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Fターム[4G001BD03]の内容

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Fターム[4G001BD03]に分類される特許

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【課題】高気孔率でありながらも高強度であり、熱伝導率が高く耐熱衝撃性に優れ、比較的低温で焼結させることで製造可能な炭化珪素質多孔体を提供する。
【解決手段】金属珪化物を1〜35質量%、アルミナ(Al)を0.5〜10質量%それぞれ含有し、気孔率が38〜80%である炭化珪素質多孔体。 (もっと読む)


【課題】本発明は、近年の過酷な切削条件化に耐え得る強固かつ高剛性に接合されてなる立方晶窒化硼素焼結体工具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の立方晶窒化硼素焼結体工具は、80〜98体積%の立方晶窒化硼素と結合相とを含有する立方晶窒化硼素焼結体が、0.1〜10重量%のTiと15〜50重量%のCuとを含有し、かつ残部がAgと不可避不純物とからなる接合層を介して工具母材上に直接接合され、該接合層に接する該立方晶窒化硼素焼結体の接合面における該結合相は該立方晶窒化硼素中に不連続状態で存在し、その不連続状態で存在する各々の結合相において、その面積が0.01〜2μm2となる結合相が結合相の全面積の80%以上を占めることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来技術のSiC繊維強化型SiC複合材料よりも優れた熱特性、強度特性等を発揮できるSiC繊維強化型SiC複合材料を提供する。
【解決手段】SiC繊維強化型SiC複合材料を製造する方法であって、(1)SiC繊維表面に炭素、窒化ホウ素及び炭化ケイ素の少なくとも1種を含む被覆層が形成されてなる被覆SiC繊維に対し、SiC微粉末及び焼結助剤を含み、かつ、有機ケイ素高分子を含まないスラリーを含浸させることにより予備成形体を得る第1工程及び(2)前記予備成形体を加圧焼結させる第2工程を含むことを特徴とするSiC繊維強化型SiC複合材料の製造方法に係る。 (もっと読む)


【課題】 高強度高靱性化を図ることができるとともに、放熱性を向上することができる窒化珪素質焼結体およびその製法ならびに回路基板、パワー半導体モジュールを提供する。
【解決手段】 β−Si及びβ−サイアロンのうち少なくとも1種の結晶粒子1と粒界相3とからなる窒化珪素質焼結体であって、結晶粒子1内に、該結晶粒子1の他の部分4よりもAl存在量が多いAl多領域部5を有するとともに、該Al多領域部5が希土類元素を含有する被覆層6で覆われていることを特徴とする。これにより、焼結体の強度と靱性を向上できるとともに、焼結体の熱伝導率を高くすることができ、放熱性を向上できる。 (もっと読む)


【課題】切削温度(刃先部最高温度)を低下させるのに十分な高い熱伝導率を有すると同時に、切削工具に要求される高硬度、高強度などの特性を満たす焼結体の提供。
【解決手段】60体積%以上99体積%以下のWCと、1体積%以上40体積%以下のAlN−Y23混合物とを含み、100W/mK以上の熱伝導率を有することを特徴とする焼結体。 (もっと読む)


【課題】パワーモジュール用ベース板として好適なアルミニウム−炭化珪素質複合体を提供すること。
【解決手段】アルミニウム77〜94.5質量%、珪素5〜20質量%及びマグネシウム0.5〜3質量%を含有する金属粉末20〜40体積%と、平均粒子径が50〜300μmの炭化珪素粉末60〜80体積%を混合した後、離型処理を施した金型に充填し、温度600〜750℃に加熱して、圧力10MPa以上で加熱プレス成形することを特徴とする、板厚2〜6mmの板状アルミニウム−炭化珪素質複合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】色むらがなく熱伝導性に優れたアルミニウム焼結体を、生産性良く製造する。
【解決手段】成形・プレス工程で生じる窒化アルミニウム成形体のシート残りを、加熱処理した後に粉砕して粉状とし、それを原料として再び配合することを特徴とする生産性に優れた窒化アルミニウム焼結体の製造方法であり、350℃以上で加熱処理して作製した回収粉を原料として添加することを特徴とする窒化アルミニウム焼結体の製造方法であり、回収粉中のFe増分が30ppm以下であることを特徴とする窒化アルミニウム焼結体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム合金、アルミニウム合金と鋳鉄とからなる材料の切削加工時における、耐摩耗性、耐欠損性の高い窒化珪素焼結体工具の提供。
【解決手段】窒化珪素焼結体の結晶組成100は、微少な粒子であるα型窒化珪素101および針状の粒子であるβ型窒化珪素103からなる結晶相110と、α型窒化珪素およびβ型窒化珪素の粒子の間に存在する、焼結助剤成分を含む粒界相120とから構成されている。窒化珪素焼結体は、α率が35%以下であり、かつ、二次元断面上での長軸径が2μm以上のβ型窒化珪素の粒子面積の占める比率が10%以下である。こうすることにより、窒化珪素焼結体の組成中に粒子形状が針状のβ型の窒化珪素粒子が存在するので、β型の窒化珪素が亀裂進展に対する抵抗となるとともに、β型の窒化珪素同士が互いに絡み合うことにより靭性が向上し、窒化珪素焼結体の耐磨耗性及び耐欠損性を向上できる。 (もっと読む)


【課題】高周波領域における低い誘電損失と高い熱伝導率を有する低損失緻密質誘電体材料、その製造方法及び部材を提供する。
【解決手段】窒化ケイ素を主体とし、アルカリ土類金属元素化合物、周期律表第3a族化合物、及び不純物的酸素を含有する窒化ケイ素質焼結体からなり、該焼結体の粒界が結晶化され、かつ2GHzと3GHzにおける誘電損失が5×10−4以下であり、熱伝導率が50W・m−1・K−1以上であり、気孔率が3%未満の高周波用低損失緻密質誘電体材料、その製造方法及び部材。
【効果】半導体ないし液晶製造装置において、主にマイクロ波などの高周波を使用してプラズマを発生させる装置に用いられる高熱伝導・低誘電損失の高周波用緻密質誘電体材料及び部材を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】窒化けい素セラミックス基板を用い、パワーモジュールのリーク電流の発生を抑制し、大電力化、大容量化した場合でも絶縁性、動作の信頼性を大幅に向上させることのできるパワーモジュールを提供する。
【解決手段】厚さ1.5mm以下の窒化けい素焼結体表面に幅が1μm以上のマイクロクラックがなく、幅が1μm未満のサブミクロンクラックが単位面積100μm当たりに0〜2個である窒化けい素焼結体から成り、一定条件下での電流リーク値が420nA以下、熱伝導率が50W/m・K以上、3点曲げ強度が500MPa以上、残留炭素含有量が500ppm以下である窒化けい素セラミックス基板2に金属回路板を設け、半導体素子を搭載してなるパワーモジュールであり、窒化けい素セラミックス基板2は、粒界相中における結晶化合物相の割合が20%以上であり、MgをMgOに換算して0.5〜3.0質量%含有する。 (もっと読む)


【課題】 高熱伝導性、高強度であり、かつ精密加工性を有し、ダストフリーであるプローブカード用の素材を提供する。
【解決手段】 平均粒子径が1.5μm以下、最大粒子径が15μm以下の金属ホウ素2.5〜10質量%、窒化ホウ素97.5〜90質量%の組成の原料からなり、原料全体の30質量%以上がGI値3〜10である窒化ホウ素を、非酸化性雰囲気下1,900℃〜2,100℃、圧力10〜30MPaで金属ホウ素が0.5質量%以下になるまでホットプレス焼成することを特徴とするプローブカード用素材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 高い熱伝導率を有し、しかも切削加工性の良い窒化アルミニウム焼結体を提供する。
【解決手段】 硬度が21000Pa、平均粒径が4〜9μmの窒化アルミニウム結晶粒を有する窒化アルミニウム焼結体であり、上記焼結体は、窒化アルミニウム結晶粒の三重点に、平均粒径が0.5〜2μmであり、好ましくは、Yを単一化合物として有する焼結助剤含有相を、焼結体中におけるYの割合が 1.4〜3.5質量%となる割合で有する。 (もっと読む)


【課題】dm nが140万を超えるような高速回転で使用されても寿命が長い転がり軸受を提供する。
【解決手段】玉3を、常温における熱伝導率が40W/(m・K)以上の窒化珪素焼結体からなるものとする。 (もっと読む)


【課題】高強度で反りが適正に調整された窒化珪素基板及びその製造方法並びにそれを使用した窒化珪素回路基板及び半導体モジュールを提供する。
【解決手段】窒化珪素原料粉に、酸化マグネシウムを3〜4重量%、少なくとも1種の希土類元素の酸化物を2〜5重量%を合計5〜8wt%になるように配合し、シート成形体とし、焼結した後、複数枚重ねた状態で0.5〜6.0kPaの荷重を印加しながら1550〜1700℃で熱処理することにより、β型窒化珪素と、イットリウム(Y)と、マグネシウム(Mg)を含有し、表面におけるMg量の分布を示す変動係数が0.20以下であり、反りが2.0μm/mm以下の窒化珪素基板を製造する。 (もっと読む)


【課題】 高熱伝導性で、優れた精密加工性を持ち、シリコンに近い熱膨張を示す半導体素子の検査に用いるプローブ案内部材を提供する。
【解決手段】 窒化ホウ素37〜44質量%、窒化アルミニウム54〜60質量%、イットリアを含む焼結助剤1〜4質量%かつ相対密度92%以上のBN−AlN複合焼結体を用いるプローブ案内部材。熱伝導率70W/mK以上、熱膨張係数2.5〜3.5ppm/K、ショア硬度45〜58であるプローブ案内部材。 最大粒径10μm以下の窒化アルミニウム、GI値3〜10の窒化ホウ素、イットリア1〜3質量%及びアルミナ3質量%以下(0質量%を含む)の原料を用いて、圧力10〜30MPa、温度1,750〜1,900℃、保持時間1〜3時間のホットプレス焼成を用いるプローブ案内部材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本来備える高強度特性に加えて、熱伝導率が高く放熱性に優れた窒化けい素焼結体の製法を提供する。
【解決手段】酸素を1.7重量%以下、不純物陽イオン元素としてのAl,Li,Na,K,Fe,Ba,Mn,Bを合計で0.3重量%以下、α相型窒化けい素を90重量%以上含有し、平均粒径1.0μm以下の窒化けい素粉末に、希土類元素を酸化物に換算して2.0〜17.5重量%,Mgを酸化物に換算して0.3〜3.0重量%添加した原料混合体を成形して成形体を調製し、得られた成形体を脱脂後、温度1700〜1900℃で焼結し、上記焼結温度から、1500℃までの冷却速度を毎時100℃以下にして徐冷することにより、粒界相中における結晶化合物相の粒界相全体に対する割合を20%以上とすることを特徴とする高熱伝導性窒化けい素焼結体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】表面積が広く薄肉の窒化アルミニウム成形体、あるいは複雑形状の窒化アルミニウム成形体を製造する場合であっても、流動性が高く、脱脂性に優れ、グリーン成形体を作製した場合に保形性が良好である射出成形用窒化アルミニウム組成物を提供すること。
【解決手段】下記条件(1)および(2)を満たす窒化アルミニウム粉末100重量部、エチレン・酢酸ビニル共重合体3〜15重量部、ワックス3〜12重量部、および高級脂肪酸0.5〜5重量部を含有することを特徴とする射出成形用窒化アルミニウム組成物。
(1)D90/D10≦3.5
(2)D50≦1.0μm
〔D90は、窒化アルミニウム粒子の粒度分布における累積体積%が90%のときの粒子径であり、D10は、窒化アルミニウム粒子の粒度分布における累積体積%が10%のときの粒子径であり、D50は、窒化アルミニウム粒子の粒度分布における累積体積%が50%のときの粒子径である。〕。 (もっと読む)


【課題】炭化珪素焼結体本来の優れた特性を保持しながら炭化珪素単相の焼結体よりも良好な加工性を示し、優れたセラミックス構造材料となりうる炭化珪素/窒化硼素複合材料焼結体、および炭化珪素/窒化硼素複合材料焼結体の新たな製造方法を提供する。
【解決手段】上記焼結体は、炭化珪素55〜92質量%、六方晶窒化硼素5〜35質量%ならびに焼結助剤等を3〜25質量%の割合で含有し、酸素不純物含有量が0.2質量%以下であり、曲げ強度が400MPa以上である。上記製造方法は、炭化珪素粉末および六方晶窒化硼素粉末を含む混合粉末を焼成する前に真空または不活性雰囲気中1450〜1650℃の温度で熱処理する工程を備える。 (もっと読む)


【課題】 高強度高靱性化を図ることができるとともに、放熱性を向上することができる窒化珪素質焼結体およびその製法ならびに回路基板を提供する。
【解決手段】 β−Siおよびβ−サイアロンのうち少なくとも1種の結晶粒子1と粒界相3とからなる窒化珪素質焼結体であって、結晶粒子1内に、該結晶粒子1の他の部分よりもAl存在量が多いAl多領域5を有するとともに、Al多領域の平均径が2μm以上であり、かつAlを全量中0.053〜0.422質量%含有すること、望ましくは0.159〜0.238質量%含有することを特徴とする。これにより、焼結体の強度と靱性を向上できるとともに、焼結体の熱伝導率を高くすることができ、放熱性を向上できる。 (もっと読む)


【課題】高気孔率でありながらも高強度であり、熱伝導率が高く耐熱衝撃性に優れ、比較的低温で焼結させることで製造可能な炭化珪素質多孔体を提供する。
【解決手段】金属珪化物を1〜30質量%含有し、気孔率が38〜80%の炭化珪素質多孔体である。 (もっと読む)


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