【課題】 下記１）〜３）を満足するガラスエッチング組成物、ガラスポリッシング加工用組成物及びガラスポリッシング加工方法の提供。
１）研削性の向上： 研削性を高め表面粗さを低くし、電磁変換特性を向上させる。
２）スクラッチの低減： ハードディスク表面上のスクラッチ（傷）を減らし、収率を向上させる。
３）研削クズ除去性の向上： ハードディスク表面上の研削クズ付着量を減らし、収率を向上させる。
【解決手段】 アルカリ化合物と（１）分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有するアルコール、（２）分子中に２個以上のアルコール性水酸基を有するアミン化合物及び（３）リン系キレート剤からなる群より選ばれた少なくとも１種の化合物とを含有する水溶液であることを特徴とするガラスエッチング組成物、これを利用するガラスポリッシング加工用組成物及びガラスポリッシング加工方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表裏面と端面とに連接される境界面の面性状を適切に規定して当該規定を満たさせることにより、強化処理が施されているか否かに拘わらず、ガラス基板の撓みや不当な温度分布に起因する破損の発生を確実に防止すると共に、ガラスパーティクルの問題をも解消する。
【解決手段】ガラス基板１の表面２ａおよび裏面２ｂと、その両面２ａ、２ｂの外周端相互間に存する端面３との間に存する少なくとも一方の境界部に、面取り面４を形成すると共に、その面取り面４における二乗平均平方根粗さＲｑを、０．３μｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】局所表面加工後の研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持又は向上させつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善することができ、高平坦度と高平滑性を実現する方法を提供する。
【解決手段】マスクブランクス用のガラス基板１の被測定面および裏面の凹凸形状と板厚ばらつきを測定する凹凸形状測定工程と、前記測定結果にもとづいて、表面加工を施すことにより、前記被測定面および裏面の平坦度と板厚ばらつきを所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、表面加工の施された前記ガラス基板１の表面を基板押圧手段６７により研磨布６１に押圧しつつ、回転させて研磨する際、前記ガラス基板１の表面における押圧力分布が均一となるように、前記ガラス基板１を研磨布６１に押し当て、かつ、研磨布押圧手段６７が、前記ガラス基板１の外周部近傍の前記研磨布６１を押圧しながら、前記ガラス基板１を研磨する研磨工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
ＦＰＤの薄型化を可能にする実用的な技術を提供する。
【解決手段】
一対のガラス基板１の一方に電極を形成してガラス基板をシール材を介して貼り合わせ、内部を封止した後、ガラス基板の外面をエッチング研磨して厚さを薄くする。ノズルに対して相対的にガラス基板を移動させながら、酸性弗化アンモニウムを主成分とする溶出液をノズルからガラス基板の外面に向けて静かに噴射する。溶出液は重力のみによる加速度により、０．５ｋｇ／ｃｍ^２以下の圧力でガラス基板外面に吹き付ける。外面は溶出液により溶出され、溶出液の化学的作用を利用して外面が研磨される。 （もっと読む）

【課題】ガラスを研磨する際に傷の発生を抑制しながらも研磨に必要な時間の長大化を抑制することができる研磨方法を提供する。
【解決手段】研磨対象のガラス基板に対し、まず、陽電子消滅ガンマ線測定により、表面近傍の欠陥分布の検査を行う。次に、ガラス基板の表面に、ガスクラスタイオンを照射することによりガラスを劣化させた脆性層、又は柔軟な物質で表面を被覆した被覆層からなる緩衝層を生成する。次に、陽電子消滅ガンマ線測定により、生成した緩衝層の厚みを測定する。次に、ガラス基板の表面を洗浄する。次に、ガラス基板を研磨する研磨具上に、スラリーの砥粒を均一に散布し、更にスラリーの液体成分を加えてスラリーを生成する。次に、生成したスラリーを用いて緩衝層の上からガラス基板の化学機械研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク形状の補正機能を備えた露光装置に対応した平坦度を持つマスクブランク用基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明においては、基板の主表面における実測領域内のチャック前主表面形状を測定し、基板のチャック前主表面形状とマスクステージの形状に基づいて、基板から作製されたフォトマスクを露光装置にセットしたときにおける基板のチャック後主表面形状をシミュレーションにより得て、基板について、チャック後主表面形状の補正領域内で第１の方向に沿う断面形状に近似する第１近似曲線を算出し、第１近似曲線から近似曲面を算出してチャック後主表面形状から差し引く補正を行い、補正後主表面形状を算出し、補正後主表面形状の補正領域内での平坦度が、所定閾値以下であるものを選定する。 （もっと読む）

【課題】大型ガラス基板同士を貼り合わせてパネルとしなくても、機能層を形成した後の大型ガラス基板に対して薄手化および切断を行なうことができるとともに、大型ガラス基板を切断して得た電気的固体装置用基板を容易に回収することのできる電気的固体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】機能層２９を形成した大型ガラス基板２００の一方面２００ａを一方面側保護層２８０で覆った状態でエッチングを行い、大型ガラス基板２００を薄手化した後、大型ガラス基板２００を切断する。一方面側保護層２８０は、有効領域２００ｅを外周側で囲む周辺領域２００ｆを避けて有効領域２００ｅを覆う第１保護層２８１と、第１保護層２８１および周辺領域２００ｆを覆い、周辺領域２００ｆに密着する第２保護層２８２とを備えており、第１保護層２８１は、大型ガラス基板２００に対する粘着性が弱い。 （もっと読む）

【課題】複数バッチの研磨加工を行っても加工レートの低下を抑制できるガラス基板の研磨方法を見いだし、次世代のハードディスク用ガラス基板に求められる、機械的強度が高いガラス基板を低コストかつ高精度の形状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】被加工物としてのガラス板を上定盤と下定盤との間に研磨パッドを介して保持し、研磨パッドとガラス板を相対移動させて該ガラス板を研磨する方法であって、タンクに貯留された砥粒を含む研磨液を循環供給しながら研磨を行う通常研磨工程と、砥粒を含む研磨液の循環供給を停止し、砥粒を含まないリンス液を供給しながら前記研磨パッドとガラス板を相対移動させるリンス工程と、を含み、前記リンス工程に使用したリンス液のすくなくとも一部を、前記砥粒を含む研磨液の前記タンクへ供給することを特徴とするガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、最大板厚偏差に優れるガラス基板を研削するガラス基板の研削方法と、該研削方法を用いた工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、ガラス基板を研削する前の両面研削装置の上定盤の研削面と下定盤の研削面の形状を、内周端における上定盤の研削面と下定盤の研削面との差をＤｉｎとし、外周端における上定盤の研削面と下定盤の研削面との差をＤｏｕｔとしたとき、ＤｏｕｔからＤｉｎを引いたΔＤ（＝Ｄｏｕｔ−Ｄｉｎ）が−３０μｍ〜＋３０μｍとしたことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】主表面の表面凹凸を抑制した磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法及び磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造するとき、溶融ガラスあるいは軟化したガラスをプレス成形することにより、主表面が磁気ディスク用ガラス基板における目標平坦度を有し、主表面の粗さが０．０１μｍ〜１０μｍである表面凹凸と、ヘイズ率が２０％以上の光学特性とを有する板状ガラス素材を成形し、前記表面凹凸および前記表面特性を有する前記板状ガラス素材を、固定砥粒を用いて研削する。その後、前記固定砥粒を用いて研削した前記主表面の表面凹凸を有する前記板状ガラス素材を、遊離砥粒を用いて研磨する。 （もっと読む）

【課題】 表面にキズがある素ガラス状態のガラス基板を、フォトマスクの基材として適用できる素ガラス状態のガラス基板として生成する、フォトマスク用ガラス基板生成方法を提供する。特に、フォトマスクやフォトマスク作製途中の基板におけるガラス基板の表面にキズがある場合において、フォトマスク作製用の素ガラス状態のガラス基板として再生する際に、再生された素ガラスの品質を維持しつつ、生産性を向上する。
【解決手段】 順に、（ａ）前記表面のキズの深さを測定する工程と、（ｂ）縦軸ロータリー研削加工方法により、キズを取るための全面研削を行う研削工程と、（ｃ）鏡面仕上げとするためのポリッシング工程とを、行う。 （もっと読む）

【課題】 合成石英からなるフォトマス用のガラス基板や該ガラス基板を用いたフォトマスクにおいて、ガラス基板の周辺部にひび、欠けの欠陥部が生じた場合に、該欠陥部を修正でき、且つ、フォトマスクの仕様であるフラットネスを確保できる方法を提供する。
【解決手段】 順に、（ａ）ガラス基板の前記欠陥部にガラス基板とは別の合成石英を溶融して欠陥部を埋める溶接をし、且つ、溶接部が盛り上がるようにする処理を行う、補修処理と、（ｂ）ガラス基板の前記補修処理における処理領域を、部分的に加熱によりアニールして、該処理領域の残存応力をとるアニール処理と、（ｃ）前記補修処理において盛り上がった溶接部を削って外形を整える整形研磨処理と、（ｄ）端面、表裏の各面に対して、それぞれ、各面の未修正部に合わせて研磨を行う、研磨処理とを、有する。 （もっと読む）

【課題】近接場光エッチングを実行しつつ、リアルタイムで表面粗さを計測する。
【解決手段】原料ガス雰囲気中に光学素子２を配置し、原料ガスのガス分子の吸収端波長よりも長波長からなる光を光学素子２に照射することにより、当該光学素子２表面に形成された凹凸における少なくとも角部に発生させた近接場光に基づいて上記原料ガスを解離させて上記角部をエッチングし、更にエッチング中に光学素子２表面に対して表面粗さ計測用のレーザ光を照射し、そのレーザ光が光学素子２表面で散乱された散乱光の強度を測定し、測定した散乱光強度に基づいて角部へのエッチングによる表面粗さを計測する。 （もっと読む）

【解決手段】フォトマスクの保持部が位置する正方形形状の基板の表面の周縁をなす辺のうち対向する２辺の各々の辺から内側２ｍｍと１０ｍｍの間で、かつ各々の辺の長さ方向両端から２ｍｍの部分を除いた範囲に位置する二つの帯状領域において、任意の共通基準平面から各帯状領域内の各座標への距離に基づき算出される二つの最小自乗平面の法線同士がなす角度が１０秒以下であり、二つの帯状領域の高さが０．５μｍ以下であることを特徴とするフォトマスク用ガラス基板。
【効果】ＩＣ等の製造の際に重要な光リソグラフィ法で使用されるシリカガラス系等のフォトマスク用ガラス基板において、フォトマスク露光時のマスクステージにフォトマスクを真空チャック等により固定したときのフォトマスクの全体の表面形状変化が抑制されたガラス基板を、従来の検査工程と同様の工程で生産性よく提供することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表裏面と端面とに連接される境界面の面性状を適切に規定して当該規定を満たさせることにより、強化処理が施されているか否かに拘わらず、ガラス基板の撓みや不当な温度分布に起因する破損の発生を確実に防止すると共に、ガラスパーティクルの問題をも解消する。
【解決手段】ガラス基板１の表面２ａおよび裏面２ｂと、その両面２ａ、２ｂの外周端相互間に存する端面３との間に存する少なくとも一方の境界部に、面取り面４を形成すると共に、その面取り面４における最大谷深さＲｖを、２．０μｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】片面のみに磁性層を備える磁気ディスク用ガラス基板を効率よく加工することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融又は軟化したガラスをプレス成形することにより、表面粗さＲａが０．０１μｍ以上１０μｍ以下である第１主表面と、表面粗さＲａが０．００５μｍ以下である第２主表面と、を備え、かつ、磁気ディスク用ガラス基板として必要な平坦度を有するガラスブランクを成形するガラスブランク成形工程と、ガラスブランクの第１主表面のみを加工する表面加工工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】片面のみに磁性層を備える磁気ディスク用ガラス基板を効率よく加工することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】溶融したガラスを切断してプレスされたガラスブランクを用いて、磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、表面粗さＲａが０．０１μｍ以上１０μｍ以下である第１主表面と、シアマークを備える第２主表面と、を備え、かつ、磁気ディスク用ガラス基板として必要な平坦度を有するガラスブランクを成形するガラスブランク成形工程と、ガラスブランクの第１主表面のみを加工する表面加工工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】（１）合成石英ガラス基板を、コロイド粒子、該コロイド粒子と同符号の電荷を帯びたイオン性有機化合物及び水を含む研磨液により研磨する工程と、（２）研磨した基板を、酸性溶液又は塩基性溶液に浸漬し、該基板表面を０．００１〜１ｎｍエッチングする工程とを含む合成石英ガラス基板の製造方法。
【効果】本発明によれば、ＩＣ等の製造に重要な光リソグラフィー法において使用されるフォトマスク基板用合成石英ガラス基板や、ナノインプリント用途向け等の合成石英ガラス基板の製造において、合成石英ガラス基板表面の高感度欠陥検査装置で検出される欠陥の生成が抑制され、良好な面粗度が得られることにより、半導体デバイス製造等において歩留まりの向上が期待され、かつ半導体工業の更なる高精細化につなげることができる。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】コロイダルシリカ、複素環内に窒素原子を２個以上含む複素環芳香族化合物、酸、酸化剤及び水を含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記コロイダルシリカは、ΔＣＶ値が０〜１０％であり、ＣＶ９０が１〜３５％であり、かつ、平均粒径が１〜４０ｎｍである磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】固定砥粒の性能を十分に引き出して効率的にガラス基板の製造を可能とするガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の主表面を研削するラッピング工程と、ラッピング工程後、ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程と、を備えたガラス基板の製造方法であって、ラッピング工程は、遊離砥粒又は固定砥粒を用いてガラス基板の主表面を研削する１次ラッピング工程と、１次ラッピング工程における遊離砥粒又は固定砥粒の粒径よりも小さい粒径の固定砥粒を用いてガラス基板の主表面を研削する２次ラッピング工程と、１次ラッピング工程後、２次ラッピング工程前に、ガラス基板の主表面を超音波洗浄、スクラブ洗浄及び酸洗浄の少なくとも１つにより洗浄する洗浄工程と、を備える。 （もっと読む）