【課題】強度が高く、かつハードディスクに搭載したときにヘッドクラッシュが生じにくい磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いた製造方法であって、ガラス基板前駆体の中心に穴をあけるコアリング工程と、ガラス基板前駆体の内周端面および外周端面を面取りする内外加工工程とを少なくとも含み、コアリング工程と内外加工工程との間に、ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の端面を酸化セリウム砥粒の使用をできるだけ抑えながら、かつ高い研磨速度で研磨し、面取り部等の端面にキズ等の加工変質層がない磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】内周端面の研磨と外周端面の研磨のうちの少なくとも一方を、平均粒径４μｍ〜２５μｍのアルミナ粒子、ジルコン粒子等の第１の砥粒を含有する第１の研磨液を用いて研磨する第１の端面研磨工程と、第１の砥粒より平均粒径が小さい第２の砥粒を含有する第２の研磨液を用いて研磨する第２の端面研磨工程との２段階の工程を順に行うことにより研磨する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フロート法によって製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として最適なガラス板に研磨するガラス板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明は、フロート法により製造されたガラス板Ｇであって、厚さが０．７ｍｍ以下であり、１辺の長さが１０００ｍｍ以上、ヤング率が６５ＧＰａ以上のガラス板Ｇを研磨対象とする。このガラス板Ｇの非研磨面をガラス保持部材１６によって保持し、ガラス板Ｇの研磨面にある高さ０．３μｍ以下のうねりを研磨具２６によって研磨することにより０．０５μｍ以下に低減させてフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を製造する。研磨具２６は、Ａ硬度が２０以上、Ｄ硬度が９９以下、厚さが１．０〜２．５ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。また、ガラス保持部材１６は、圧縮率が１０〜７０％、圧縮弾性率が７０〜９８、Ａ硬度が２〜２０、厚さが０．３〜２．０ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】研磨後の板厚のばらつきを低減可能なガラス基板の製造方法及びその方法に用いられる反り方向検出装置を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、複数のキャリア１４のそれぞれの反り方向を特定する反り方向特定工程と、複数のキャリア１４の反り方向を揃えてサンギヤ１３とリングギヤ１２間に複数のキャリア１４を配置するキャリア配置工程と、複数のキャリア１４の反り方向を揃えた状態で複数のガラス基板Ｇを研磨する研磨工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ光学基材用での成膜面における凹欠点の発生が抑制されたＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法の提供。
【解決手段】両面研磨装置１０の上下定盤１２，１４の研磨面でキャリア２０に保持されたガラス基板２２を挟持し、上定盤１２に設けられた供給孔から研磨粒子を含む流体を供給しつつ、上下定盤１２，１４と、キャリア２０に保持されたガラス基板２２と、を相対的に移動させてガラス基板２２の両主表面を研磨するＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）光学基材用ガラス基板２２の研磨方法であって、ＥＵＶＬ光学基材での成膜面が、下定盤１４の研磨面と対面するようにガラス基板２２を挟持ＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法。 （もっと読む）

【課題】高品質な化学研磨処理を安全に実現できるガラス基板の化学研磨装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板ＧＬを水平方向に搬送する搬送路と、搬送路を移動中のガラス基板に対して、化学研磨液を噴射してガラス基板を薄型化する研磨処理部１６，２２と、研磨処理部２２を通過して薄型化されたガラス基板に洗浄液を噴射して洗浄する洗浄処理部２４と、を有して構成され、研磨処理部１６へのガラス基板の導入部には、ガラス基板の表面を軽く保持して回転する回転ローラ４３と、研磨処理部１６の外側から回転ローラ４３に向けて水を噴射する噴射部ＮＺ１，ＮＺ２とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】ポリッシュ工程において酸化セリウムを用いることなく、又はその使用量を低減しつつ、十分な耐衝撃強度が得られると共に、そのような磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】中心孔を有する円盤状のガラス基板の内外周端面に対して、少なくとも研削加工を施す工程を含み、研削加工を施す工程は、ダイヤモンド砥粒を金属からなる結合剤で固定したメタルボンドダイヤ砥石を用いて、ガラス基板の内外周端面を研削する１次研削加工と、ダイヤモンド砥粒を樹脂からなる結合剤で固定したレジンボンドダイヤ砥石を用いて、ガラス基板の内外周端面を研削する２次研削加工とを含む。 （もっと読む）

【課題】鏡面板ガラスの主表面を微細な固定砥粒で研磨する際に、研磨開始時から高加工レートを実現でき、加工時間を短縮すること。
【解決手段】主表面が鏡面となっている鏡面板ガラス（３）を、固定砥粒であるダイヤモンドシート（１０）を用いて必要な平坦度及び表面粗さに加工するガラス基板の製造方法である。前処理としてダイヤモンドシート（１０）が研磨作用する程度まで鏡面板ガラス（３）表面を機械的方法又は化学的方法で粗面化する。その後、ダイヤモンドシート（１０）を用いて鏡面板ガラス（３）表面を加工して所望の板厚及び平坦度に加工する。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法であって、溶融したガラスの塊ＧＧを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面１２１ａ，１２２ａで前記塊ＧＧを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Ｇを加工する加工工程と、を有し、前記塊ＧＧの落下方向の速度成分について、前記一対の型１２１，１２２に対する前記塊ＧＧの相対速度を０に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊ＧＧが落下する方向に前記一対の型１２１，１２２が移動しながら、前記塊ＧＧを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】化学強化により所望の耐衝撃性能を有するディスプレイ装置用カバーガラスを提供する。
【解決手段】ディスプレイ装置用ガラスの素板から所定の形状のガラス板に加工する形状加工工程と、ガラス板を洗浄する洗浄工程と、洗浄したガラス板に化学強化を行なう化学強化工程と、を備えるディスプレイ装置用カバーガラスの製造方法であって、洗浄工程は、洗浄工程後、化学強化工程前におけるガラス板のＢＯＲ強度が４００Ｎ以上となるように、ガラス板の少なくとも一方の主表面にロールブラシの先端を当接させることでガラス板を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】角部分の耐衝撃性が優れること。
【解決手段】イオン交換法により形成された圧縮応力層３０Ｕ、３０Ｂが、表面２０Ｕ側と裏面２０Ｂ側とのみに設けられ、端面４０Ａが、凸を成す曲面であり、端面４０Ａの表面粗さＲａが１０ｎｍ以下である携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板、携帯型電子機器用画像表示装置、携帯型電子機器、および携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】非晶質ガラス基板の研磨において、高い研磨速度で研磨でき、研磨後の基板表面の表面粗さ、ピット、及びキズの欠陥を低減でき、好ましくは、加えて低コストでガラスハードディスク基板を製造できる研磨液組成物の提供。
【解決手段】セリア粒子、シリカ粒子、及び水を含有する非晶質ガラス基板用研磨液組成物であって、前記研磨液組成物中におけるセリア粒子とシリカ粒子の合計含有量が４〜２０重量％であり、前記セリア粒子と前記シリカ粒子との重量比（セリア粒子／シリカ粒子）が５／９５〜３０／７０であり、ｐＨが４〜１２である、非晶質ガラス基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをｔ１、加工時の前記アモルファスガラスの厚さｔ２とするとき、ｔ２／ｔ１≦１．２の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が０．１〜５μｍのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを０．５ｎｍ以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス（MW-Rq）を０．５ｎｍ以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび／またはギブサイトを含むものを使用する。 （もっと読む）

【課題】複数のガラス基板の板厚測定結果に基いて複数のガラス基板をグループに分け、グループに分けた複数のガラス基板をグループ毎に一度に精密研磨する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板を工程から抜き取ることなく、ガラス基板の板厚を非接触で精度よく測定する。
【解決手段】複数のガラス基板１０の板厚を測定する板厚測定工程と、板厚測定工程の測定結果に基いて複数のガラス基板１０をグループに分け、グループに分けた複数のガラス基板１０をグループ毎に一度に精密研磨する精密研磨工程とを含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、板厚測定工程では、ガラス基板１０に板厚方向に所定の波長帯域を有する光Ｌを照射し、ガラス基板１０の表面で板厚方向に反射した光ａと裏面で板厚方向に反射した光ｂとの干渉光を受光し、受光した干渉光を波長毎に分析することにより、光Ｌを照射したガラス基板１０の板厚を分光干渉によって測定する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、ガラス基板の研磨位置に応じて最適に研磨するガラス基板の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係るガラス基板の製造方法は、搬送されたガラス基板の両端面を研磨する研磨工程を含むガラス基板の製造方法において、両端面を研磨する一対の研磨砥石は、回動自在に保持されると共にガラス基板方向へ第１の力が付与され、且つ、ガラス基板の幅方向の変動に対して追従可能に保持されている。また、一対の研磨砥石は、研磨工程におけるガラス基板の搬入時、及び搬出時において、回動が規制されるように第２の力が付与されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の面取り部にピット欠陥がないガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板の内周端面研磨に用いる研磨ブラシとして、植毛部の幅が、積層されたガラス基板同士の積層幅（ガラス基板とスペーサを合わせた厚み。スペーサを使用しないガラス基板積層体の場合はガラス基板の厚み。）の１．１〜２．２倍である研磨ブラシを用いる。研磨工程終了後、ガラス基板の表面を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて５μｍエッチングし、面取り部に残留する加工変質層（キズなど）を等方的にエッチングして観察しやすい大きさのピット欠陥にした後、光学顕微鏡を用いて観察する。磁気記録媒体用ガラス基板１０の面取り部において、直径（または長径）が１０μｍ以上の円形状または楕円形状を有する凹をピット欠陥とし、その数を計測した。計測結果の面取り部のピット欠陥数は、５個／ｍｍ^２以下である。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換をすることなく、端面の加工傷を短時間で除去し、かつ端面を高品質に平滑化することが可能な端面研磨工程を提供する。
【解決手段】端面研磨工程では、回転自在の軸心３１ａと、剛性が相対的に高く、軸心３１ａからブラシ部の先端までの長さが相対的に短い第１ブラシ部３１ｃと、剛性が相対的に低く、軸心３１ａからブラシ部の先端までの長さが相対的に長い第２ブラシ部３１ｄとを有するブラシを用いてガラス基板の端面１３を研磨する。端面研磨工程は、第１ブラシ部３１ｃと第２ブラシ部３１ｄとをガラス基板の端面１３に接触させてブラシを軸心周りに回転させる第１研磨段階と、ガラス基板の端面１３とブラシの軸心３１ａとの間の距離が第１研磨段階よりも長くなった状態で、第２ブラシ部３１ｄのみをガラス基板の端面１３に接触させてブラシを軸心周りに回転させる第２研磨段階とをこの順に含む。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の端面の表面状態を高いレベルで平滑に仕上げることができ、かつコストを抑制できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】円形ディスク形状のガラス基板１の表面に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板１を成形する工程と、ガラス基板１の端面に、遊離砥粒を含有した研磨液５０を供給するとともに、表面が隙間なく密集した回転ブラシ４を回転させながら接触させて、端面を研磨する工程と、を備える。 （もっと読む）