【課題】可視光をよく透過し、紫外光と電磁波をよく遮蔽するガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス基板２の表面に、透明導電性物質に強磁性物質が１０ａｔｍ％以下ドープされルチル構造をとる透明電磁波吸収膜３を設けた。 （もっと読む）

【課題】透明性と導電性に優れ、かつ耐久性にも優れた、特にタッチパネルに適した透明導電性基材を提供すること。
【解決手段】基材、下地膜及び透明導電膜がこの順で積層されてなる透明導電性基材であって、前記透明導電膜の原子間力顕微鏡による平均面粗さ（Ｒａ）が１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする透明導電性基材。このような透明導電膜の表面形状を呈するためには、下地膜として酸化亜鉛又は酸化第二スズを特定の条件で成膜するのが好ましい。また透明導電性基材には、酸化ケイ素膜などをさらに積層してもよい。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板の基板表面に成膜される透明電極を基板表面に堅固に接着させることができ、透明電極の剥離欠損の発生を抑制できるフラットディスプレイ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 少なくとも透明電極が成膜される基板表面の算術平均粗さＲａとその平均長さＲＳｍが、０．４≦Ｒａ／ＲＳｍ≦１．２である。 （もっと読む）

【課題】静電気によるトナーや紙粉等のほこりが付着し難くく、且つ高耐久性の読取用の透明部材を提供する。
【解決手段】搬送原稿を光学的に読み取る画像読取装置の、光源と原稿との間に位置する透明部材であって、透明部材の原稿と接する面（通紙面）と反対の面に透明導電膜が形成されており、かつ、透明導電膜に表面抵抗が異なる領域が存在することを特徴とする透明部材。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１，５００〜２，５００ｎｍの波長域からなる近赤外線に対して優れた熱線反射性能を有するとともに、安価にかつ安定して供給可能な材料からなる薄膜を備えた熱線反射ガラスを提供する。
【解決手段】本発明に係る熱線反射ガラスは、ガラス部材からなる被処理体の一方又は両方の面に、波長２０００ｎｍの近赤外線に対して３０％以上の反射率を有するフッ素添加酸化スズ膜（ＦＴＯ膜）からなる透明導電体を配したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高透過であって低コストで量産できる導電膜付きガラス板を提供する。
【解決手段】シリカを主成分とし、着色成分として、重量％で表示して、０．０２〜０．０６％（０．０６％を含まず）のＦｅ₂Ｏ₃に換算した全酸化鉄（Ｔ−Ｆｅ₂Ｏ₃）、０．０２４％より少ないＦｅＯ、および０〜０．５％のＣｅＯを含有し、０．０２〜０．２％（０．２％を含まず）のＴｉＯ₂を含有し、且つＦｅ₂Ｏ₃に換算したＦｅＯのＴ−Ｆｅ₂Ｏ₃に対する割合が４０％未満である組成からなり、３．２ｍｍの厚みにおいて、日射透過率が８７．５％以上、Ｃ光源を用いて測定した可視光透過率が９０％以上であるガラス板が、互いに平行な一対の主表面を有し、主表面の一方に３層構造の透明導電膜が形成され、主表面の他方に反射抑制膜が形成されており、反射抑制膜が急冷工程を含む方法により形成され、ガラス板が前記急冷工程により強化されている導電膜付きガラス板とする。 （もっと読む）

【課題】 面積の大きな基板に対しても均一にミストを噴霧して、形成される膜の厚さを均一にすることを可能とした成膜装置を提供すること。
【解決手段】 スプレー熱分解法により被処理体の一面上に薄膜を形成する成膜装置であって、前記被処理体を載置する支持手段と、前記被処理体の一面に向けて、前記薄膜の原料溶液からなるミストを噴霧する吐出手段と、を少なくとも備え、前記吐出手段が備えるノズルは、ミスト搬入側となる第一の部位と、ミスト吐出側となる第二の部位とを有し、前記ノズル中を移動するミストの面速は、第一の部位における面速をＶ_１ とし、第二の部位における面速をＶ_２ としたとき、Ｖ_２ ＞１．５×Ｖ_１ である。 （もっと読む）

【課題】 噴霧されたミストの流れを制御することにより、基板上の熱拡散を抑制して、形成される膜の厚さを均一にすることを可能とした成膜装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の成膜装置は、スプレー熱分解法により被処理体の一面上に薄膜を形成する成膜装置であって、前記被処理体を載置する支持手段と、前記被処理体の一面の中心域に向けて、前記薄膜の原料溶液からなるミストを噴霧する吐出手段と、前記被処理体の近傍に排気口を配してなる排気手段と、を少なくとも備え、前記吐出手段は、その吐出口を前記被処理体の一面の中心付近で、その上方近傍に配置してなり、前記排気手段は、前記吐出口から噴霧されたミストを、前記被処理体の一面近傍を漂うように誘導することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 導電膜内の抵抗分布幅の小さい導電膜付き車載用ガラスを安価で提供することができる色素増感太陽電池用導電膜付き車載用ガラスの曲げ成形方法を提供する。
【解決手段】 曲げ成形方法において、曲げ加工する前に、ガラス板１１１に一定の膜厚で導電膜１１２を形成して導電膜付ガラス板１１０を用意し、一対の導電膜付ガラス板１１０を導電膜１１２が互いに対向して直接接触するように重ね合わせ、これを曲げ型に載置して加熱して所望の形状に曲げ加工する。 （もっと読む）

【課題】導電性がよく、近赤外線による撮影が可能となる透明導電膜を提供する。
【解決手段】ガラス基板１０上に設けた金属酸化物または金属窒化物よりなる透明導電層１２と、透明導電層１２に接触して設けられ、透明導電層１２よりも比抵抗が低い金属よりなり、互いに電気的に接続されていて、かつ、所定の間隙を有するように複数配列された金属薄膜１１と、を有することを特徴とする透明導電膜。 （もっと読む）

薄層の積重ねで被覆された透明ガラスタイプの支持体が記載され、それは少なくとも一つの酸化チタンベースのアンダー層及び酸化錫ベースの主層を含み、被覆された支持体は低い放射率又は好ましい電気伝導性を示しながら極めて低い曇り度を有する。熱分解によって付着された層で被覆された支持体の製造方法もまた記載される。 （もっと読む）

【課題】 読み取りガラスにトナーやほこり、粘着剤等が付着し難く、これにより黒点、黒筋などの複写画質の低下が防止できるスキャナーや複写機用の読み取り用ガラス部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 原稿を光学的に読み取るスキャナーの光源と原稿との間に位置するガラス部材の製造方法であって、ガラス基材表面の元素組成がＳｎ３ａｔｍ％以下であり、かつ該ガラス基材表面を活性化処理した後、フッ素原子を含有する低摩擦防汚膜を塗設することを特徴とするガラス部材の製造方法。 （もっと読む）

物品は、第一基体、前記基体の少なくとも一部分を覆って堆積した機能性被覆、及び前記機能性被覆を覆って堆積した保護被覆を含む。機能性被覆及び保護被覆は被覆積層体を定める。重合体材料を、保護被覆の少なくとも一部分を覆って堆積する。保護被覆は、重合体材料の屈折率と実質的に同じ屈折率を有する。
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【課題】 プラズマスパッタ蒸着による、ガラス基板上への透明なかつ導電性に優れた薄膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 圧力：３×１０^−５Ｐａ以下の真空容器中に、周期表における０族の元素でアルゴン以上の元素の少なくとも１種からなる不活性ガスを０.７×１０^−１Ｐａ〜１.８×１０^−１Ｐａの圧力となるまで導入し、該不活性ガスに０.６％〜１％の水素および／または重水素を含有せしめた雰囲気下に、アルカリフリーガラス基板をターゲットに対向配置しプラズマ内で電気的にフローティング状態として、金属フィラメントの存在下に低ガス圧プラズマスパッタ法によって基板上に１００ｎｍ以上の厚さの高機能透明導電性薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、透明性、緻密性、密着性等に優れた金属酸化物膜を得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】 本発明は、スプレー装置により、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を霧化し、霧化された上記金属酸化物膜形成用溶液と、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材とを接触させることにより、上記基材上に金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記スプレー装置が、上記金属酸化物膜形成用溶液を霧化するためにエアーを使用しない方式の装置であることを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

本発明は光透過性および導電性がバランス良く改善された透明導電性基板を提供する。本発明による透明導電性基板は、透明な基体と、この基体上に形成された導電性の金属酸化物膜とを含み、この金属酸化物膜は錫およびフッ素を含有する。この金属酸化物膜をＳＩＭＳにより測定した深さ方向プロファイルにおいて、錫の感度に対するフッ素の感度の比の最大値Ｉｍａｘから最小値Ｉｍｉｎを引いた値は０．１５以上であり、Ｉｍａｘは１よりも大きく、Ｉｍｉｎは１よりも小さい。また、Ｉｍａｘを示す位置はＩｍｉｎを示す位置よりも金属酸化物膜の表面に近い。
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【課題】高度な構造制御を施して優れた調光特性を付与した高断熱自動調光ガラス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材に、二酸化バナジウム調光層の結晶構造と同じ、又はそれに近い結晶構造を持つ透明導電体薄膜等の物質を構造テンプレート層として、また、両層の界面に傾斜構造及び／又は多層構造を形成することによって結晶構造を高精度に制御して、二酸化バナジウム調光層を形成した高断熱自動調光ガラス、及びその製造方法。
【効果】大面積で、光学的に均一な二酸化バナジウム調光膜を、スパッタ法等により、低温（１５０℃）で形成することが可能である。 （もっと読む）

【課題】透明導電性物質層をイオンビームアシスト真空蒸着法によって成膜する場合、厳密な成膜速度の制御が難しいため、安定して高い導電性を得ることが難しかった。
【解決手段】イオンビーム量を、透明導電性物質層が着色しない範囲で連続的に変化させることで屈折率傾斜膜として、一つの透明導電性物質層の中に、最適な成膜速度とイオンビーム量の関係で成膜された膜厚部分を作ることを特徴とする光学薄膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】レーザー光線照射による透明導電膜パターン形成（トリミング）やレーザー焼成が可能な透明導電膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】 アセチルアセトンインジウム、ドーパント用有機金属化合物、セルロース誘導体、アルキルフェノール及び／又はアルケニルフェノールと、二塩基酸エステル及び／又は酢酸ベンジルからなる溶液に有機色素を溶解させて透明導電膜形成用塗布液を得る。この塗布液を基板上に塗布、乾燥させた後、必要に応じレーザー光線照射によるトリミングを行い、４００℃以上の温度で焼成、又はレーザー焼成して透明導電膜パターンを形成する。 （もっと読む）

錫化合物とインジウム化合物を含有した原料混合溶液とアルカリ溶液とを反応させると共に継続的に撹拌しながら熟成させて沈殿物を得る工程と、前記沈殿物をデカンテーションにより洗浄し、乾燥してインジウムと錫とから成る水酸化物あるいは水和物粉末を得る工程と、この水酸化物あるいは水和物粉末を不活性ガス若しくは不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で１２００℃以上で焼成してＩｎ_４Ｓｎ_３Ｏ_１２複合酸化物微粒子を得る工程とを具備する方法により従来のＩＴＯ等に比べて安価且つ簡便に製造することが可能になり、平均１次粒子径４００ｎｍ以下、かつＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における粉体色Ｌ^＊が３０〜７０、ａ^＊が−９．０〜−０．１、ｂ^＊が−１５．０〜４．０である日射遮蔽用Ｉｎ_４Ｓｎ_３Ｏ_１２複合酸化物微粒子を得ることが出きる。 （もっと読む）