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Fターム[4G026BE04]の内容

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Fターム[4G026BE04]に分類される特許

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【課題】低コストで耐熱衝撃性などに優れた信頼性の高いセラミックス回路基板を提供する。
【解決手段】セラミックス基板12の一方および他方の表面に金属回路板14および金属板16がそれぞれ接合されたセラミックス回路基板10において、セラミックス回路基板10が金属回路板14側に凹状に反っているときのセラミックス回路基板10の反り量を正(+)の反り量とすると、セラミックス回路基板の初期の反り量が+0.078〜+0.225mm、セラミックス回路基板10の350℃に加熱したときの反り量が+0.015〜+0.048mmであり、その後に室温に戻したときの反り量が+0.176〜+0.405mmである。 (もっと読む)


【課題】低温度で製造できると共に、窒化アルミニウムを高密度とすることができ、しかも、半導体モジュール等の発熱体と熱交換器との間に介在されたときに発熱体と熱交換器との間で電気的絶縁性を確保しながらも発熱体から熱交換器への熱抵抗の増大を抑える。
【解決手段】溶融アルミニウム4を窒素ガス雰囲気中でマグネシウム5を助剤として900から1300℃までの範囲に昇温して窒化アルミニウム6を溶融アルミニウム4上に直接形成し、アルミニウム4と窒化アルミニウム6とを接合し、Al−AlN複合材料8を製造する。窒化アルミニウム粉末を1900℃以上の高温度で焼結する工程を行う必要がない分、1900℃以上の高温度に対して900から1300℃までの範囲の低温度で製造できると共に、窒化アルミニウム6を高密度とすることができる。 (もっと読む)


【課題】金属部材とセラミッ部材との信頼性の高い接合が可能で、かつセラミック部材にクラックが発生することのない接合構造体、及びそのような接合構造体を備えた高信頼性の半導体素子収納用パッケージを提供する。
【解決手段】金属からなる第1の部材11と、この第1の部材11に接合される、表面に金属層12aを有するセラミックからなる第2の部材12と、第1の部材11上から第2の部材12の金属層12a上に跨って配置される金属からなる第3の部材13と、第1の部材11および第2の部材12の金属層12aと、第3の部材13との間に配置されるろう材14と、第3の部材13の周囲にろう材14により形成されるフィレット15,16とを具備し、第3の部材13は、第1の部材12と対向する部分にのみろう材14の溜まり部となる面取部17を備える接合構造体、及びこのような接合構造体を有する半導体素子収納用パッケージ。 (もっと読む)


【課題】水蒸気の電気分解で発生した水素を貯蔵した上で発電に利用する水素電力貯蔵システムにおいて、発電時に発生する熱を有効に利用して総合効率を向上させる。
【解決手段】水素電力貯蔵システム30は、水素と酸化剤ガスとを用いて発電する発電部および水蒸気を電気分解する電解部(電力/水素変換装置11)を具備する。水素電力貯蔵システム30は、電気分解により生成された水素を貯蔵し、当該水素を発電時に発電部に供給する水素貯蔵部12と、発電に伴って発生する高温の熱を貯蔵し、当該熱を電気分解時に電解部に供給する高温蓄熱部13と、高温蓄熱部13で熱交換された後の低温の熱を貯蔵し、当該熱で電解部に供給する水蒸気を発生させる低温蓄熱部31とを具備する。 (もっと読む)


【課題】陶器にガラスを溶着しようとするとガラスが溶けて液状になり、固形のままで溶着する事が不可能であった。この様な不都合を解決すること。
【解決手段】最初に陶器全体に高温用釉薬を塗り高温で焼く。次に高温で焼成済みの陶器に低温用釉薬を陶器のガラスを溶着したい部分に塗り、その低温用釉薬が塗られた部分にガラスを置く。そして再度、ガラスは溶けないが低温用釉薬は溶ける低温で再度焼くことによりこの課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】捕集した粒子状物質を燃焼する操作(再生)を繰り返したときに、ハニカム構造体が分断されることを防止でき、更にアイソスタティック強度を向上させ及び再生時の最高温度を抑制できるハニカム構造体を提供する。
【解決手段】複数のセル1を区画形成する多孔質の隔壁2及び最外周に位置し隔壁2より厚い外周壁3を有し、一方の端部が開口され且つ他方の端部が目封止された第1のセル1aと、一方の端部が目封止され且つ他方の端部が開口された第2のセル1bとが交互に配設され、中心軸方向に直交する断面において第1のセル1aの面積が第2のセル1bの面積より大きく、外周壁3が、第1のセル1aの外形に沿う部分が凸状に形成されると共に第2のセル1bの外形に沿う部分が凹状に形成されたハニカムセグメント4を、複数個備え、複数個のハニカムセグメント4が接合部により接合されたハニカム構造体100。 (もっと読む)


【課題】本発明は、大型の加圧装置を用いることなく容易に接合でき、実用に耐える接合強度が得られるAl合金-セラミックス複合材料用の接合材を提供する。
【解決手段】Al合金をマトリックスとし、強化材にセラミックスを用いたAl合金-セラミックス複合材料同士を接合するための接合材であって、芯を構成する芯材と、表層を構成する表層材と、前記芯材と前記表層材との間に形成された中間層と、を含むことを特徴とするAl合金-セラミックス複合材料用の接合材。前記芯材の主成分がZnであり、前記表層材の主成分がAlである。 (もっと読む)


【課題】多孔質体どうしを接合した積層構造体において、多孔質体の材質によらず接合性に優れるものを提供すること。
【解決手段】第1の多孔質体11と、前記第1の多孔質体11に積層された第2の多孔質体12と、前記第1の多孔質体11と前記第2の多孔質体12との間に介在して両多孔質体間を接合する接合材13とを有する積層構造体1であって、前記第1の多孔質体11と前記第2の多孔質体12との間には、両多孔質体間を連通させる連通部14が形成され、かつ前記接合材13の少なくとも表面部が金属材料からなるもの。 (もっと読む)


【課題】絶縁物と導体ピンとの接合状態の信頼性と、生体の安全性との双方を、同時に確保する。
【解決手段】
セラミック体と金属体との接合体であって、セラミック体の表面に設けられた、Ptを主成分としTiを含有するメタライズ層と、前記メタライズ層上に設けられた、Auを主成分として含む金属ロウと、を備え、前記メタライズ層と前記金属ロウとを介して、前記セラミック体と前記金属体とが接合されていることを特徴とする、セラミック体と金属との接合体を提供する。 (もっと読む)


【課題】接合部分の欠陥が有意に抑制されるとともに、比較的均質な接合体を得ることが可能な窒化珪素系セラミックス部材の接合方法。
【解決手段】本発明による方法は、(a)シリコン粒子を含む第1の原料を調製するステップと、(b)第1の原料から成形体を形成するステップと、(c)窒素雰囲気下、1100℃〜1450℃の範囲のいずれかの温度に前記成形体を保持し、該成形体中のシリコン粒子を反応焼結処理するステップと、(d)第1の原料と同様の第2の原料を調製するステップと、(e)第2の原料からスラリーを調製するステップと、(f)後に接合材が形成される前記被接合部材同士の隙間に、前記スラリーを注入して、接合材を形成させるステップと、(g)ステップ(c)と同様の反応焼結処理により、前記接合材中のシリコン粒子を反応焼結処理するステップと、を有する。 (もっと読む)


【課題】 セラミックハニカムフィルタとしての耐熱性と、目封止部と隔壁との強度を確保しつつ、低い焼成コストで得ることができるセラミックハニカムフィルタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 隔壁により区画された流路を有するセラミックハニカム構造体の所定の流路に目封止部が形成されたセラミックハニカムフィルタであって、前記セラミックハニカム構造体が少なくともチタン酸アルミニウムの主結晶相と、MgOとSiO2とを含むガラス相とからなり、前記目封止部がコーディエライトを主結晶相とし、前記セラミックハニカム構造体の隔壁と前記目封止部との境界部に融合部と非融合部が存在していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】セラミック基体と接続端子との分離を抑制することができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】長手方向に延びるセラミック基体と、セラミック基体の表面に設けられた電極パッドと、外部回路と電気的に接続する接続端子と、電極パッドと接続端子とを接合する接合部と、を備えるセラミック接合体を利用する。ここで、電極パッドは、セラミック基体と接する第1層と、第1層上に積層されるとともに接合部と接する第2層と、を含む。第1層は、前記第1層に含有される前記セラミック基体のセラミック材料の含有量(wt%)は、前記第2層での含有量よりも多い。第1層の輪郭は、全周において、第2層の輪郭の外側にある。 (もっと読む)


【課題】
セラミックス基材の中に高融点金属電極層を内蔵した従来のセラミックサセプターでは、内蔵電極層とNi電極棒の接合部で破断、折損等が起こり易い。折損、剥離、破断すると修復不能で、高価なサセプターでも廃棄されるのが常である。本発明は耐酸化性、機密性に優れ、破断、折損し難い新しい構造のセラミックスサセプター(通電部材)を提供する。
【解決方法】
セラミックス基材の中に、該基材と共に同時焼成された高融点金属からなる通電体を内蔵し、該通電体の電極端子との接合部露出面が該セラミックス部材の空所の中に位置してなると共に、該空所に電極端子が埋め込まれて該端子と該通電体露出面および該端子と該セラミックス基材の隙間をSi基合金の層で埋めてなる構造の通電体を内蔵するセラミック部材において、該Si合金の層が、該層と接する該通電体露出面および該セラミックス基材面に融着してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】酸化ジルコニウム基材を用いながらも、色彩豊かな装身具を作成する。
【解決手段】焼結後の酸化ジルコニウム基材10を加工工具100の回転軸方向に対して傾斜配置し、該酸化ジルコニウム基材に対して前記加工工具を片当たりさせた状態で、凹部12を加工形成する。更に、表面に凹部が形成された酸化ジルコニウム基材を用意し、この凹部に有色材料を挿入して色彩を持たせるようにして、美しい色彩が付加された装身具1を構成する。 (もっと読む)


【課題】経時的に安定な2つの部材の接合体を得る技術を提供する。
【解決手段】第1の部材の接合面上にSiO2薄膜を適宜の薄膜形成手法にて10nm以上10μm以下の厚みに成長させたうえで、該SiO2薄膜を酸溶液またはアルカリ溶液中に浸漬させ、該酸溶液またはアルカリ溶液中で、SiO2薄膜の表面に第2の基材を貼り合わせて貼り合わせ体を形成する。その後、該貼り合わせ体を所定の温度および雰囲気圧力にて所定時間保持する。 (もっと読む)


【課題】炭化ケイ素系材料でできた物品をろう付けによって組み立てるための方法を提供すること。
【解決手段】酸化性雰囲気下での非反応性ろう付けによる、炭化ケイ素系材料でできた少なくとも2つの物品の適度に耐火性のアセンブリのための方法であって、前記物品を非反応性ろう付け用組成物と接触させて配置し、前記物品及び前記ろう付け用組成物により形成された前記アセンブリを、酸化性雰囲気下で、適度に耐火性のジョイントを形成させるために、ろう付け用組成物を溶融させるのに十分なろう付け温度で加熱し、前記非反応性ろう付け用組成物が、シリカ(SiO2)、アルミナ(Al2O3)、及び酸化カルシウム(CaO)で構成される組成物Aであるか、あるいは、アルミナ(Al2O3)、酸化カルシウム(CaO) 、及び酸化マグネシウム(MgO)で構成される組成物Bである方法。
前記ろう付け用組成物及び有機バインダーの粉末を含むろう付け用懸濁物、ペースト。
耐火性ジョイント及びアセンブリ。 (もっと読む)


【課題】最終製品だけでなく、レジスト膜印刷時にも反りのない状態とする、あるいは、必要に応じて若干の反りを生じさせるなどの反りを制御する。
【解決手段】セラミックス基板2の表裏両面に金属板6,7がろう付け接合されるとともに、その表面側の金属板6に回路パターンが形成されてなるパワーモジュール用基板3であって、両金属板6,7のうちの少なくとも表面側の金属板6の表面に、内部応力を圧縮応力とした反り制御用めっき被膜8が形成されている。 (もっと読む)


【課題】捕集した粒子状物質を燃焼する操作(再生)を繰り返したときに、緩衝部に亀裂が発生することを防止でき、ハニカム構造体が分断されることを防止できるハニカム構造体を提供する。
【解決手段】流体の流路となる一方の端面から他方の端面まで延びる複数のセル1を区画形成する隔壁2と、側面5を形成する隔壁2aから外側に突き出るように配設された、中心軸方向の一方の端部から他方の端部まで延びる突出壁3とを有するハニカムセグメント4を複数個備え、複数のハニカムセグメント4が、互いの側面5同士が所定の距離を離して対向するように隣接して配置され、隣接する複数のハニカムセグメント4間に緩衝部11が配設されて、緩衝部11により複数のハニカムセグメント4が接合され、接合された複数のハニカムセグメント4の最外周12に外周部13が配設されたハニカム構造体100。 (もっと読む)


【課題】 セラミック表面に形成される凹凸が、結晶粒径より小さい、超微細なものであると、W等の高融点金属ペーストまたはCuやAg−Cu等にTi、Zr、Hf、Nb等の活性金属を添加したメタライズ組成物のペーストを塗布した後、加熱してもこのセラミック表面では十分なアンカー効果が得られず、メタライズ層はセラミック基板に対して高い密着力を得ることができない。
【解決手段】 平均結晶粒径より大きな凹凸を有する窪みおよび/または平均結晶粒径より大きな凹凸を有する突起を複数備えているセラミック基体1とする。 (もっと読む)


【課題】接合後の位置ズレが小さく、また、接合強度及び気密性が高く、中空部を有する場合でも中空部の寸法精度に優れた接合体が得られる炭化珪素焼結体の接合方法を提供する。
【解決手段】第一の炭化珪素焼結体11と第二の炭化珪素焼結体12とが金属珪素からなる接合層14を介して接合された炭化珪素接合体であって、
前記第一の炭化珪素焼結体11は、金属珪素層13が形成される接合面11aを有し、前記第二の炭化珪素焼結体は、前記金属珪素層と当接する接合面11bを有し、前記第一及び第二の炭化珪素焼結体の各接合面は、いずれも表面粗さRa0.6μm以下であって、前記金属珪素層が熱処理されてなる接合層14を介して接合されたことを特徴とする炭化珪素接合体。 (もっと読む)


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