカとカーボンからなる粒子を加熱して、炭化珪素粉末を得る、炭化珪素粉末製造工程と、得られた炭化珪素粉末を焼結して、炭化珪素焼結体を得る、焼結工程を含む、炭化珪素焼結体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】六方晶系窒化ホウ素を快削性付与剤として含み、より低温で焼成可能であって、かつ、無加圧下で製造が可能な快削性セラミックス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】粒子の表面のみならず内部にも酸素が含まれている快削性付与剤としての六方晶系窒化ホウ素粉体と、基材としてのセラミックス粉体(ただし六方晶系窒化ホウ素は除く)とを混合して焼結用混合粉とし(混合工程)、該焼結用混合粉を圧力成形してプレ成形体とし(プレ成形工程)、プレ成形体を非酸化性ガス雰囲気下又は真空中において焼結する(焼結工程)。 (もっと読む)


【課題】半導体素子の放熱部材に適した複合部材、その製造方法、放熱部材、半導体装置を提供する。
【解決手段】この複合部材は、マグネシウム又はマグネシウム合金とSiCといった非金属無機材料とが複合されたものであり、上記SiCを70体積%超含有し、熱膨張係数が4ppm/K以上8ppm/K以下であり、熱伝導率が180W/m・K以上である。この複合部材は、半導体素子との熱膨張係数の整合性に優れる上に、放熱性にも優れるため、半導体素子の放熱部材に好適に利用できる。上記非金属無機材料は、上記非金属無機材料同士を結合するネットワーク部を有する焼結体などの成形体を利用することで、複合部材中の非金属無機材料の含有量を容易に高められる上に、複合部材中に上記ネットワーク部が存在することで熱特性に優れる。 (もっと読む)


本発明は、多結晶の立方晶窒化ホウ素(PCBN)の本体を固体のインサートとして又は支持体に取り付けられるものとして含む、その上に硬質かつ耐摩耗性のPVDコーティングが堆積された、チップ除去による機械加工のための切削工具インサートに関する。前記コーティングは、A層及びB層の互層の多結晶のナノ積層構造を含み、ここで、A層は(Ti、Al、Me1)NでありMe1は周期表の3、4、5又は6族からの金属元素の1種以上であり、B層は(Ti、Si、Me2)Nであり、Me2は、Alを含む周期表の3、4、5又は6族からの金属元素の1種以上であり、厚さは、0.5〜10mである。本発明のインサートは、高温を発生する金属切削用途、例えば、鋼、鋳鉄、超合金及び硬化鋼の高速加工において特に有用である。
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【課題】アルカリ性溶液と酸性溶液とに対する耐食性に優れ、それら溶液に頻繁に晒されるような過酷な環境下でも強度が低下しにくいセラミック多孔体を提供する。
【解決手段】10〜20質量%のZrOを含むガラス相と、ZrO粒子及びSiC粒子からなる群より選択される何れか一種の骨材粒子とを含むセラミック多孔体。 (もっと読む)


【課題】高気孔率でありながらも高強度であり、熱伝導率が高く耐熱衝撃性に優れ、比較的低温で焼結させることで製造可能な炭化珪素質多孔体を提供する。
【解決手段】金属珪化物を1〜35質量%、ホウ素(B)を酸化ホウ素(B)換算で0.1〜10質量%それぞれ含有し、気孔率が38〜80%である炭化珪素質多孔体。 (もっと読む)


【課題】 圧力損失が低く、高い強度を有するハニカムを製造することができるハニカム構造体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 炭化ケイ素粉末、バインダ及び添加材を含む原料組成物を成形することにより、多数のセルがセル壁を隔てて長手方向に並設された柱状のハニカム成形体を作製した後、上記ハニカム成形体を脱脂処理することによりハニカム脱脂体を作製し、さらに、上記ハニカム脱脂体を焼成処理することによりハニカム焼成体からなるハニカム構造体を製造するハニカム構造体の製造方法であって、上記原料組成物は、上記炭化ケイ素粉末として、炭化ケイ素粗粉末と上記炭化ケイ素粗粉末より平均粒子径(D50)の小さい炭化ケイ素微粉末とを含むとともに、上記添加材として、金属酸化物粉末を含み、上記金属酸化物粉末の上記原料組成物中の配合量は、0.8〜4.0重量%であることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、基本的に、組成物M1−y2−x2−2x2+x:Euから成り、ここで、Mは、Sr、Ca、Ba、Mg又はそれらの混合物を含むグループから選択され、Aは、Si、Ge又はそれらの混合物を含むグループから選択され、Bは、Al、B、Ga又はそれらの混合物を含むグループから選択され、x及びyは、>0から≦1までで別々に選択されるセラミック複合材料を備える発光装置、特にLEDに関する。この材料は、一方の相がアンバー乃至赤色放射相であり、他方の相がシアン乃至緑色放射相である2相組成物であることが分かった。
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本発明は、酸化ホウ素が金属酸化物内で見出される緊密に結合したクラスターを生成させるような方法で混合した金属酸化物と酸化ホウ素を含む金属ホウ化物プレカーサー混合物に関する。さらにまた、本発明は、上記金属ホウ化物プレカーサー混合物と炭素質成分でもって製造した炭素複合体材料にも関する。最後に、本発明は、金属酸化物と酸化ホウ素を供給する工程;金属酸化物と酸化ホウ素を、酸化ホウ素を液化し且つ金属酸化物を含浸し得る温度で機械的に混合して金属酸化物と酸化ホウ素の緊密に結合したクラスターを生成させる工程を含む上記金属ホウ化物プレカーサー混合物の製造方法も教示する。 (もっと読む)


【課題】摺動開始時に瞬間的に高温の摩擦熱が発生して、熱衝撃を受けやすい過酷な使用状況下で用いられる摺動部材に適用するには、耐熱衝撃性が不足する。
【解決手段】炭化珪素を主成分とする主相と、硼素、珪素および炭素を含有する副相とからなる炭化珪素質焼結体からなる摺動面を有し、前記副相は複数の主相間に点在する粒状の相である摺動部材とする。 (もっと読む)


【課題】原子力用途のためのホウ素−11(“11B”)同位体を含むSiC材料、並びに前駆体及びSiC材料の形成方法、及びSiC材料の提供。
【解決手段】原子炉構成要素において使用する材料は、セラミック材料及びホウ素−11化合物を含む、炭化ケイ素材料の前駆体配合物である。セラミック材料は、ケイ素及び炭素及び所望により、酸素、窒素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、またはこれらの混合物を含む。ホウ素−11化合物は、酸化ホウ素、水素化ホウ素、水酸化ホウ素、炭化ホウ素、窒化ホウ素、三塩化ホウ素、三フッ化ホウ素、ホウ素金属、またはこれらの混合物のホウ素−11同位体からなる。原子炉構成要素において使用するための材料、構成要素、並びに材料の製造方法。 (もっと読む)


第一の光を放射するための光源と、580から1000nmの波長範囲において光に対する10%から80%の透過率を有するCaAlSiN光変換材料を含んだ、第一の光の少なくとも一部を第二の光に変換するための光変換層を有する発光デバイス。 (もっと読む)


【課題】従来の六方晶窒化ホウ素焼成体の製造方法の問題点を解決し、ホットプレス等の
加圧装置を用いず、かつ非酸化性雰囲気とすることなく、大気中で常圧でhBNを焼成す
る方法とその焼成体を提供すること。
【解決手段】本発明は、六方晶窒化ホウ素と、焼成温度において液相を形成し六方晶窒化
ホウ素と濡れる性質を有する焼成用助剤とを混合し、大気中、無加圧で焼成することを特
徴とする窒化ホウ素焼成体の製造方法と、このようにして得られた六方晶窒化ホウ素とガ
ラス質物質からなる窒化ホウ素焼成体である。焼成用助剤としては、曹長石、NaAlS
38、カリ長石、KAlSi38などのアルミノケイ酸塩が好ましい。 (もっと読む)


【課題】酸化処理後の拡散可能時間を更に延長させたホウ素拡散材を提供するる。
【解決手段】本発明は、Al2O3成分とSiO2成分とBN成分とを含み、Al2O3成分とSiO2成分の合計含有率が20〜80質量%、BN成分の含有率が20〜80質量%であり、しかもAl2O3/SiO2のモル比が1.0〜2.4、開気孔率が13〜43%のセラミックス焼結体で構成されてなることを特徴とするホウ素拡散材である。また、本発明は、Al2O3/SiO2のモル比が2.4〜1.0である、Al2O3成分とSiO2成分とを含む混合物及び/又は化合物を20〜80質量%と、窒化ホウ素を20質量%〜80質量%とを含む混合粉末をCIP成型した後、非酸化雰囲気で焼結することを特徴とする上記ホウ素拡散材の製造方法である。 (もっと読む)


【目的】炭化ケイ素セラミックス中に分散溶液を用い気相法炭素繊維を高分散させることにより、従来と比して製造工程を簡略化し、破壊靭性、強度に優れさらに導電性を付与させたセラミックス複合材料を提供する。
【構成】本発明では、上記目的を達成するため、混合機もしくは粉砕機を使用し、特定の分散溶媒中で、セラミックス、炭素繊維、及び焼結助剤を混合し、炭素繊維をセラミックス中に均一に分散させ、脱有機処理を行った後焼結させることにより破壊靭性及び強度に優れた導電性セラミックス複合材料を製造する。 (もっと読む)


【課題】より低誘電率を有する絶縁層を形成可能にする絶縁ペーストを提供する。
【解決手段】窒化窒化硼素化合物、ガラス粉末および有機ビヒクルを含むことを特徴とする絶縁ペーストとする。窒化硼素化合物は黒鉛化指数3.5以下の窒化硼素であることが好ましく、ガラス粉末の非誘電率が7以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】窒化けい素セラミックス基板を用いて各種パワーモジュールを構成した際にリーク電流の発生を効果的に抑制することができ、大電力化および大容量化したパワーモジュールにおいても絶縁性および動作の信頼性を大幅に向上させることが可能な窒化けい素セラミックス回路基板を提供する。
【解決手段】気孔率が容量比で2.5%以下であり、粒界相中の最大気孔径が0.3μm以下の窒化けい素焼結体から成り、温度25℃,湿度70%の条件下で上記窒化けい素焼結体の表裏間に1.5kV−100Hzの交流電圧を印加したときの電流リーク値が1000nA以下であり、熱伝導率が50W/m・K以上、3点曲げ強度が500MPa以上である窒化けい素セラミックス基板2上に複数の金属回路板3,3を設けると共に、該金属回路板3,3の間隔が0.1〜2.0mmの範囲である箇所を具備していることを特徴とする窒化けい素セラミックス回路基板1である。 (もっと読む)


【課題】非酸化物系セラミックスの表面に安定した超平滑な表面を形成したセラミック複合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素及び酸化物を主成分とする混合粉末を成形する工程と、成形後、窒素ガスを含気流中で焼成し、前記ケイ素を窒化ケイ素に転化させると同時に焼結せしめる工程と、酸素を含む雰囲気中で加熱し、前記焼結体内部に存在する酸化物を毛管現象によって表面に染み出させた後、冷却して固化させる工程により、緻密で超平滑な表面を形成したセラミック複合体を製造する方法、及び平滑で緻密な表面を形成したセラミック複合体。
【効果】本発明によれば、加工や吹きつけでは得ることが困難な超平滑で安定な表面を有するセラミック焼結体及びその製造方法を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】電気伝導性、耐高温酸化性に優れると共に、成膜性に優れ、例えば空気極用の集電体として、空気極上にも容易に成膜することができる電気伝導性材料と、このような材料を空気極用集電体として備えた固体酸化物形燃料電池を提供する。
【解決手段】導電性を有する炭化物、ほう化物及び窒化物(例えばCr、CrB、CrN、TaC、TaN、ZrB、ZrN)から選ばれた少なくとも1種の化合物から成る第1の粉末材料5aと、導電性酸化物(例えばBi、SiO、Al、B、MnO)から選ばれた少なくとも1種の酸化物から成る第2の粉末材料5bを含む混合物を焼結して電気伝導性材料とし、この電気伝導性材料を集電体層5として固体酸化物形燃料電池1の空気極4の上に成膜する。 (もっと読む)


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