【課題】
【解決手段】本発明は、放射制御コーティングを提供する。このコーティングは、その上を酸素遮断膜で覆われた透明導電膜を含む。幾つかの実施の形態においては、透明導電膜は、酸化インジウムスズを含有し、酸素遮断膜は、窒化ケイ素を含有する。 （もっと読む）

【課題】生産効率の向上を図ることができ、かつ、均一な形状であってガラスの強度が強化され、ケースへの組み込みが容易なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】マザー基板６に化学強化処理を施すことにより、表面に１５〜５０μｍの厚さの圧縮応力層を形成し、前記マザー基板６の少なくとも一方の面に所望の加工処理を行った後、前記マザー基板６を仮想の切断線１０に沿って個片のガラス基板１に切断することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、広い面積にわたって電気的に加熱可能な透明窓ガラス（１）であって、
透明基板（２）上に付着される、導電性、透明の広い面を有する被膜（３）と、
導電性透明被膜（３）と電気的に接続される少なくとも２つの集電帯（４）と、
被膜（３）のない少なくとも１つの局所的に範囲を定められた領域（５）とを含み、
２つの電極（８．１）、（８．２）を有する少なくとも１つの発熱導体（８）が、被膜のない領域（５）内に付着され、第１の電極（８．１）が、導電性透明被膜（３）と電気的に接続され、第２の電極（８．２）が、導電性透明被膜（３）または集電帯（４）と電気的に接続される、透明窓ガラス（１）に関する。
さらに本発明は、その製造方法およびその使用に関する。
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本発明は、処理室と一つのＶＨＶ／ＨＦ変成器を含む、フィラメント状プラズマの発生を可能にする誘電体バリア放電によって基板の表面を被覆するための装置であって、処理室が、プラズマと接触すると分解して基板上にほとんど又は完全に膜として蒸着されることができる種を発生するような組成を有する混合物を含み、処理室では少なくとも二つの電極が置かれ、そして基板の各側上に配置され、それらの電極の一つに高ＡＣ電圧が付与され、これらの少なくとも二つの電極の間に少なくとも一つの誘電体バリア（ＤＢＤ）が置かれ、ＶＨＶ／ＨＦ変成器が二次回路を含み、二次回路にはＤＣ電流の電源が、電気的に正又は負のイオンの形態のプラズマ中に発生される化学種が、処理室に導入されかつ少なくとも二つの電極の間に置かれるターゲット基板によって選択的に誘引され、対応する電荷を持つ電極によって反発されるように、二次回路に直列に挿入されることを特徴とする装置に関する。 （もっと読む）

基板と、該基板の表面に隣接した、３５以上の電子移動度（ｃｍ^２／Ｖ−ｓ）を有する導電性金属酸化物膜とを備える物品が説明される。導電性金属酸化物膜を備える光起電装置も説明される。
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バス・バー・システムは主要面を有する非導電性基板を備える。少なくとも１つの導電バス・バーが主要面の少なくとも一部分を覆って形成されている。導電コーティングがバス・バーの少なくとも一部分及び主要面を覆って形成されている。等方的導電性テープ又は薄膜などの導電性接着材が薄膜／バス・バー連結部の少なくとも一部分を覆って貼付されている。該システムは等方的導電性接着材に接着された導電性金属薄片を任意選択的に備え得る。
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【課題】熱線遮蔽性に優れ、高い可視光透過率を有し、低コストで製造可能であり、且つ耐候性が高い熱線遮蔽ガラス及びこの熱線遮蔽ガラスを用いた複層ガラスを提供する。
【解決手段】表面に、導電性高分子からなる熱線反射層２４が形成され、且つ導電性高分子以外の熱線遮蔽剤及びバインダを含む樹脂組成物からなる熱線遮蔽層２５が形成されており、前記熱線遮蔽剤が、最表層として形成されている熱線遮蔽ガラス及びこれを用いた複層ガラス。 （もっと読む）

フュージョン成形可能な、高歪み点のナトリウム不含有のケイ酸塩、アルミノケイ酸塩およびアルミノホウケイ酸塩ガラスの組成範囲がここに記載されている。このガラスは、光起電装置、例えば、ＣＩＧＳ光起電装置などの薄膜光起電装置のための基体として使用できる。これらのガラスは、５４０℃以上の歪み点、６．５から１０．５ｐｐｍ／℃の熱膨張係数、並びに５０，０００ポアズ超の液相線粘度を有するものとして特徴付けられる。それゆえ、そのガラスは、フュージョン法により板に成形するのに理想的に適している。 （もっと読む）

【課題】 透明かつ低比抵抗の薄膜積層体を提供すること。
【解決手段】 基板上に成膜したＺｎＯ薄膜層、その上に成膜した金属ナノ粒子層、更にその上に成膜したＺｎＯ薄膜層からなる薄膜積層体であって、結晶質である２つのＺｎＯ薄膜層が挟んだ金属ナノ粒子層は金属ナノ粒子を連結した金属ナノ層からなる構造をしており、比抵抗が８．０×１０^-４Ωｃｍ以下であり、かつ可視光透過率が７０％以上の薄膜積層体を得た。本発明の薄膜積層体は、透明導電膜、太陽光発電電極、電磁波シールド材等として使用できる。 （もっと読む）

【課題】 表面に透明導電膜が形成されたガラスを、容易に、必要な部分を強化することができる、ガラス基板の強化方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板上に透明導電膜を形成するステップと、前記ガラス基板上に前記透明導電膜を形成した後に、該ガラス基板に吸収される波長を有するレーザー光の走査照射により、ガラス基板表層のガラス強化所望領域を加熱して熱変性層を形成する加熱ステップと、前記熱変性層が形成されたガラス基板を冷却する冷却ステップと、を有することとした。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つまたはそれ以上の液体原材料を使用してガラス（２）をコーティングするプロセスおよび装置に関する。液体原材料は、本質的にガラス方面の少なくとも一部上で反応し、コーティングをそこに形成する。液体原材料の少なくとも一部は、１つまたはそれ以上の２流体アトマイザで飛沫（１７）に霧化される。１つまたはそれ以上の２流体アトマイザで使用されるガスの少なくとも一部は帯電させられ、飛沫（１７）の少なくとも一部は、霧化の間またはその後に帯電させられる。本発明によれば、飛沫（１７）は、別個に形成される電場内に形成される。 （もっと読む）

ドロー中、例えばフュージョンドロー中またはファイバードロー中に、ガラス基板を被覆する方法が記載される。被覆は、導電被覆であり、透明でもよい。導電薄膜で被覆されたガラス基板は、例えば、ディスプレイ装置、太陽電池用途および多くの他の急伸する産業および用途において使用できる。
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【課題】酸化物半導体層が剥離しにくい色素増感型太陽電池用基板、および当該色素増感型太陽電池用基板を用いた色素増感型太陽電池用酸化物半導体電極を提供する。
【解決手段】透明導電膜がガラス基板上に形成されてなり、当該透明導電膜上に酸化物半導体層を形成して用いられる色素増感型太陽電池用基板であって、ガラス基板の熱膨張係数が５０〜１１０×１０^−７／℃であることを特徴とする色素増感型太陽電池用基板。 （もっと読む）

【課題】ＦＴＯ膜またはＡＴＯ膜の成膜時に変形が生じにくい太陽電池用導電膜付ガラス基板を提供する。
【解決手段】０．０５〜２ｍｍの厚みを有するガラス基板上にフッ素ドープ酸化スズまたはアンチモンドープ酸化スズからなる導電膜が成膜されてなる太陽電池用導電膜付ガラス基板であって、ガラス基板の歪点が５２５℃以上であることを特徴とする太陽電池用導電膜付ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】可視光領域での透過率が高く、化学的に安定であり、高い導電性を有した透明導電性基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明性基板の表面に、金ナノ粒子が線状に配列して成長した金ナノワイヤーから成る膜を有する本発明の透明導電性基板を製造するには、不活性ガス雰囲気下にて基板の表面に、アミノ基あるいはチオール基を有した化合物を用いて、それらの表面基を導入した後、得られた処理基板を、金イオンあるいは金の錯体イオンを含む溶液中に所定時間浸漬させて金イオンあるいは金の錯体イオンを処理基板表面基に吸着させ、その後、還元性溶液中に浸漬させて処理基板表面基の金イオンあるいは金の錯体イオンを還元させ、処理基板表面に金ナノ粒子を付着させ、最終工程で、前記処理基板を、金イオンあるいは金の錯体イオンを含む溶液中に浸漬させ、還元性溶液を添加し、所定時間後に取り出す。 （もっと読む）

【課題】酸素存在雰囲気下において熱処理した後であっても酸化せず低抵抗で、熱線反射性および電磁波シールド性がより高くなり、さらに耐擦傷性に優れる透明導電ガラス基板が得られる製造方法の提供。
【解決手段】ガラス基板上に、透明導電性金属酸化物からなる層（Ａ）、金属および／または金属窒化物からなる厚さ０．２５〜１０ｎｍの層（Ｂ）および金属酸化物からなる厚さ１０ｎｍ以上の層（Ｃ）をこの順で形成してコーティング付きガラス基板を得るコーティング工程と、前記コーティング付きガラス基板を、５５０〜７５０℃の大気中で１〜３０分間熱処理する熱処理工程とを具備する、透明導電ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】太陽電池の光電変換層への入射光量を多くするために、光閉じ込め効果を発揮するための最適な凹凸形状を備え、かつ、可視光短波長域の吸収が少ない透明導電膜を備える基板を提供する。さらには、その基板を用いた光電変換装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板は、アルカリ成分を含むガラス板と、ガラス板上に形成され、（i）３５〜１００ｎｍの範囲の膜厚を有し、主成分としての酸化スズを含む第１下地層と、（ii）第１下地層上に形成され、５〜５０ｎｍの範囲かつ第１下地層よりも薄い膜厚を有する非晶質の第２下地層とを含む、凹凸を有する下地膜と、下地膜上に形成され、１０〜２５０ｎｍの範囲の膜厚を有し、主成分として酸化スズを含むノンドープのバッファ層と、バッファ層上に形成され、主成分として酸化スズを含むドープされた透明導電膜と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】フロート法によるガラス板製造ラインの工程に適合するガラス表面の加工方法を用いることにより、表面に凹凸を有するガラス板を効率的に製造する。
【解決手段】溶融したガラス原料を金属浴５上でガラスリボン１０へと成形するフロート法によりガラス板を製造するに際し、金属浴５よりもガラスリボン１０の搬送下流側に配置したロール７とガラスリボン１０との接触により、ガラスリボン１０のボトム面に凹凸を形成する。ガラスリボン１０のトップ面には、適宜、コータから供給される混合ガスを原料とするＣＶＤ法により被膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】陽極と正孔輸送層との間のエネルギー障壁の差を小さくした有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極用透明導電膜を提供すること。
【解決手段】酸化インジウムと酸化亜鉛またはこれらと酸化錫を、それらの金属原子比において、Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ＋Ｓｎ）＝０．８０〜１．００、Ｚｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ＋Ｓｎ）＝０．０５〜０．２０、Ｓｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ＋Ｓｎ）＝０．００〜０．２０の割合で含有し、かつ全金属原子に対して０．５〜１０原子％の含有率で酸化ルテニウム、酸化モリブデンおよび酸化バナジウムから選択される金属酸化物を含有する組成物からなり、仕事関数が５．４５〜５．５５エレクトロンボルトである有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極用透明導電膜。 （もっと読む）