【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス素板を中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工する形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面を研磨する研磨工程と、前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程とを有し、前記ガラス基板は、ヤング率が６８ＧＰａ以上で比弾性率が２７ＭＮｍ／ｋｇ以上のアルミノシリケートガラスからなる基板である。そして、前記研磨工程は、一次粒子の平均粒子径が１〜８０ｎｍのシリカ粒子を含有し、ｐＨが３．５〜５．５で電気伝導率が７ｍＳ／ｃｍ以下である研磨液と、研磨パッドを用いて前記ガラス基板の主平面を研磨する仕上げ研磨工程を有する。 （もっと読む）

【課題】良好な二次加工が可能なガラス製のレンズブランクとその製造方法、並びにレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】光学機能面に仕上げられる対向する二つの主表面Ｒ１，Ｒ２と、これら二つの主表面を囲む側面コバ４を備え、研磨を含む二次加工が施されてレンズに仕上げられるガラス製のレンズブランク１の側面４に、一方の主表面側から他方の主表面側へと向かう凹部６および／または凸部５を形成する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成によって、ガラス基板表面の傷の大小に関わらずガラス基板表面の傷が表示画像の質に悪影響を与えることを防止することが可能なフラットパネルディスプレイ用ガラス基板および同ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 この発明に係るフラットパネルディスプレイ用ガラス基板１００は、素ガラス１０および透光性ポリマー膜１２を備える。素ガラス１０は、エッチングにより算術平均粗さＲａが例えば０．７ｎｍ〜７０ｎｍになるように粗面化処理された表面を有する。透光性ポリマー膜１２は、素ガラス１０における表面処理された表面に塗布される。この透光性ポリマー膜１２は、その厚みが例えば０．５μｍ以上である。 （もっと読む）

【課題】
ガラスに対して高い研磨速度を持ち、研磨することによる傷も発生しない、安価な遊離砥粒研磨用研磨剤を提供すること。
【解決手段】
平均２次粒子径が１から３μｍであり、２次粒子径１０μｍ以上が無く、２次粒子形状が球状又は等軸状である砥粒であり、造粒したＭｎ_３Ｏ_４を温度８００℃から１０００℃で焼成させたものであるＭｎ_２Ｏ_３砥粒からなる遊離砥粒研磨用研磨剤はガラスに対して高い研磨速度を有し、研磨による傷発生も無いことから、ガラスに対する研磨性能に優れる。 （もっと読む）

【課題】主表面の表面凹凸を抑制した磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法及び磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板を製造するとき、溶融ガラスあるいは軟化したガラスを両側から挟むように金型の平面状のプレス成形面でプレスすることにより、ガラスブランクを成形する。この後、前記ガラスブランクを研磨する。ガラスブランクのプレス中、ガラスブランクの一対の主表面周りの温度条件を揃える。 （もっと読む）

【課題】セリウム系研磨剤を用いてガラスを研磨する工程の後に、ガラスに付着した該セリウム系研磨剤を、熱濃硫酸を用いることなく、且つ洗浄に対する高度の要求を満たすように洗浄する工程を含むガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ランタンを含むセリウム系研磨剤でガラスを研磨する研磨工程とその後に洗浄液で該ガラスを洗浄する洗浄工程とを含むガラス製品の製造方法であって、該ランタンを含むセリウム系研磨剤がＬａＯＦ結晶を含まないセリウム系研磨剤であり、かつ該洗浄液がアスコルビン酸およびエリソルビン酸の少なくとも一方を含む洗浄液であるガラス製品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】研磨ブラシを用いることなく、内周面取り部と内周側面部とを均一かつ安定的に研磨する方法を提供すること。
【解決手段】中央部に内周端面をなす円形孔を有する複数の円盤形状ガラス基板を、前記円形孔の位置をあわせて重ね合わせ、ガラス基板積層体を形成するガラス基板積層体形成工程と、前記ガラス基板積層体の中央部に形成された前記内周端面の内側の領域に砥粒を含む研磨液を封入する研磨液封入工程と、前記ガラス基板積層体の内周端面に対して前記砥粒が接触するように、前記研磨液が封入された前記ガラス基板積層体を振とうする振とう工程と、を含む、ガラス基板の内周端面研磨方法。 （もっと読む）

【課題】研磨パッドの硬度を調整することなく、１次研磨工程でガラス基板の端部形状を隆起状態に仕上げること。
【解決手段】ガラス基板の表面を粗研磨する１次研磨工程と、ガラス基板の表面を精密研磨する２次研磨工程とを含み、１次研磨工程では、ガラス基板を外周端部が中央部よりも隆起した状態に仕上げ、２次研磨工程では、ガラス基板の前記隆起状態をなくすように研磨する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、１次研磨工程では、研磨中にガラス基板の外周端部を研磨パッド２４と一時的に非接触状態とすることにより、ガラス基板の前記隆起状態を形成する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨剤の化学的研磨作用に大きく依存せずに、ガラス表面に対する高い研磨レートを確保すること。
【解決手段】ガラス基板の主表面に対して遊離砥粒を含む研磨液を供給しつつ研磨パッドを摺接させて研磨する工程を備える。研磨パッドの表面には、ガラス基板の主表面と摺接する摺接部と、摺接部間に形成される溝とを設ける。そして、研磨パッドの表面の１平方メートル当たりに形成されている摺接部のエッジの長さの合計を２００ｍ以上とし、かつ、研磨パッドの表面の全領域に対する摺接部の領域の面積比率である充填率を８０％以上とする。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Ｇであって、溶融したガラスＬＧの塊を落下させる落下工程と、ゴブＧＧの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面でゴブＧＧを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、を有し、一対の型１２１，１２２の少なくとも一方は、ゴブＧＧの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】カバーガラス板の外形枠加工やカバーガラス板表面の後加工を行わずに、任意の外枠形状及び表面形状を有するカバーガラス板を容易に製造することを可能とする、カバーガラス板の製造方法を提供する。
【解決手段】滴下工程（Ａ）では、下金型１の平面部１ａに一定量の溶融ガラス３を滴下する。プレス工程（Ｃ）では、平面部１ａ上の溶融ガラス３を上金型２でプレスすることにより、溶融ガラス３を上金型２の成形用の凹部２ａに充填し、更に凹部２ａから上金型２と下金型１との間にはみ出させて、そのはみ出し部分７ｂを有する予備成形体７を形成する。加工工程（Ｄ）〜（Ｇ）では、平面研削又は平面研磨によりはみ出し部分７ｂを予備成形体７からすべて取り除く。 （もっと読む）

【課題】光学ガラスのプレス品に対して、品質を低減させることなく低コストで研削加工を実行する。
【解決手段】光学ガラスを所定形状にプレス成形したプレス品を準備し（Ｓ５Ａ，Ｓ５Ｂ）、粗研削加工前の被研削面を有するプレス品に対して精研削加工用の研削面を有する導電性のカップ砥石を当接させて回転駆動させることで精研削を行い（Ｓ６ｂ）、この研削工程時に、カップ砥石の研削面と対向する位置に配設された電極とカップ砥石との間に導電性研削液を供給しながら、電極とカップ砥石間に所定の電圧を印加することで、研削面のドレッシングを行う電解インプロセスドレッシングを実行することで実現する。 （もっと読む）

【課題】研削工程、及び研磨工程における加工レートを向上させることで処理時間を短縮を可能としながら、平滑性やうねりの発生を抑制し、磁気記録媒体用のガラス基板として必要な特性を確保することのできる磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラスに組成揺らぎを持たせることが可能であるガラス組成において、組成揺らぎを促進させる熱処理温度でガラス基板の熱処理を行う工程、及び前記熱処理により分離したＳｉＯ_２濃度の薄い相の少なくとも一部を除去することで表面の加工性を向上させる工程を含み、前記ガラス基板のガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、前記熱処理温度がＴｇ〜Ｔｇ＋１００（℃）の範囲であることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】外周部の厚みが均一な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板前駆体を用いて磁気ディスク用ガラス基板を製造するものであって、該製造方法は、深さ方向に２相以上に分離した複数の液相を備えた洗浄浴を用いて実行される洗浄工程を含み、該洗浄工程は、洗浄浴の液相中最上相を除くいずれかの液相にガラス基板前駆体を浸漬させた後、最上相を通過させてガラス基板前駆体を引き上げる工程であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安定して均一な品質の磁気ディスク用ガラス基板を製造することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板前駆体を用いて磁気ディスク用ガラス基板を製造するものであって、該製造方法は、深さ方向に２相以上に分離した複数の液相を備えた洗浄浴を用いる洗浄工程を含み、該洗浄工程は、洗浄浴の液相中最下相に隣接する液相にガラス基板前駆体を浸漬させる工程であり、最下相に含まれる薬液成分の濃度は、最下相に隣接する液相に含まれる薬液成分の濃度よりも高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の主平面を、酸化セリウム砥粒を使用することなくかつ高い研磨速度で研磨して、加工の際に生じたキズやクラック等を除去し、平滑な主平面を有する磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、形状付与工程と、主平面研削工程と、主平面研磨工程とを備える。そして、主平面研削工程は、平均粒径０．０１μｍ〜１５μｍのダイヤモンド砥粒を有する固定砥粒工具を用いて研削する固定砥粒研削工程を有し、主平面研磨工程は、シリカ粒子、ジルコニア粒子等の酸化セリウム粒子以外の平均粒径５ｎｍ〜３０００ｎｍの砥粒を含む研磨液と、研磨パッドを用いて研磨する第１の研磨工程と、その後平均粒径が５〜５０ｎｍのシリカ砥粒を含む研磨液と研磨パッドを用いて研磨する第２の研磨工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】優れた耐衝撃性及び平坦性を備え、かつ光学歪みのない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】溶融ガラスから略円環状を有するガラス基板を得る円盤加工工程と、前記円盤加工工程によって得られたガラス基板に熱を加えて形状を矯正する第１アニール工程と、前記第１アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削する第１ラッピング工程と、前記第１ラッピング工程によって得られたガラス基板に再度熱を加えて形状を矯正する第２アニール工程と、前記第２アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削する第２ラッピング工程と、を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。また、前記第２アニール工程において加えられる熱の温度は、ガラス転移温度（Ｔｇ）より２０〜５０℃低いことが好適である。 （もっと読む）

【課題】強度が高く、かつ表面に傷やクラックが少ない磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたものであって、該ガラス基板前駆体の表面を研削する精ラッピング工程と、ガラス基板前駆体の外周端面および内周端面を研磨する端面研磨工程と、ガラス基板前駆体の表面を研磨する主表面研磨工程とをこの順に含み、端面研磨工程と主表面研磨工程との間に、ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた耐衝撃性及び平坦性を備え、かつ光学歪みのない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】溶融ガラスから略円環状を有するガラス基板を得る円盤加工工程と、前記円盤加工工程によって得られたガラス基板に熱を加えて形状を矯正するアニール工程と、前記アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削するラッピング工程と、前記ラッピング工程によって得られたガラス基板の表面を研磨する研磨工程と、前記研磨工程によって得られたガラス基板の残存応力を光学的に計測する応力計測工程と、を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。前記応力計測工程は、ガラス基板の複数箇所における複屈折量の測定を行うことが好適である。前記磁気情報記録媒体用ガラス基板に採用するガラス基板として、前記応力計測工程によって得られたガラス基板を選定する選定工程をさらに備えることが好適である。 （もっと読む）

【課題】化学強化処理後の基板毎の化学強化層の厚みのばらつきを低減できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板１の製造方法は、ガラス基板１を成形する工程と、主表面に化学強化層を形成する工程と、を備える。化学強化層を形成する工程は、化学強化処理槽２０内に貯留された化学強化処理液にガラス基板１を浸漬させる工程と、ガラス基板１を化学強化処理液中で移動させる工程と、を含む。移動させる工程は、化学強化処理槽２０の内壁２３ａ，２３ｂに沿って内壁２３ａ，２３ｂの水平方向長さＬ１，Ｌ２の半分以上に亘ってガラス基板１を水平方向に移動させる工程と、化学強化処理液の液深の半分以上に亘ってガラス基板１を垂直方向に移動させる工程と、の少なくともいずれか一方を有する。 （もっと読む）