【課題】優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の成膜を可能にする酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲットおよび酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 実質的に亜鉛、チタン、酸素および窒素からなる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料であって、該透明導電膜形成材料は、チタンが原子数比でＴｉ／（Ｚｎ＋Ｔｉ）＝０．０２超０．１以下、窒素とチタンが原子数比でＮ／Ｔｉ＝０．１〜０．６となるよう含有されている酸化物混合体または酸化物焼結体であり、前記酸化物混合体が、酸化亜鉛相、低原子価酸化チタン相および窒化チタン相から構成され、前記酸化物焼結体が、酸化亜鉛相、チタン酸亜鉛相、窒化チタン相から構成される。 （もっと読む）

本発明は、特にセラミック焼結部品の製造のための粒状粉体であって、乾燥物質を基準として、重量による次の化学組成、すなわち：２５℃以下のガラス転移温度を有する少なくとも１％の第１バインダー；２５℃超のガラス転移温度を有する０〜４％の追加のバインダー；第１バインダーおよび追加のバインダーとは異なる０〜４％の一時添加剤であって、第１バインダー、追加のバインダーおよび一時添加剤の合計含有率が９％未満である一時添加剤；セラミック材料を焼結するための０〜１５％の添加剤；少なくとも２％の不純物；ならびに１００％となるまでの残分の、セラミック材料および任意的に前記セラミック材料を安定化する剤を含む前記粉体に関する。本発明によれば、この粉体の中央粒径Ｄ_５０は８０〜１３０μｍであり、パーセンタイル値Ｄ_９９．５は５００μｍ未満であり、顆粒の相対密度は３０％〜６０％である。 （もっと読む）

【課題】
導電性付与剤を構成する導電性化合物粒子が焼結体中に均一に分散しておらず、磁気ヘッド用基板として放熱性が低く、磁気ヘッドに形成されたコイルから発熱した熱により磁気ディスクに保存された記録を破壊しやすい。
【解決手段】
主成分であるアルミナと、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗの群から選ばれる少なくとも１種以上の炭化物、窒化物または炭窒化物からなる導電性化合物粒子からなる導電性付与剤とを含む焼結体からなり、磁気ヘッド用素子を形成するための主面を有する磁気ヘッド用基板であって、上記導電性化合物粒子が上記主面から深さ１ｍｍまでの領域の主面に平行な面において分布密度５×１０^５個／ｍｍ^２以上に分散していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高靭性であり、耐摩耗性にも優れ、更に切削性能が高く、加圧焼結に拠らずに製造することのできるアルミナ基セラミック焼結体、切削インサート及び切削工具を提供すること。
【解決手段】タングステン、チタン、炭素及び窒素を含む硬質粒子と、酸化アルミニウム粒子とを含むアルミナ基セラミック焼結体であって、前記アルミナ基セラミック焼結体中に含まれる全硬質粒子のうちの一部が針状粒子であることを特徴とするアルミナ基セラミック焼結体、そのアルミナ基セラミック焼結体を使用する切削インサート、その切削インサートを使用する切削工具。 （もっと読む）

【課題】セラミック焼結体の表面に十分な厚み有し密着性の高い硬質被膜を形成でき、高い耐摩耗性や長寿命を実現できるセラミック焼結体、被覆セラミック焼結体、切削インサート、及び切削工具を提供すること。
【解決手段】非導電性セラミックスを主体とし、導電性の硬質成分として、タングステン及び／又はチタンの炭化物、窒化物、炭窒化物を含むセラミック焼結体１に対して、物理蒸着法によってセラミック硬質膜２を被覆して被覆セラミック焼結体を作製し、この被覆セラミック焼結体により切削インサート３を構成する。このセラミック焼結体１は導電性を有しているので、物理蒸着法によってセラミック焼結体の表面に十分な膜厚を有し強固に密着するセラミック硬質膜２を形成することができる。従って、この被覆セラミック焼結体からなる切削インサート３は、高い耐摩耗性を有し長寿命を実現することができる。 （もっと読む）

本発明の対象は、カッティングテンプレート又はソーブロック、好ましくは医療技術において使用するためのカッティングテンプレート又はソーブロックである。 （もっと読む）

【課題】 従来のタンタルを使用したタンタルコンデンサよりも消費電力及び容量劣化が小さく、信頼性の高いコンデンサの提供。
【解決手段】 ケイ素−酸素結合を有する化合物及びタンタルまたはニオブを含有する粉体組成物であって、前記タンタルまたはニオブの表面の少なくとも一部がケイ素−酸素結合を有する化合物で覆われている粉体組成物、その組成物を用いた焼結体、及びその焼結体を一方の電極とし、その焼結体表面上に形成された誘電体と他方の電極とから構成されるコンデンサ。 （もっと読む）

【課題】タングステンに窒化物が均一に分散された窒化物／タングステンナノ複合粉末を製造する方法、及びその方法によって製造された窒化物／タングステンナノ複合粉末を提供する。
【解決手段】窒化物／タングステンナノ複合粉末の製造方法に、窒化物とタングステンを混合するとか、窒化物とタングステン合金を混合する段階と、上記混合物を不活性雰囲気でミリングマシーンを使用して機械的合金化することを含む。 （もっと読む）

【課題】医療、輸送機器、機械、電子機器の各分野で利用される粉体材料において、大粒径の粉末の表面に小粒径の粉末をコーティングする際に、粉末の変形や不純物汚染を起こすことなく行うことができるコーティング方法及び装置を提供する。
【解決手段】大小少なくとも２種以上の平均粒径からなる粉末２，３を密閉容器１１内に収容し、収容された粉末２，３を気流３０によって浮遊循環して大粒径の粉末２の表面に小粒径の粉末３を付着するコーティング方法により、上記課題を解決した。また、コーティング装置１０としては、大小少なくとも２種以上の平均粒径からなる粉末２，３を収容するための密閉容器１１と、密閉容器１１内に設けられて前記粉末２，３を気流３０によって浮遊循環させるための気流発生装置１４と、大粒径の粉末２の表面に小粒径の粉末３を付着させる条件を制御するための制御装置２１とを有するようにして、上記課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】高価で資源枯渇の懸念のある原料Inを有しない透明導電体の開発において、単一ドーピング法という従来の開発手法の限界を超えるとともに、Co-doping理論を実現させる窒素添加を、雰囲気からのガス供給では膜面内に窒素濃度の偏析が生じてしまう問題を解決して、ITOと同等レベルの低抵抗率な透明導電膜を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛、酸化亜鉛に対してn型ドーパントとなる元素、および金属窒化物からなる焼結体であって、酸化亜鉛中の亜鉛の原子数をZn、酸化亜鉛に対してn型ドーパントとなる元素の原子数をA、および金属窒化物中の金属元素の原子数をB、窒素の原子数をCとするときに、(A+B)/(Zn+A+B)の値が0.02以上0.08以下であり、かつ、C/(A+B)の値が0.3以上0.７以下である焼結体を作製することで、ドーパントの適切濃度範囲をターゲットの組成の段階で実現させ、当該焼結体をスパッタすることで、低抵抗率透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】電気加工が良好に行える範囲の導電性を持ち、かつ主成分である非導電性セラミックスの性質を損なうことのない導電性複合セラミックスを提供する。
【解決手段】Ａｌ_２Ｏ_３やＺｒＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４などの非導電性セラミックスは、電気加工が不能であるために複雑形状の金型や精密加工用部材として製造ができない。これらの放電加工が困難な主成分を持つセラミックスにＴｉＣ，ＴｉＮ，ＷＣ，ＴａＣ，ＭｏＣ，ＮｂＣ，ＶＣのいずれか一種以上からなる導電性セラミックス粒子を０．５〜１５体積％添加し、導電性を付与することにより、電気加工が可能となる。得られた導電性複合セラミックスは、電気加工が良好に行える範囲の導電性（１×１０^−３(Ω・ｃｍ)）を持ち、かつ主成分である導電性セラミックスの性質を極力損なわないように、導電性粒子の添加量を少なく押さえることが可能である。 （もっと読む）

【課題】イオン性液体の特徴を潤滑油またはグリースとして有効に活用することが可能で、優れた耐久性を有する転動装置を提供する。
【解決手段】イオン性液体を含む潤滑油またはグリースが封入され、内輪１９、外輪１７および転動体２０の少なくとも一つがセラミック材で形成されている、転動装置１１を提供するものである。かかる転動装置は、転がり軸受、ボールねじ、リニアガイドの転動装置として好適に用いられる。 （もっと読む）

【課題】相変化記録媒体の界面層膜の成膜等に用いられるスパッタリングターゲットの製造方法において、均質で歩留まりの良いターゲットを得るための製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｔｉ，ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種のＭ元素の酸化物粉末とＭ元素の窒化物粉末を混合、成形した後、焼結する工程を具備することにより、スパッタリングターゲットは、Ｍ（Ｏ_1-xＮ_x）_z（ＭはＴｉ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも1種の元素、0＜ｘ≦0.7、0.5≦ｚ≦2.0（原子比））、または（Ｍ_1-aＣｒ_a）（Ｏ_1-xＮ_x）_z（ＭはＴｉ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも1種の元素、0.1≦ａ≦0.5、0＜ｘ≦0.7、0.5≦ｚ≦2.0（原子比））で表される組成を有する。 （もっと読む）

【課題】 流動界面ゾル−ゲル法により得られるゲルナノシートを、基材表面に大面積無欠陥で積層してセラミックスナノシート積層膜を製造する。
【構成】 化学修飾した一種以上の金属アルコキシドを部分加水分解によりポリマー化し、このポリマーを水に対する適度な溶解性を有する溶媒を用いて所望の濃度の溶液にした後、流動界面ゾル−ゲル法でゲルナノシート化し、これを基材に転写して、必要により焼成することを特徴とするセラミックス積層膜の製造方法を提供し、この方法により、基材上に実質的に厚みが１０〜１０００ｎｍであるセラミックスナノシートを任意の枚数積層した構造のセラミックスナノシート積層膜が提供される。 （もっと読む）

【課題】低温焼結で緻密化することができ、高い硬度と強度とを有するセラミックス焼結体を提供すること、このセラミックス焼結体により形成されて成る、優れた耐摩耗性及び耐チッピング性等を有する切削インサート、及びこの切削インサートを備えてなる切削工具例えばフライスカッターを提供すること。
【解決手段】チタン、タングステン及びジルコニウムの炭窒化物２０〜８０体積％と、酸化アルミニウム８０〜２０体積％と、不可避不純物とを含有することを特徴とするセラミックス焼結体、前記セラミックス焼結体で形成されて成ることを特徴とする切削インサート、及び前記切削インサートと、この切削インサートを保持するホルダーとを有することを特徴とする切削工具例えばフライスカッター。 （もっと読む）

【課題】微細なＴｉＮを分散粒子とするセラミックス焼成体を容易に得る製造方法を確立することを目的とする。
【解決手段】粉末α及びＴｉＮ粉末を含む混合粉末を製造する方法であって、粉末αと、還元、窒化処理することによりＴｉＮ粉末を生成する前駆体としてのＴｉＯ_２粉末とを含む原料混合物を得る工程と、Ｎ_２ガス及びＨ_２ガスの混合ガス雰囲気下、１０００〜１２００℃で原料混合物を加熱処理することにより、ＴｉＯ_２粉末をＴｉＮ粉末に還元、窒化する工程と、得られた混合粉末を焼結する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】 分散状態の優れたＡｌ₂Ｏ₃粉末及びＴｉＣ粉末の混合物を提供し、ひいては結晶組織の微細なセラミックス焼結体を製造することを目的とする。
【解決手段】 Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂及びＣを含む原料混合物を用意し、この原料混合物にマイクロ波を照射することにより、Ａｌ₂Ｏ₃粉末と、ＴｉＣ粉末及び／又はＴｉＣＮ粉末とを含む混合粉末を得ることを特徴とする混合粉末の製造方法である。本発明において、マイクロ波の照射により、原料混合物のＣが選択的に加熱される。したがって、Ａｌ₂Ｏ₃はＣの加熱に伴って加熱されるにすぎないため、粒成長が生じるほどの昇温を免れる結果、粒成長が抑制される。また、原料のＣとしてアセチレンブラックのように数十ｎｍという微細な粉末を用いることができるため、ＴｉＣ粉末及び／又はＴｉＣＮ粉末も微細なものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】 緻密であり低熱膨張性を有するとともに、黒色を呈し抵抗値の低い半導体製造装置用部材として好適なセラミックスを提供する。
【解決手段】 ユークリプタイトを７０〜８５体積％、ＴｉＢ₂、ＺｒＢ₂、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＮ、β−ＳｉＣから選ばれる１種以上の導電性化合物を４．９〜２３体積％、窒化ケイ素を０．１〜３．９体積％、カーボンを３．１〜１０体積％含有し、かつ、体積固有抵抗率が１０⁵Ω・ｃｍ以下、２０℃〜３０℃における熱膨張係数が−１×１０^-6〜１×１０^-6／℃、相対密度が９５％以上である黒色低抵抗セラミックスを半導体製造装置用部材として用いる。 （もっと読む）

【課題】寸法安定性に優れると共に高い面精度が得られ、かつ、低電圧で高速駆動可能な静電チャックを提供することのできる材料を供給する。
【解決手段】化学組成がＭｇＯ：８〜１７．２質量％、Ａｌ_２Ｏ_３：２２〜３８質量％、ＳｉＯ_２：４９．５〜６５質量％、Ｌｉ_２Ｏ：０．１〜２．５質量％、Ｔｉ化合物（ＴｉＯ_２換算）：０．１〜１質量％の範囲内にあり、化学組成の質量比が（ＳｉＯ_２−８×Ｌｉ_２Ｏ）／ＭｇＯ≧３、（ＳｉＯ_２−８×Ｌｉ_２Ｏ）／ Ａｌ_２Ｏ_３≧１．２であり、室温（23℃）における熱膨張係数の絶対値が６×１０^−７／℃以下、ヤング率が１００ＧＰａ以上、比剛性が４０ＧＰａ・ｃｍ^３／ｇ以上、体積抵抗率が１×１０^９Ωｃｍ以上１×１０^１１Ωｃｍ未満であることを特徴とする低熱膨張高比剛性セラミックス焼結体。 （もっと読む）

【課題】極めて微粒かつ均一な粒径の凝集粒子を構成する低温焼結可能なセラミックス粉末を、簡単かつ生産性よく合成することのできるセラミックス粉末の合成方法を提供する。
【解決手段】溶媒の存在下、水熱合成することによりセラミックス粉末を合成する方法である。セラミックス粉末を構成する原材料と、生成するセラミックス粉末とを連続的に混合しながら水熱合成する。 （もっと読む）